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니켈 헤테로렙틱 화합물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 박막의 제조방법

  • 기술번호 : KST2023009694
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 신규한 니켈 헤테로렙틱 화합물 및 이의 제조방법을 제공하며, 이를 포함하는 박막증착용 조성물 및 이를 이용하는 니켈 함유 박막의 제조방법에 관한 것으로, 우수한 열 안정성, 높은 휘발성 및 향상된 증기압을 가지는 본 발명의 니켈 화합물을 채용하여 우수한 품질의 니켈 함유 박막을 제조할 수 있다.
Int. CL C07F 15/04 (2006.01.01) C23C 16/18 (2006.01.01) C23C 16/455 (2006.01.01) C23C 16/40 (2006.01.01) C23C 16/30 (2006.01.01)
CPC C07F 15/04(2013.01) C23C 16/18(2013.01) C23C 16/45553(2013.01) C23C 16/40(2013.01) C23C 16/305(2013.01)
출원번호/일자 1020220048676 (2022.04.20)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2023-0149450 (2023.10.27) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2022.04.20)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김창균 대전광역시 유성구
2 신선영 대전광역시 유성구
3 이채은 대전광역시 유성구
4 정택모 대전광역시 유성구
5 임지선 대전광역시 유성구
6 소희수 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 플러스 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2022.04.20 수리 (Accepted) 1-1-2022-0422325-62
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2022.09.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
하기 화학식 1로 표시되는 니켈 화합물
2 2
제1항에 있어서,상기 화학식 1의 R1 내지 R6은 서로 독립적으로 직쇄 또는 분지쇄의 (C1-C6)알킬이며;m은 1 내지 3의 정수인, 니켈 화합물
3 3
제1항에 있어서,상기 화학식 1의 R1 내지 R2는 서로 독립적으로 분지쇄의 (C4-C6)알킬이며;R3 내지 R6은 서로 독립적으로 직쇄의 (C1-C3)알킬이며;m은 1 내지 2의 정수인, 니켈 화합물
4 4
제1항에 있어서,상기 니켈 화합물은 하기 화합물에서 선택되는 것인, 니켈 화합물
5 5
제1항에 있어서,상기 화학식 1의 니켈 화합물은 하기 화학식 2와 화학식 3으로 표시되는 화합물을 반응시켜 제조되는, 니켈 화합물
6 6
제1항에 따른 니켈 화합물을 포함하는 니켈 함유 박막증착용 조성물
7 7
제6항의 니켈 함유 박막증착용 조성물을 이용하는 니켈 함유 박막의 제조방법
8 8
제7항에 있어서,상기 제조방법은 원자층 증착법(ALD), 화학기상 증착법(CVD), 유기금속 화학기상 증착법(MOCVD), 저압 화학기상 증착법(LPCVD), 플라즈마강화 화학기상 증착법(PECVD) 또는 플라즈마강화 원자층 증착법(PEALD)인, 니켈 함유 박막의 제조방법
9 9
제7항에 있어서,상기 제조방법은,a) 챔버 내에 장착된 기판을 승온시키는 단계; 및b) 상기 챔버 내에 반응가스와 상기 니켈 함유 박막증착용 조성물을 주입하여 니켈 함유 박막을 제조하는 단계;를 포함하는, 니켈 함유 박막의 제조방법
10 10
제9항에 있어서, 상기 반응가스는 산소(O2), 오존(O3), 증류수(H2O), 과산화수소(H2O2), 일산화질소(NO), 아산화질소(N2O), 이산화질소(NO2), 암모니아(NH3), 질소(N2), 하이드라진(N2H4), 아민, 다이아민, 일산화탄소(CO), 이산화탄소(CO2), C1 내지 C12 포화 또는 불포화 탄화수소, 수소(H2), 아르곤(Ar) 및 헬륨(He)에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상인, 니켈 함유 박막의 제조방법
11 11
제6항에 따른 니켈 함유 박막증착용 조성물을 이용하여 제조되는 니켈 함유 박막
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 (주)제이오 소재부품기술개발(R＆D) 천연가스로부터 고결정성전도성 흑연구조를 갖는 탄소소재 개발
2 과학기술정보통신부 한국화학연구원 나노·소재기술개발(R＆D) 탄화수소계 연료전지용 고성능 촉매제조 및 도포기술
3 과학기술정보통신부 한국화학연구원 한국화학연구원연구운영비지원(R＆D) IoT 디바이스용 화학소재 기술