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마찰전기 발전소자 및 전력 관리 회로를 포함하고,상기 마찰전기 발전소자는,전도성 물질로 이루어져 제 1 전극 역할을 수행하는 제 1 마찰 대전체층;상기 제 1 마찰 대전체층의 마찰면과 서로 대향하며 이격되어 배치되며 고유전율 세라믹 물질이 고유전율 고분자 물질에 임베딩된 고율전율 나노 복합체로 이루어진 제 2 마찰 대전체층;상기 제 1 마찰 대전체층 및 상기 제 2 마찰 대전체층의 일부 또는 전부를 둘러싸는 외벽부를 포함하고,초음파가 인가되는 경우 상기 제 1 마찰 대전체층 및 상기 제 2 마찰 대전체층은 서로 접촉 및 비접촉을 반복하여 마찰 전기를 발생시키며,상기 고유전율 나노 복합체를 통해 상기 마찰전기 발전소자와 상기 전력 관리 회로와의 임피던스 매칭을 통해 회로의 구동 안정성이 확보되는,임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자
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제 1 항에 있어서,상기 고유전율 세라믹 물질은 Cu3Ti4O12, CaCu3Ti4O12, La2/3Cu3Ti4O12, Sm2/3Cu3Ti4O12, Dy2/3Cu3Ti4O12, Y2/3Cu3Ti4O12, Bi2/3Cu3Ti4O12, BiCu3Ti3FeO12, LaCu3Ti3FeO12, NdCu3Ti3FeO12, SmCu3Ti3FeO12, GdCu3Ti3FeO12 및 YCu3Ti3FeO12를 포함하는,임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자
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3
제 1 항에 있어서,상기 고유전율 고분자 물질은 PVDF, P(VDF-TrFE), P(VDF-TrFE-CFE), P(VDF-TrFE-CTFE), P(VDF-TFE), P(VDF-HFA), P(VDF-TFE-HFP)를 포함하는,임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자
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제 1 항에 있어서,상기 제 2 마찰 대전체층의 마찰면의 반대면에 제 2 전극을 추가로 포함하는,임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자
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마찰전기 발전소자 및 전력 관리 회로를 포함하고,상기 마찰전기 발전소자는,제 1 마찰 대전체층과 상기 제 1 마찰 대전체층 상의 제 1 전극;상기 제 1 마찰 대전체층의 마찰면과 서로 대향하며 이격되어 배치되며 고유전율 세라믹 물질이 고유전율 고분자 물질에 임베딩된 고율전율 나노 복합체로 이루어진 제 2 마찰 대전체층;상기 제 1 마찰 대전체층 및 상기 제 2 마찰 대전체층의 일부 또는 전부를 둘러싸는 외벽부를 포함하고,초음파가 인가되는 경우 상기 제 1 마찰 대전체층 및 상기 제 2 마찰 대전체층은 서로 접촉 및 비접촉을 반복하여 마찰 전기를 발생시키며,상기 고유전율 나노 복합체를 통해 상기 마찰전기 발전소자와 상기 전력 관리 회로와의 임피던스 매칭을 통해 회로의 구동 안정성이 확보되는,임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자
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6 |
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제 5 항에 있어서,상기 고유전율 세라믹 물질은 Cu3Ti4O12, CaCu3Ti4O12, La2/3Cu3Ti4O12, Sm2/3Cu3Ti4O12, Dy2/3Cu3Ti4O12, Y2/3Cu3Ti4O12, Bi2/3Cu3Ti4O12, BiCu3Ti3FeO12, LaCu3Ti3FeO12, NdCu3Ti3FeO12, SmCu3Ti3FeO12, GdCu3Ti3FeO12 및 YCu3Ti3FeO12를 포함하는,임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자
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7
제 5 항에 있어서,상기 고유전율 고분자 물질은 PVDF, P(VDF-TrFE), P(VDF-TrFE-CFE), P(VDF-TrFE-CTFE), P(VDF-TFE), P(VDF-HFA), P(VDF-TFE-HFP)를 포함하는,임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자
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8 |
8
제 5 항에 있어서,상기 제 2 마찰 대전체층의 마찰면의 반대면에 제 2 전극을 추가로 포함하는,임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자
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9
마찰전기 발전소자 및 전력 관리 회로를 포함하고,상기 마찰전기 발전소자는, 전극 역할을 수행하는 제 1 마찰 대전체층; 및 상기 제 1 마찰 대전체층의 마찰면과 서로 대향하며 이격되어 배치된 제 2 마찰 대전체층이 배치된 구조가 둘 이상 적층된 적층형 구조를 포함하며, 상기 적층형 구조를 일부 또는 전부 둘러싸는 외벽부를 포함하고,초음파가 인가되는 경우 상기 제 1 마찰 대전체층 및 상기 제 2 마찰 대전체층은 서로 접촉 및 비접촉을 반복하여 마찰 전기를 발생시키며,상기 적층형 구조를 통해 상기 마찰전기 발전소자와 상기 전력 관리 회로와의 임피던스 매칭을 통해 회로의 구동 안정성이 확보되는,임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자
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제 9 항에 있어서,상기 제 2 마찰 대전체층은 고유전율 고분자 물질로 이루어져 있으며,상기 고유전율 고분자 물질은 PVDF, P(VDF-TrFE), P(VDF-TrFE-CFE), P(VDF-TrFE-CTFE), P(VDF-TFE), P(VDF-HFA), P(VDF-TFE-HFP)를 포함하는,임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자
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마찰전기 발전소자 및 전력 관리 회로를 포함하고,상기 마찰전기 발전소자는, 전극 역할을 수행하는 제 1 마찰 대전체층; 및 상기 제 1 마찰 대전체층의 마찰면과 서로 대향하며 이격되어 배치된 제 2 마찰 대전체층이 배치된 구조가 둘 이상 적층된 적층형 구조를 포함하며, 상기 적층형 구조를 일부 또는 전부 둘러싸는 외벽부를 포함하고,상기 제 2 마찰 대전체층은 고유전율 세라믹 물질이 고유전율 고분자 물질에 임베딩된 고율전율 나노 복합체로 이루어져 있으며,초음파가 인가되는 경우 상기 제 1 마찰 대전체층 및 상기 제 2 마찰 대전체층은 서로 접촉 및 비접촉을 반복하여 마찰 전기를 발생시키며,상기 적층형 구조를 통해 상기 마찰전기 발전소자와 상기 전력 관리 회로와의 임피던스 매칭을 통해 회로의 구동 안정성이 확보되는,임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자
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제 11 항에 있어서,상기 고유전율 세라믹 물질은 Cu3Ti4O12, CaCu3Ti4O12, La2/3Cu3Ti4O12, Sm2/3Cu3Ti4O12, Dy2/3Cu3Ti4O12, Y2/3Cu3Ti4O12, Bi2/3Cu3Ti4O12, BiCu3Ti3FeO12, LaCu3Ti3FeO12, NdCu3Ti3FeO12, SmCu3Ti3FeO12, GdCu3Ti3FeO12 및 YCu3Ti3FeO12를 포함하는,임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자
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제 11 항에 있어서,상기 고유전율 고분자 물질은 PVDF, P(VDF-TrFE), P(VDF-TrFE-CFE), P(VDF-TrFE-CTFE), P(VDF-TFE), P(VDF-HFA), P(VDF-TFE-HFP)를 포함하는,임피던스 매칭을 이용한 회로의 구동 안정성을 확보하는 마찰전기 발전소자
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