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전위 구배 현미경 및 그 구동 방법

  • 기술번호 : KST2023009185
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 캔틸레버의 팁이 재료의 표면으로부터 소정 거리만큼 떨어진 상태에서 재료를 스캔하는 동안, 전위 구배 현미경은 캔틸레버에 입사하는 광 빔을 제공하고 광 빔이 캔틸레버에서 반사하는 반사 빔을 감지하여 편향 신호를 검출한다. 또한, 전위 구배 현미경은 재료를 스캔하는 동안 직류 전압과 교류 파형의 전압을 캔틸래버에 인가하며, 편향 신호의 진폭과 위상에 기초해서 재료를 영상화한다.
Int. CL G01Q 10/04 (2010.01.01) G01Q 10/06 (2010.01.01) G01Q 20/02 (2010.01.01) G01Q 60/00 (2010.01.01)
CPC G01Q 10/045(2013.01) G01Q 10/065(2013.01) G01Q 20/02(2013.01) G01Q 60/00(2013.01)
출원번호/일자 1020220044101 (2022.04.08)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2023-0144861 (2023.10.17) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2022.04.08)
심사청구항수 18

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 홍승범 대전광역시 유성구
2 김재규 대전광역시 유성구
3 조성우 대전광역시 유성구
4 염지원 대전광역시 유성구
5 엄성문 대전광역시 유성구
6 김훈 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 유미특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 서림빌딩 **층 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2022.04.08 수리 (Accepted) 1-1-2022-0379750-54
2 특허고객번호 정보변경(경정)신고서·정정신고서
2023.01.31 수리 (Accepted) 4-1-2023-5023571-05
3 특허고객번호 정보변경(경정)신고서·정정신고서
2023.05.04 수리 (Accepted) 4-1-2023-5110236-33
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2023.05.18 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
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번호 청구항
1 1
팁을 가지는 캔틸레버,상기 팁이 재료의 표면으로부터 소정 거리만큼 떨어진 상태에서 상기 재료를 스캔하는 동안, 상기 캔틸레버에 입사하는 광 빔을 제공하고 상기 광 빔이 상기 캔틸레버에서 반사하는 반사 빔을 감지하여 편향 신호를 검출하는 검출기, 그리고상기 재료를 스캔하는 동안 직류 전압과 교류 파형의 전압을 상기 캔틸래버에 인가하며, 상기 편향 신호의 진폭과 위상에 기초해서 상기 재료를 영상화하는 제어 시스템을 포함하는 전위 구배 현미경
2 2
제1항에서,상기 재료를 스캔하는 모드는 AM-KPFM(amplitude modulation Kelvin probe force microscopy)의 냅 모드에 해당하는, 전위 구배 현미경
3 3
제2항에서,상기 냅 모드의 스캔 전에, 상기 제어 시스템은 상기 재표의 표면을 태핑하지 않는 범위에서 진동하는 스캔을 통해 상기 재료의 표면을 형상화하는, 전위 구배 현미경
4 4
제1항에서,상기 제어 시스템은, 상기 편향 신호의 진폭의 피드백에 따라 상기 진류 전압과 상기 편향 신호의 진폭의 차이를 최소화하도록 제어하는 피드백 제어기를 포함하는, 전위 구배 현미경
5 5
제4항에서,상기 피드백 제어기는 비례-적분-미분(proportional-integral-differential, PID) 제어기 또는 비례-적분(proportional-integral, PI) 제어기를 포함하며,상기 제어 시스템은 상기 피드백 제어기의 비례 이득을 제1 임계 값보다 낮게, 상기 피드백 제어기의 적분 이득을 제2 임계 값보다 낮게 설정하는전위 구배 현미경
6 6
제5항에서,상기 제1 임계 값은 20인, 전위 구배 현미경
7 7
제5항에서,상기 제2 임계 값은 20인, 전위 구배 현미경
8 8
제1항에서,상기 제어 시스템은 스캔 방향에 따라 상기 편향 신호의 진폭과 위상에 기초해서 상기 재료를 영상화하는, 전위 구배 현미경
9 9
제8항에서,상기 스캔 방향은 제1 스캔 방향과 상기 제1 스캔 방향과 90도의 차이를 가지는 제2 스캔 방향을 포함하는, 전위 구배 현미경
10 10
제1항에서,상기 교류 파형은 사인 파형인, 전위 구배 현미경
11 11
제1항에서,상기 캔틸레버는 전도성 물질이 도포되어 있는, 전위 구배 현미경
12 12
제11항에서,상기 전도성 물질은 백금(Pt), 이리듐(Ir), 크롬(Cr) 또는 전도성 다이아몬드(conductive diamond) 중 적어도 하나로 이루어지는, 전위 구배 현미경
13 13
제1항에서,상기 재료는 강유전체(ferroelectrics), 산화물 반도체(oxide semiconductors), 금속(metals), 이종 물질(composites) 또는 블록 공중합체(block copolymers) 중 적어도 하나로 이루어지는, 전위 구배 현미경
14 14
팁을 가지는 캔틸레버를 포함하는 전위 구배 현미경의 구동 방법으로서,상기 팁이 재료의 표면으로부터 소정 거리만큼 떨어진 상태에서 상기 재료를 스캔하는 단계,상기 재료를 스캔하는 동안, 직류 전압과 교류 파형의 전압을 상기 캔틸래버에 인가하는 단계,상기 재료를 스캔하는 동안, 상기 캔틸레버에 입사하는 광 빔을 제공하는 단계,상기 광 빔이 상기 캔틸레버에서 반사하는 반사 빔을 감지하여 편향 신호를 검출하는 단계, 그리고상기 편향 신호의 진폭과 위상에 기초해서 상기 재료를 영상화하는 단계를 포함하는 구동 방법
15 15
제14항에서,상기 편향 신호의 진폭의 피드백에 따라 상기 진류 전압과 상기 편향 신호의 진폭의 차이를 최소화하도록 피드백 제어를 수행하는 단계를 더 포함하는 구동 방법
16 16
제15항에서,상기 피드백 제어를 수행하는 단계는 비례-적분-미분(proportional-integral-differential, PID) 제어기 또는 비례-적분(proportional-integral, PI) 제어기를 이용해서 상기 피드백 제어를 수행하는 단계를 포함하며,상기 피드백 제어에 사용되는 비례 이득이 제1 임계 값보다 낮고, 상기 피드백 제어에 사용되는 적분 이득이 제2 임계 값보다 낮은구동 방법
17 17
제14항에서, 상기 재료를 영상화하는 단계는 스캔 방향에 따라 상기 편향 신호의 진폭과 위상에 기초해서 상기 재료를 영상화하는 단계를 포함하는, 구동 방법
18 18
제17항에서,상기 스캔 방향은 제1 스캔 방향과 상기 제1 스캔 방향과 90도의 차이를 가지는 제2 스캔 방향을 포함하는, 구동 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
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