| 1 |
1
UV 가교된 하이드로겔 수동층 및 UV 가교된 하이드로겔 활성층이 적층된 하이드로겔 적층체를 포함하며,상기 하이드로겔 수동층은 아크릴아미드를 반복단위로 포함하는 중합체이고, 상기 하이드로겔 활성층은 금나노로드를 함유하고 N-이소프로필아크릴아미드를 반복단위로 포함하는 중합체인 것을 특징으로 하는 근적외선 감응성 소프트 엑추에이터
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 하이드로겔 적층체는 1
|
| 3 |
3
제2항에 있어서,상기 하이드로겔 적층체는 근적외선 강도가 0
|
| 4 |
4
제3항에 있어서,상기 근적외선의 에너지 파장은 750~1,400nm인 것을 특징으로 하는 근적외선 감응성 소프트 엑추에이터
|
| 5 |
5
제2항에 있어서,상기 하이드로겔 적층체가 0
|
| 6 |
6
제1항에 있어서,상기 하이드로겔 활성층은 광열변환 효율 40% 이상을 갖는 금나노로드를 0
|
| 7 |
7
제1항에 있어서,상기 금나노로드는 1
|
| 8 |
8
제1항에 있어서, 상기 금나노로드는 종횡비 3
|
| 9 |
9
제1항에 있어서,상기 하이드로겔 수동층 : 하이드로겔 활성층의 두께비는 1:1에서 1:10인 것이 특징인 근적외선 감응성 소프트 엑추에이터
|
| 10 |
10
제1항에 있어서,상기 하이드로겔 수동층 또는 하이드로겔 활성층은 세포독성이 없는 것을 특징으로 하는 근적외선 감응성 소프트 엑추에이터
|
| 11 |
11
(제1단계) 아크릴아미드인 제1단량체, 가교제, 촉진제, 물 및 개시제를 포함하는 제1중합성 조성물을 제조하고, 상기 제1중합성 조성물을 몰드에 부은 후 UV 경화하여 하이드로겔 수동층을 제조하는 단계; 및(제2단계) 금나노로드, N-이소프로필아크릴아미드인 제2단량체, 가교제, 촉진제, 물 및 개시제를 포함하는 제2중합성 조성물을 제조하고, 몰드 내의 하이드로겔 수동층 상부에 도포한 후 UV 경화하여 하이드로겔 활성층을 제조하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 근적외선 감응성 소프트 엑추에이터의 제조방법
|
| 12 |
12
제11항에 있어서,1
|
| 13 |
13
제12항에 있어서,근적외선 강도가 0
|
| 14 |
14
제13항에 있어서,상기 근적외선의 에너지 파장은 750~1,400nm인 것을 특징으로 하는 근적외선 감응성 소프트 엑추에이터의 제조방법
|
| 15 |
15
제12항에 있어서,상기 하이드로겔 적층체가 0
|
| 16 |
16
제11항에 있어서, 상기 하이드로겔 활성층에 광열변환 효율 40% 이상을 갖는 금나노로드가 0
|
| 17 |
17
제11항에 있어서, 상기 금나노로드는 1
|
| 18 |
18
제11항에 있어서, 상기 금나노로드는 종횡비 3
|
| 19 |
19
제11항에 있어서,상기 하이드로겔 수동층 : 하이드로겔 활성층의 두께비는 1:1에서 1:10인 것이 특징인 근적외선 감응성 소프트 엑추에이터의 제조방법
|
| 20 |
20
제11항에 있어서, 상기 금나노로드는 (A단계) CTAB(hexadecyltrimethylammonium bromide) 수용액에 HAuCl4 수용액과 NaBH4 수용액을 혼합하여 씨드 용액을 제조하고, HAuCl4 수용액, CTAB 수용액, AgNO3 수용액, 아스코르브산 수용액 및 HCl 수용액을 첨가하여 성장 용액을 제조하는 단계; (B단계) 씨드 용액을 성장 용액에 첨가하여 교반하고, 원심분리하는 단계; 및,(C단계) 원심분리 후, 침전물을 제거하고 상층액만을 수거하여 상기 상층액을 추가로 원심분리하여 금나노로드를 회수하는 단계;를 포함하여 제조되는 것을 특징으로 하는 근적외선 감응성 소프트 엑추에이터의 제조방법
|
| 21 |
21
제11항에 있어서, 상기 하이드로겔 수동층 또는 하이드로겔 활성층은 세포독성이 없는 것을 특징으로 하는 근적외선 감응성 소프트 엑추에이터의 제조방법
|
