| 1 |
1
배기가스가 이동하는 배기관에 설치되어 배기가스에 포함된 질소산화물을 감소시키는 배기가스 후처리 장치에 있어서,플라즈마를 발생시키고, 연료를 개질하여 환원 물질을 생성하는 플라즈마 개질기; 및상기 배기가스에 포함된 입자상 물질과 질소산화물을 제거하는 촉매 반응기;를 포함하며,상기 플라즈마 개질기의 작동 온도는 500℃ 내지 1000℃의 부분산화 온도 조건인 것을 특징으로 하는 플라즈마 개질기를 이용한 배기가스 후처리 장치
|
| 2 |
2
제1 항에 있어서,상기 플라즈마 개질기는 회전아크를 발생시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 개질기를 이용한 배기가스 후처리 장치
|
| 3 |
3
제1 항에 있어서,상기 플라즈마 개질기에 의하여 생성된 화염 또는 상기 플라즈마 개질기에 의하여 가열된 배기가스로 연료를 분사하는 제1 연료 분사관을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 개질기를 이용한 배기가스 후처리 장치
|
| 4 |
4
제3 항에 있어서,상기 배기관 내에 삽입된 보염기를 더 포함하고, 상기 플라즈마 개질기는 상기 보염기와 연결되어 상기 보염기 내부로 환원 물질을 분사하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 개질기를 이용한 배기가스 후처리 장치
|
| 5 |
5
제4 항에 있어서,상기 제1 연료 분사관은 상기 보염기와 연결되어 상기 보염기 내부로 연료를 분사하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 개질기를 이용한 배기가스 후처리 장치
|
| 6 |
6
제4 항에 있어서,상기 제1 연료 분사관은 상기 보염기에서 기체가 배출되는 출구 영역으로 연료를 분사하도록 설치된 것을 특징으로 하는 플라즈마 개질기를 이용한 배기가스 후처리 장치
|
| 7 |
7
제4 항에 있어서,상기 보염기에는 배기가스가 유입되는 복수의 통기공들이 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 개질기를 이용한 배기가스 후처리 장치
|
| 8 |
8
제4 항에 있어서,상기 통기공들에는 금속 다공체가 설치된 것을 특징으로 하는 플라즈마 개질기를 이용한 배기가스 후처리 장치
|
| 9 |
9
제4 항에 있어서,상기 촉매 반응기는 탄화수소를 산화시키는 제1 산화촉매장치와 상기 산화촉매장치의 하류에 설치되어 입자상물질을 포집하는 입자상 물질 필터를 더 포함하고,상기 입자상 물질 필터와 상기 제1 산화촉매장치 사이에 설치되어 연료를 분사하는 제1 연료 분사관를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 개질기를 이용한 배기가스 후처리 장치
|
| 10 |
10
제4 항에 있어서,상기 촉매 반응기는 입자상 물질 필터 보다 더 하류측에 배치되어 질소산화물을 환원시키는 선택적 환원 촉매장치와 상기 선택적 환원 촉매장치의 하류측에 배치되어 탄화수소를 산화시키는 제2 산화촉매장치를 더 포함하고,상기 입자상 물질 필터와 상기 선택적 환원 촉매장치 사이에는 상기 배기관 내부로 연료를 분사하는 제2 연료 분사관이 설치된 것을 특징으로 하는 플라즈마 개질기를 이용한 배기가스 후처리 장치
|
| 11 |
11
제10 항에 있어서,상기 제2 연료 분사관에는 상기 제2 연료 분사관에 오존을 공급하는 오존 공급관이 연결된 것을 특징으로 하는 플라즈마 개질기를 이용한 배기가스 후처리 장치
|
| 12 |
12
제4 항에 있어서,상기 촉매 반응기는 탄화수소를 산화시키는 제1 산화촉매장치와 상기 산화촉매장치의 하류에 설치되어 입자상물질을 포집하고, 질소산화물을 환원시키는 동시저감장치와 상기 동시저감장치의 하류측에 배치되어 탄화수소를 산화시키는 제2 산화촉매장치를 포함하고,상기 제1 산화촉매장치와 상기 동시저감장치 사이에는 상기 배기관 내부로 오존을 분사하는 오존 공급관이 설치된 것을 특징으로 하는 플라즈마 개질기를 이용한 배기가스 후처리 장치
|
| 13 |
13
플라즈마 개질기를 이용하여 배기가스에 포함된 질소산화물을 감소시키는 배기가스 후처리 방법에 있어서,플라즈마를 발생시키고, 연료를 개질하여 환원 물질을 생성하는 플라즈마 개질 단계; 및배기가스에 포함된 입자상 물질을 포집하고, 질소산화물을 환원시키는 촉매 반응 단계;를 포함하고,상기 플라즈마 개질 단계는 상기 연료를 500℃ 내지 1000℃로 가열하는 것을 특징으로 하는 배기가스 후처리 방법
|
| 14 |
14
제13 항에 있어서,상기 플라즈마 개질 단계는 회전하는 아크를 발생시키고, 회전하는 아크를 이용하여 연료를 산화시키는 것을 특징으로 하는 배기가스 후처리 방법
|
| 15 |
15
제14 항에 있어서,제1 연료 분사관을 이용하여 상기 플라즈마 개질 단계에서 가열된 배기가스에 연료를 분사하는 제1 연료 분사 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 배기가스 후처리 방법
|
| 16 |
16
제15 항에 있어서,상기 플라즈마 개질 단계는 내부 공간을 갖는 보염기 내부로 환원 물질을 분사하는 것을 특징으로 하는 배기가스 후처리 방법
|
| 17 |
17
제16 항에 있어서,상기 제1 연료 분사 단계는 상기 보염기 내부로 연료를 분사하는 것을 특징으로 하는 배기가스 후처리 방법
|
| 18 |
18
제16 항에 있어서,상기 제1 연료 분사 단계는 상기 보염기에서 기체가 배출되는 출구 영역으로 연료를 분사하는 것을 특징으로 하는 배기가스 후처리 방법
|
| 19 |
19
제15 항에 있어서,상기 촉매 반응 단계는 제1 산화촉매장치에서 환원 물질을 산화시켜서 열을 발생시키는 산화 단계와 산화 단계에서 가열된 배기가스를 입자상 물질 필터로 공급하여 입자상 물질 필터에 포집된 입자상 물질들을 태워서 이산화탄소로 변환시키는 필터 재생 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 배기가스 후처리 방법
|
| 20 |
20
제18 항에 있어서,상기 제1 연료 분사 단계는 상기 제1 산화촉매장치와 상기 입자상 물질 필터 사이의 공간으로 연료를 분사하는 것을 특징으로 하는 배기가스 후처리 방법
|
| 21 |
21
제18 항에 있어서,상기 촉매 반응 단계는 선택적 촉매 환원장치에서 질소산화물을 질소로 변환하는 질소산화물 제거 단계와 환원 물질을 산화시켜서 열을 발생시키고 탄화수소를 산화시키는 탄화수소 제거 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 배기가스 후처리 방법
|
| 22 |
22
제21 항에 있어서,제2 연료 분사관을 이용하여 상기 입자상 물질 필터와 상기 선택적 촉매 환원장치 사이로 연료를 분사하는 제2 연료 분사 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 배기가스 후처리 방법
|
| 23 |
23
제22 항에 있어서,상기 제2 연료 분사관으로 오존을 공급하는 오존 분사 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 배기가스 후처리 방법
|
| 24 |
24
제15 항에 있어서,촉매 반응 단계는 제1 산화촉매장치에서 환원 물질을 산화시켜서 열을 발생시키는 산화 단계와 동시저감장치에 포집된 물질들을 태워서 이산화탄소로 변환시키면서 질소산화물을 질소로 변환하는 동시 제거 단계와 환원 물질을 산화시켜서 열을 발생시키고 탄화수소를 산화시키는 탄화수소 제거 단계를 포함하고,상기 제1 연료 분사 단계는 상기 제1 산화촉매장치와 상기 동시저감장치 사이의 공간으로 연료를 분사하며,상기 제1 산화촉매장치와 상기 동시저감장치 사이의 공간으로 오존을 분사하는 오존 분사 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 배기가스 후처리 방법
|
