| 1 |
1
다음의 단계를 포함하는 전도성 폴리머 기판의 제조 방법:표면에 피치(Pitch) 간 간격이 일정한 나노 패턴 층을 포함한 제1몰드를 준비하는 제1준비 단계;제1폴리머 재료에 상기 나노 패턴과 상응하는 나노 패턴이 형성되도록, 제1폴리머 재료에 제1몰드를 접촉시킨 후 떼어내고, 제1폴리머 재료를 경화시킴으로써 나노 패턴을 전사받은 제2몰드를 준비하는 제2준비 단계;제2폴리머 재료에 제2몰드의 나노 패턴과 상응하는 나노 패턴이 형성되도록, 제2폴리머 재료에 제2몰드를 접촉시킨 후 떼어내고, 제2폴리머 재료를 경화시킴으로써 나노 패턴을 전사받은 폴리머 기판을 준비하는 제3준비 단계;일측에 나노 패턴 층을 포함하는 폴리머 기판에 전도성 물질을 스핀 코팅하는 제1코팅 단계;전도성 물질이 제1폴리머 재료로 매립되도록, 제1폴리머 재료를 폴리머 기판의 전도성 물질이 스핀 코팅된 일측에 스핀 코팅하는 제2코팅 단계; 및폴리머 기판을 제거하는 제거 단계
|
| 2 |
2
제1항에 있어서, 상기 나노 패턴의 형상은 피치(pitch)와 홈(groove)이 교번 배열되는 것인, 전도성 폴리머 기판의 제조 방법
|
| 3 |
3
제1항에 있어서, 상기 피치 간 간격은 400 내지 1,200 nm인 것인, 전도성 폴리머 기판의 제조 방법
|
| 4 |
4
제1항에 있어서, 상기 제1폴리머 재료는 PDMS(polydimethylsiloxane)계 고분자, PMMA(polymethyl methacrylate), PUA(polyurethane acrylate), PS(polystyrene), PC(polycarbonate), PVA(polyvinyl alcohol), COP(cyclicolefin copolymer), PET(polyethylene terephthalate), PVB(polyvinyl butadiene) 및 이들의 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종인 것인, 전도성 폴리머 기판의 제조 방법
|
| 5 |
5
제1항에 있어서, 상기 제2폴리머 재료는 PDMS(polydimethylsiloxane)계 고분자, PMMA(polymethyl methacrylate), PUA(polyurethane acrylate), PS(polystyrene), PC(polycarbonate), PVA(polyvinyl alcohol), COP(cyclicolefin copolymer), PET(polyethylene terephthalate), PVB(polyvinyl butadiene) 및 이들의 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종인 것인, 전도성 폴리머 기판의 제조 방법
|
| 6 |
6
제1항에 있어서, 상기 제1코팅 단계는,400 내지 600 rpm 및 5 내지 15초 동안 1차 스핀 코팅 후, 2,500 내지 3,500 rpm 및 20 내지 40초 동안 2차 스핀 코팅됨으로써 수행되는 것인, 전도성 폴리머 기판의 제조 방법
|
| 7 |
7
제1항에 있어서, 상기 제1코팅 단계는 적어도 2회 이상 수행되는 것인, 전도성 폴리머 기판의 제조 방법
|
| 8 |
8
제1항에 있어서, 상기 전도성 물질은 은나노와이어, 구리나노와이어 및 금나노와이어로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것인, 전도성 폴리머 기판의 제조 방법
|
| 9 |
9
제1항에 있어서, 상기 제2코팅 단계는,500 내지 900 rpm 및 30 내지 50초 동안 수행되는 것인, 전도성 폴리머 기판의 제조 방법
|
| 10 |
10
제1항에 있어서, 상기 제거 단계는 전도성 물질 및 제1폴리머 재료가 순차 적층된 폴리머 기판을 탈이온수에 침지시킴으로써 수행되는 것인, 전도성 폴리머 기판의 제조 방법
|
| 11 |
11
일측에 나노 패턴을 포함하며, 전도성 물질이 나노 패턴 층에 매립된 전도성 폴리머 기판
|
| 12 |
12
제11항에 있어서, 상기 전도성 물질은 은나노와이어, 구리나노와이어 및 금나노와이어로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것인, 전도성 폴리머 기판
|
| 13 |
13
제11항에 있어서, 상기 나노 패턴의 형상은 나노 크기의 피치(pitch)와 홈(groove)이 교번 배열되는 것인, 전도성 폴리머 기판
|
| 14 |
14
제13항에 있어서, 상기 피치 간 간격은 400 내지 1,200 nm인 것인, 전도성 폴리머 기판
|
