| 1 |
1
텅스텐 분말 및 고분자 베이스를 포함하는 방사선 차폐 필름이며,상기 텅스텐 분말의 평균 입자 크기는 80 내지 200 nm이고,상기 필름의 두께는 0
|
| 2 |
2
제1항에 있어서, 상기 필름은 상기 텅스텐 분말을 필름 총 중량에 대하여 88 내지 92 중량%로 포함하는, 방사선 차폐 필름
|
| 3 |
3
제1항에 있어서, 상기 텅스텐 분말은 필름에 균일하게 분산되어 있는 것인, 방사선 차폐 필름
|
| 4 |
4
제1항에 있어서, 상기 고분자 베이스는 폴리에틸렌 또는 고밀도 폴리에틸렌을 포함하는, 방사선 차폐 필름
|
| 5 |
5
제1항에 있어서, 상기 방사선 차폐 필름의 x-선 차폐율은 60 내지 120kVp의 관전압 범위에서 측정시 70 내지 95%인, 방사선 차폐 필름
|
| 6 |
6
제1항에 있어서, 상기 방사선 차폐 필름의 인장강도는 10 내지 15MPa인, 방사선 차폐 필름
|
| 7 |
7
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 방사선 차폐 필름을 포함하는 방사선 차폐복
|
| 8 |
8
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 방사선 차폐 필름을 포함하는 방사선 차폐시설의 건축재료
|
| 9 |
9
제1항 내지 제6항의 방사선 차폐 필름의 제조방법으로,평균 입자 크기가 80 내지 200 nm인 텅스텐 분말을 분할하여 일부를 고분자 베이스를 포함하는 캐스팅 용액에 첨가하고 교반하여 텅스텐 분말을 용액내에 분산시키는 단계를 2회 이상 반복 수행하는 단계; 및상기 텅스텐 분말이 분산된 용액을 필름에 도포하고, 열을 가해 압착 성형하는 단계;를 포함하는, 방사선 차폐 필름의 제조방법
|
| 10 |
10
제9항에 있어서, 상기 교반 속도는 2000 내지 4000 rpm이며, 교반 시간은 10 내지 15분인, 방사선 차폐 필름의 제조방법
|
| 11 |
11
제9항에 있어서, 상기 압착 성형하는 단계에서 가해지는 열의 온도는 60 내지 90℃이고, 가해지는 압력은 10 내지 30MPa인, 방사선 차폐 필름의 제조방법
|
| 12 |
12
제9항에 있어서, 텅스텐 분말을 분쇄하여 평균 입자 크기가 80 내지 200 nm인 텅스텐 분말을 제조하는 단계를 더 포함하는, 방사선 차폐 필름의 제조방법
|
