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프리커서 이동 채널을 제조하는 단계; 및 상기 프리커서 이동 채널 상에 3 차원 구조물을 형성하는 단계;를 포함하는,분자 반응 구조물의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 프리커서 이동 채널을 제조하는 단계는,화학기상증착법(CVD)을 통해 구리 기판 상에 그래핀을 성장시키는 단계;상기 그래핀을 샘플 스테이지(sample stage)에 전사하는 단계;상기 그래핀을 포토리소그래피를 이용하여 음각 패터닝하는 단계; 및상기 패터닝된 음각 부분을 O2 플라즈마를 이용하여 에칭하는 단계;를 포함하여 수행되는 것인,분자 반응 구조물의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 3 차원 구조물을 형성하는 단계는,탄화규소(SiC)를 포토리소그래피를 이용하여 양각 패터닝하는 단계;상기 양각 패터닝된 탄화규소를 이용하여 3 차원 그래핀을 성장시키는 단계; 및상기 3 차원 그래핀을 dry transfer 기법을 통해 상기 프리커서 이동 채널상에 전사하는 단계;를 포함하여 수행되는 것인,분자 반응 구조물의 제조 방법
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