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연성 금속 적층판의 제조방법

  • 기술번호 : KST2023009894
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 일 예는 진공 챔버 내에서 금속 박막 표면 및 연성 고분자 필름 표면에 플라즈마를 처리하여 표면을 개질하는 단계; 및 플라즈마 처리에 의해 개질된 금속 박막 표면 및 연성 고분자 필름 표면을 맞대고 진공 챔버 내에서 가압하여 접합시키는 단계를 포함하는 연성 금속 적층판의 제조방법을 제공한다. 본 발명에 따른 연성 금속 적층판의 제조방법은 금속 박막 표면 및 연성 고분자 필름 표면의 개질을 위한 플라즈마 처리 및 이후의 가압 접합이 모두 진공 챔버 내에서 수행되기 때문에 플라즈마 발생을 위한 인가 전력이 매우 작은 경우에도 금속 박막과 연성 고분자 필름의 접합이 가능하다. 따라서, 본 발명에 따른 연성 금속 적층판의 제조방법을 사용하면 매우 온화한 공정 조건에서도 접착강도가 우수한 연성 금속 적층판을 제조할 수 있고, 이를 통해 기존의 구리 박막과 PDMS 필름의 접합시 낮은 접착강도와 고비용 문제를 개선할 수 있다.
Int. CL B32B 38/00 (2006.01.01) B32B 15/08 (2006.01.01) B32B 27/28 (2006.01.01) B32B 15/20 (2006.01.01)
CPC B32B 38/0008(2013.01) B32B 38/004(2013.01) B32B 15/08(2013.01) B32B 27/283(2013.01) B32B 15/20(2013.01)
출원번호/일자 1020220052200 (2022.04.27)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2023-0152437 (2023.11.03) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2022.04.27)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 안치성 경기도 시흥시 월곶중앙로**번길 **
2 임성철 서울특별시 구로구
3 장규봉 경기도 용인시 기흥구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 권정기 대한민국 서울 강남구 논현로***길 ** (논현동) ***호(지반특허법률사무소)
2 임상엽 대한민국 서울 강남구 논현로***길 ** (논현동) ***호(지반특허법률사무소)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2022.04.27 수리 (Accepted) 1-1-2022-0453254-34
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2022.12.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2023.02.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2023-0033453-33
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번호 청구항
1 1
진공 챔버 내에서 금속 박막 표면 및 연성 고분자 필름 표면에 플라즈마를 처리하여 표면을 개질하는 단계; 및플라즈마 처리에 의해 개질된 금속 박막 표면 및 연성 고분자 필름 표면을 맞대고 진공 챔버 내에서 가압하여 접합시키는 단계를 포함하는 방법으로서,상기 진공 챔버의 진공도는 1×10-9 torr 내지 1×10-3 torr 이고,상기 플라즈마 처리시 플라즈마 발생을 위한 인가 전력은 10~30 W 이고 플라즈마 조사 시간은 40~120초 이며,상기 가압하여 접합시 가압 압력은 50~250 psi 이고 가압 시간은 4~10분 인 것을 특징으로 하는 연성 금속 적층판의 제조방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 금속 박막은 구리(Cu) 박막인 것을 특징으로 하는 연성 금속 적층판의 제조방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 연성 고분자 필름은 PDMS(Polydimethylsiloxane) 필름인 것을 특징으로 하는 연성 금속 적층판의 제조방법
4 4
제1항에 있어서, 상기 진공 챔버에서 진공도를 유지하기 위한 초기 진공도는 1×10-8 torr 내지 1×10-6 torr인 것을 특징으로 하는 연성 금속 적층판의 제조방법
5 5
제1항에 있어서, 상기 진공 챔버에서 플라즈마를 생성하기 위한 분위기는 아르곤(Ar) 가스 분위기인 것을 특징으로 하는 연성 금속 적층판의 제조방법
6 6
제5항에 있어서, 상기 진공 챔버에서 플라즈마가 생성될 때 진공 챔버의 진공도는 5×10-5 torr 내지 5×10-3 torr인 것을 특징으로 하는 연성 금속 적층판의 제조방법
7 7
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 진공 챔버의 진공도는 5×10-8 torr 내지 1×10-4 torr 이고, 상기 플라즈마 처리시 플라즈마 발생을 위한 인가 전력은 10~20 W 이고 플라즈마 조사 시간은 40~100초 이며, 상기 가압하여 접합시 가압 압력은 70~220 psi 이고 가압 시간은 5~10분 인 것을 특징으로 하는 연성 금속 적층판의 제조방법
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진공 챔버 내에서 금속 박막 표면 및 연성 고분자 필름 표면에 플라즈마를 처리하여 표면을 개질하는 단계; 및플라즈마 처리에 의해 개질된 금속 박막 표면 및 연성 고분자 필름 표면을 맞대고 진공 챔버 내에서 가압하여 접합시키는 단계를 포함하는 방법으로서,상기 진공 챔버의 진공도는 1×10-9 torr 내지 1×10-3 torr 이고,상기 플라즈마 처리시 플라즈마 발생을 위한 인가 전력과 플라즈마 조사 시간의 곱으로 환산되는 값인 조사된 플라즈마 총 에너지는 350~1500 Joule 이며,상기 가압하여 접합시 가압 압력은 50~250 psi 이고 가압 시간은 4~10분 인 것을 특징으로 하는 연성 금속 적층판의 제조방법
9 9
제8항에 있어서, 상기 금속 박막은 구리(Cu) 박막이고, 상기 연성 고분자 필름은 PDMS(Polydimethylsiloxane) 필름인 것을 특징으로 하는 연성 금속 적층판의 제조방법
10 10
제8항에 있어서, 상기 진공 챔버에서 진공도를 유지하기 위한 초기 진공도는 1×10-8 torr 내지 1×10-6 torr인 것을 특징으로 하는 연성 금속 적층판의 제조방법
11 11
제8항에 있어서, 상기 진공 챔버에서 플라즈마를 생성하기 위한 분위기는 아르곤(Ar) 가스 분위기이고, 상기 진공 챔버에서 플라즈마가 생성될 때 진공 챔버의 진공도는 5×10-5 torr 내지 5×10-3 torr인 것을 특징으로 하는 연성 금속 적층판의 제조방법
12 12
제8항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 진공 챔버의 진공도는 5×10-8 torr 내지 1×10-4 torr 이고, 상기 조사된 플라즈마 총 에너지는 400~1400 Joule 이며, 상기 가압하여 접합시 가압 압력은 70~220 psi 이고 가압 시간은 5~10분 인 것을 특징으로 하는 연성 금속 적층판의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 한국생산기술연구원 한국생산기술연구원연구운영비지원(R&D)(주요사업비) 세라믹 3D 적층성형기반 RM 체제 구축(2/5)