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임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자

  • 기술번호 : KST2023009173
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 초음파 기반 마찰전기 에너지 발전 소자와 회로 간의 임피던스 매칭을 통해 회로의 구동 안정성을 확보할 수 있는 기술에 관한 것이다. 본 발명은 초음파 기반 마찰전기 에너지 발전 소자의 에너지 전달 효율을 높이기 위하여, 전력관리 회로를 안정적으로 구동하기 위한 발전 소자와 회로 간의 임피던스 매칭 기술을 제안함으로써 종래기술이 가지고 있는 한계를 극복하고 나아가 새로운 방식을 제시하고자 한다.
Int. CL H02N 1/04 (2006.01.01) C08K 3/22 (2006.01.01) C08L 27/16 (2006.01.01) C08L 27/18 (2006.01.01)
CPC H02N 1/04(2013.01) C08K 3/22(2013.01) C08L 27/16(2013.01) C08L 27/18(2013.01)
출원번호/일자 1020220043510 (2022.04.07)
출원인 성균관대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2023-0144358 (2023.10.16) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2022.04.07)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김영준 대전광역시 유성구
2 김상우 경기도 용인시 수지구
3 황준하 경기도 수원시 장안구
4 정영욱 경기도 수원시 장안구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 차상윤 대한민국 서울 영등포구 경인로 *** (문래동*가) *동 ***호(엔씨국제특허법률사무소)
2 박종수 대한민국 서울특별시 금천구 가산디지털*로 ***, 비동****호(가산동,한라원앤원타워)(특허법인 태백)
3 남건필 대한민국 서울 영등포구 경인로 *** (문래동*가) *동 ***호(엔씨국제특허법률사무소)
4 박상열 대한민국 서울 금천구 가산디지털*로 *** **층 ****호(나눔국제특허법률사무소)
5 최내윤 대한민국 서울 금천구 가산디지털*로 *** 월드메르디앙*차 **층 ****호(나눔국제특허법률사무소)
6 정우상 대한민국 서울 금천구 가산디지털*로 *** **층 ****호(나눔국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2022.04.07 수리 (Accepted) 1-1-2022-0374217-79
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2023.01.25 1-1-2023-0091285-93
3 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2023.01.27 수리 (Accepted) 1-1-2023-0097556-01
4 [반환신청]서류 반려요청서·반환신청서
2023.01.27 수리 (Accepted) 1-1-2023-0097513-48
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2023.08.18 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
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번호 청구항
1 1
마찰전기 발전소자 및 전력 관리 회로를 포함하고,상기 마찰전기 발전소자는,전도성 물질로 이루어져 제 1 전극 역할을 수행하는 제 1 마찰 대전체층;상기 제 1 마찰 대전체층의 마찰면과 서로 대향하며 이격되어 배치되며 고유전율 세라믹 물질이 고유전율 고분자 물질에 임베딩된 고율전율 나노 복합체로 이루어진 제 2 마찰 대전체층;상기 제 1 마찰 대전체층 및 상기 제 2 마찰 대전체층의 일부 또는 전부를 둘러싸는 외벽부를 포함하고,초음파가 인가되는 경우 상기 제 1 마찰 대전체층 및 상기 제 2 마찰 대전체층은 서로 접촉 및 비접촉을 반복하여 마찰 전기를 발생시키며,상기 고유전율 나노 복합체를 통해 상기 마찰전기 발전소자와 상기 전력 관리 회로와의 임피던스 매칭을 통해 회로의 구동 안정성이 확보되는,임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자
2 2
제 1 항에 있어서,상기 고유전율 세라믹 물질은 Cu3Ti4O12, CaCu3Ti4O12, La2/3Cu3Ti4O12, Sm2/3Cu3Ti4O12, Dy2/3Cu3Ti4O12, Y2/3Cu3Ti4O12, Bi2/3Cu3Ti4O12, BiCu3Ti3FeO12, LaCu3Ti3FeO12, NdCu3Ti3FeO12, SmCu3Ti3FeO12, GdCu3Ti3FeO12 및 YCu3Ti3FeO12를 포함하는,임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자
3 3
제 1 항에 있어서,상기 고유전율 고분자 물질은 PVDF, P(VDF-TrFE), P(VDF-TrFE-CFE), P(VDF-TrFE-CTFE), P(VDF-TFE), P(VDF-HFA), P(VDF-TFE-HFP)를 포함하는,임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자
4 4
제 1 항에 있어서,상기 제 2 마찰 대전체층의 마찰면의 반대면에 제 2 전극을 추가로 포함하는,임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자
5 5
마찰전기 발전소자 및 전력 관리 회로를 포함하고,상기 마찰전기 발전소자는,제 1 마찰 대전체층과 상기 제 1 마찰 대전체층 상의 제 1 전극;상기 제 1 마찰 대전체층의 마찰면과 서로 대향하며 이격되어 배치되며 고유전율 세라믹 물질이 고유전율 고분자 물질에 임베딩된 고율전율 나노 복합체로 이루어진 제 2 마찰 대전체층;상기 제 1 마찰 대전체층 및 상기 제 2 마찰 대전체층의 일부 또는 전부를 둘러싸는 외벽부를 포함하고,초음파가 인가되는 경우 상기 제 1 마찰 대전체층 및 상기 제 2 마찰 대전체층은 서로 접촉 및 비접촉을 반복하여 마찰 전기를 발생시키며,상기 고유전율 나노 복합체를 통해 상기 마찰전기 발전소자와 상기 전력 관리 회로와의 임피던스 매칭을 통해 회로의 구동 안정성이 확보되는,임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자
6 6
제 5 항에 있어서,상기 고유전율 세라믹 물질은 Cu3Ti4O12, CaCu3Ti4O12, La2/3Cu3Ti4O12, Sm2/3Cu3Ti4O12, Dy2/3Cu3Ti4O12, Y2/3Cu3Ti4O12, Bi2/3Cu3Ti4O12, BiCu3Ti3FeO12, LaCu3Ti3FeO12, NdCu3Ti3FeO12, SmCu3Ti3FeO12, GdCu3Ti3FeO12 및 YCu3Ti3FeO12를 포함하는,임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자
7 7
제 5 항에 있어서,상기 고유전율 고분자 물질은 PVDF, P(VDF-TrFE), P(VDF-TrFE-CFE), P(VDF-TrFE-CTFE), P(VDF-TFE), P(VDF-HFA), P(VDF-TFE-HFP)를 포함하는,임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자
8 8
제 5 항에 있어서,상기 제 2 마찰 대전체층의 마찰면의 반대면에 제 2 전극을 추가로 포함하는,임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자
9 9
마찰전기 발전소자 및 전력 관리 회로를 포함하고,상기 마찰전기 발전소자는, 전극 역할을 수행하는 제 1 마찰 대전체층; 및 상기 제 1 마찰 대전체층의 마찰면과 서로 대향하며 이격되어 배치된 제 2 마찰 대전체층이 배치된 구조가 둘 이상 적층된 적층형 구조를 포함하며, 상기 적층형 구조를 일부 또는 전부 둘러싸는 외벽부를 포함하고,초음파가 인가되는 경우 상기 제 1 마찰 대전체층 및 상기 제 2 마찰 대전체층은 서로 접촉 및 비접촉을 반복하여 마찰 전기를 발생시키며,상기 적층형 구조를 통해 상기 마찰전기 발전소자와 상기 전력 관리 회로와의 임피던스 매칭을 통해 회로의 구동 안정성이 확보되는,임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자
10 10
제 9 항에 있어서,상기 제 2 마찰 대전체층은 고유전율 고분자 물질로 이루어져 있으며,상기 고유전율 고분자 물질은 PVDF, P(VDF-TrFE), P(VDF-TrFE-CFE), P(VDF-TrFE-CTFE), P(VDF-TFE), P(VDF-HFA), P(VDF-TFE-HFP)를 포함하는,임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자
11 11
마찰전기 발전소자 및 전력 관리 회로를 포함하고,상기 마찰전기 발전소자는, 전극 역할을 수행하는 제 1 마찰 대전체층; 및 상기 제 1 마찰 대전체층의 마찰면과 서로 대향하며 이격되어 배치된 제 2 마찰 대전체층이 배치된 구조가 둘 이상 적층된 적층형 구조를 포함하며, 상기 적층형 구조를 일부 또는 전부 둘러싸는 외벽부를 포함하고,상기 제 2 마찰 대전체층은 고유전율 세라믹 물질이 고유전율 고분자 물질에 임베딩된 고율전율 나노 복합체로 이루어져 있으며,초음파가 인가되는 경우 상기 제 1 마찰 대전체층 및 상기 제 2 마찰 대전체층은 서로 접촉 및 비접촉을 반복하여 마찰 전기를 발생시키며,상기 적층형 구조를 통해 상기 마찰전기 발전소자와 상기 전력 관리 회로와의 임피던스 매칭을 통해 회로의 구동 안정성이 확보되는,임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자
12 12
제 11 항에 있어서,상기 고유전율 세라믹 물질은 Cu3Ti4O12, CaCu3Ti4O12, La2/3Cu3Ti4O12, Sm2/3Cu3Ti4O12, Dy2/3Cu3Ti4O12, Y2/3Cu3Ti4O12, Bi2/3Cu3Ti4O12, BiCu3Ti3FeO12, LaCu3Ti3FeO12, NdCu3Ti3FeO12, SmCu3Ti3FeO12, GdCu3Ti3FeO12 및 YCu3Ti3FeO12를 포함하는,임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자
13 13
제 11 항에 있어서,상기 고유전율 고분자 물질은 PVDF, P(VDF-TrFE), P(VDF-TrFE-CFE), P(VDF-TrFE-CTFE), P(VDF-TFE), P(VDF-HFA), P(VDF-TFE-HFP)를 포함하는,임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.