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광학적 플라즈마 주파수 측정 장치에 있어서, 플라즈마로부터 방출되는 빛이 변환된 전기적 신호를 전달받아 축적하는 신호 축적부; 상기 신호 축적부에 축적된 전기적 신호로부터 적어도 2개 이상의 전자빔이 발생하는 시간적 변화를 산출하는 제어부; 상기 제어부는 상기 2개의 전자빔이 발생하는 시간 간격의 역수로부터 전자 플라즈마 주파수를 산출하는 것을 특징으로 하는 광학적 플라즈마 주파수 측정 장치
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제 1 항에 있어서, 광방출 감지 센서를 더 포함하고, 상기 광방출 감지 센서는 플라즈마로부터 방출되는 빛을 전기적 신호로 변환하여 상기 신호 축적부로 전달하는 것을 특징으로 하는 광학적 플라즈마 주파수 측정 장치
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제 2 항에 있어서, 지연 발생부를 더 포함하고, 상기 지연 발생부는 지연신호를 상기 광방출 감지 센서로 전달하고, 상기 광방출 감지 센서는 상기 지연신호에 의하여 플라즈마 생성 전원과 동기화하여 플라즈마로부터 방출되는 빛을 전기적 신호로 변환하는 것을 특징으로 하는 광학적 플라즈마 주파수 측정 장치
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제 2 항에 있어서, 광학필터를 더 포함하고, 상기 광학필터는 상기 플라즈마로부터 방출되는 소정의 파장의 빛을 상기 광방출 감지 센서로 전달하는 것을 특징으로 하는 광학적 플라즈마 주파수 측정 장치
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광학적 플라즈마 주파수 측정 시스템에 있어서, 플라즈마 생성 전원과 동기화되어 플라즈마로부터 방출되는 빛을 전기적 신호로 변환하는 광방출 감지 센서; 상기 광방출 감지 센서에서 변환된 전기적 신호로부터 적어도 2개 이상의 전자빔의 시간적 변화를 계산하는 제어부; 상기 제어부는 상기 2개의 전자빔이 발생하는 시간 간격의 역수로부터 전자 플라즈마 주파수를 산출하는 것을 특징으로 하는 광학적 플라즈마 주파수 측정 시스템
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제 5 항에 있어서, 지연 발생부를 더 포함하고, 상기 지연 발생부는 지연신호를 상기 광방출 감지 센서로 전달하고, 상기 광방출 감지 센서는 상기 지연신호에 의하여 플라즈마 생성 전원과 동기화하여 플라즈마로부터 방출되는 빛을 전기적 신호로 변환하는 것을 특징으로 하는 광학적 플라즈마 주파수 측정 시스템
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제 5 항에 있어서, 광학필터를 더 포함하고, 상기 광학필터는 상기 플라즈마로부터 방출되는 소정의 파장의 빛을 상기 광방출 감지 센서로 전달하는 것을 특징으로 하는 광학적 플라즈마 주파수 측정 시스템
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플라즈마 공정의 광학적 진단 시스템에 있어서, 플라즈마 생성 전원과 동기화되어 플라즈마로부터 방출되는 빛을 전기적 신호로 변환하는 광방출 감지 센서; 상기 광방출 감지 센서에서 변환된 전기적 신호로부터 적어도 2개 이상의 전자빔의 시간적 변화를 계산하는 제어부; 상기 제어부는 상기 2개의 전자빔이 발생하는 시간 간격이 소정의 범위 이하인 경우 상기 전자빔의 위치 또는 기울기 변화, 또는 쉬스의 두께 변화로부터 플라즈마 생성에 이상이 발생하는 것으로 판단하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 공정의 광학적 진단 시스템
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광학적 플라즈마 주파수 측정 방법에 있어서, 플라즈마로부터 방출되는 빛이 전기적 신호로 변환되어 축적되는 단계; 상기 축적된 전기적 신호로부터 적어도 2개 이상의 전자빔이 발생하는 시간적 변화를 산출하는 단계; 상기 2개의 전자빔이 발생하는 시간 간격의 역수로부터 전자 플라즈마 주파수를 산출하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학적 플라즈마 주파수 측정 방법
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제 9 항에 있어서, 플라즈마 생성 전원으로부터 지연신호를 생성하는 단계를 더 포함하고, 상기 플라즈마로부터 방출되는 빛이 전기적 신호로 변환되어 축적되는 단계는, 상기 플라즈마로부터 방출되는 빛이 상기 지연신호에 의하여 플라즈마 생성 전원과 동기화되어 전기적 신호로 변환되어 축적되는 것을 특징으로 하는 광학적 플라즈마 주파수 측정 방법
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제 9 항에 있어서, 상기 플라즈마로부터 방출되는 빛이 전기적 신호로 변환되어 축적되는 단계는, 상기 플라즈마로부터 방출되는 소정의 파장의 빛이 전기적 신호로 변환되어 축적되는 것을 특징으로 하는 광학적 플라즈마 주파수 측정 방법
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제 9 항에 있어서, 플라즈마 생성 전원으로부터 지연신호를 생성하는 단계를 더 포함하고, 상기 축적된 전기적 신호로부터 적어도 2개 이상의 전자빔이 발생하는 시간적 변화를 산출하는 단계에서, 상기 플라즈마로부터 방출되는 빛이 상기 지연신호에 의하여 플라즈마 생성 전원과 동기화되어 변환되고 축적된 전기적 신호로부터 적어도 2개 이상의 전자빔이 발생하는 시간적 변화를 산출하는 것을 특징으로 하는 광학적 플라즈마 주파수 측정 방법
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광학적 플라즈마 주파수 측정 방법에 있어서, 플라즈마 생성 전원을 인가하여 플라즈마를 생성하는 단계; 상기 플라즈마로부터 방출되는 빛을 전기적 신호로 변환하는 단계; 상기 변환된 전기적 신호를 축적하여 적어도 2개 이상의 전자빔의 시간적 변화를 산출하는 단계; 상기 2개의 전자빔이 발생하는 시간 간격의 역수로부터 전자 플라즈마 주파수를 산출하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학적 플라즈마 주파수 측정 방법
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제 13 항에 있어서, 플라즈마 생성 전원으로부터 지연신호를 생성하는 단계를 더 포함하고, 상기 플라즈마로부터 방출되는 빛을 전기적 신호로 변환하는 단계는, 상기 플라즈마로부터 방출되는 빛이 상기 지연신호에 의하여 플라즈마 생성 전원과 동기화되어 전기적 신호로 변환하는 것을 특징으로 하는 광학적 플라즈마 주파수 측정 방법
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제 13 항에 있어서, 플라즈마 생성 전원으로부터 지연신호를 생성하는 단계를 더 포함하고, 상기 변환된 전기적 신호를 축적하여 적어도 2개 이상의 전자빔의 시간적 변화를 산출하는 단계는, 상기 플라즈마로부터 방출되는 빛이 상기 지연신호에 의하여 플라즈마 생성 전원과 동기화되어 변환되고 축적된 전기적 신호로부터 적어도 2개 이상의 전자빔의 시간적 변화를 산출하는 것을 특징으로 하는 광학적 플라즈마 주파수 측정 방법
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제 9 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항의 광학적 플라즈마 주파수 측정 방법을 실행시키기 위하여 저장매체에 기록되는 컴퓨터프로그램
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플라즈마 공정의 광학적 진단 방법에 있어서, 플라즈마 생성 전원을 인가하여 플라즈마를 생성하는 단계; 상기 플라즈마로부터 방출되는 빛을 전기적 신호로 변환하는 단계; 상기 변환된 전기적 신호를 축적하여 적어도 2개 이상의 전자빔의 시간적 변화를 산출하는 단계; 상기 2개의 전자빔이 발생하는 시간 간격이 소정의 범위 이하인 경우 상기 전자빔의 위치 또는 기울기 변화, 또는 쉬스의 두께 변화로부터 플라즈마 생성에 이상이 발생하는 것으로 판단하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 공정의 광학적 진단 방법
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제 17 항의 플라즈마 공정의 광학적 진단 방법을 실행시키기 위하여 저장매체에 기록되는 컴퓨터프로그램
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