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자성 구조체, 그 제조 방법, 및 이를 포함하는 유체 수송 모듈

  • 기술번호 : KST2023010128
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 자성 구조체의 제조 방법은, 제1 방향으로 연장하고 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 이격되어 배열된 복수의 볼록부, 및 복수의 상기 볼록부 사이에 정의되는 복수의 오목부를 포함하는 베이스 몰드를 제조하는 단계, 제1 고분자 및 자성 물질을 혼합하여 베이스 소스를 제조하는 단계, 상기 베이스 소스를 복수의 상기 오목부를 갖는 상기 베이스 몰드 상에 제공하고, 상기 베이스 몰드에 자기장을 인가하고 건조하여, 복수의 상기 오목부의 역상(reverse phase)을 갖는 복수의 돌출부를 제조하는 단계, 및 상기 베이스 몰드 상에 제2 고분자를 제공하여, 복수의 상기 돌출부와 접합된 평판부를 제조하는 단계를 포함할 수 있다.
Int. CL B29C 33/42 (2018.01.01) B29C 33/38 (2018.01.01) B29C 33/52 (2006.01.01) B29C 39/26 (2006.01.01) B29C 39/00 (2006.01.01) B29C 39/36 (2006.01.01) B33Y 10/00 (2015.01.01) B33Y 80/00 (2015.01.01) B29K 83/00 (2006.01.01) B29K 505/12 (2006.01.01)
CPC B29C 33/424(2013.01) B29C 33/3842(2013.01) B29C 33/52(2013.01) B29C 39/26(2013.01) B29C 39/003(2013.01) B29C 39/36(2013.01) B33Y 10/00(2013.01) B33Y 80/00(2013.01) B29K 2083/00(2013.01) B29K 2505/12(2013.01)
출원번호/일자 1020230053510 (2023.04.24)
출원인 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2023-0153279 (2023.11.06) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020220052785   |   2022.04.28
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2023.04.24)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박상윤 서울특별시 성동구
2 방주형 서울특별시 성동구
3 소홍윤 서울특별시 성동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박상열 대한민국 서울 금천구 가산디지털*로 *** **층 ****호(나눔국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2023.04.24 수리 (Accepted) 1-1-2023-0460031-69
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2023.08.18 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
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번호 청구항
1 1
제1 방향으로 연장하고 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 이격되어 배열된 복수의 볼록부, 및 복수의 상기 볼록부 사이에 정의되는 복수의 오목부를 포함하는 베이스 몰드를 제조하는 단계;제1 고분자 및 자성 물질을 혼합하여 베이스 소스를 제조하는 단계;상기 베이스 소스를 복수의 상기 오목부를 갖는 상기 베이스 몰드 상에 제공하고, 상기 베이스 몰드에 자기장을 인가하고 건조하여, 복수의 상기 오목부의 역상(reverse phase)을 갖는 복수의 돌출부를 제조하는 단계; 및 상기 베이스 몰드 상에 제2 고분자를 제공하여, 복수의 상기 돌출부와 접합된 평판부를 제조하는 단계를 포함하는 자성 구조체의 제조 방법
2 2
제 1항에 있어서,상기 베이스 몰드는, 3차원 프린팅 공정으로 제조되되,상기 베이스 몰드를 제조하는 단계는,3차원 프린팅 물질을 단위층(unit layer)마다 상기 제1 방향으로 적층하여 제조되는 것을 포함하고,인접하는 상기 단위층 사이에 홈이 정의되는 것을 포함하는 자성 구조체의 제조 방법
3 3
제 2항에 있어서,복수의 상기 홈은, 상기 단위층의 가장자리에서 중심부로 갈수록, 폭이 좁아지는 것을 포함하는 자성 구조체의 제조 방법
4 4
제 2항에 있어서,복수의 상기 돌출부를 제조하는 단계는,복수의 상기 돌출부의 가장자리에, 복수의 상기 홈의 역상(reverse phase)을 갖는 복수의 돌기를 형성하는 것을 포함하는 자성 구조체의 제조 방법
5 5
제 1항에 있어서, 상기 자기장은, 복수의 상기 오목부의 깊이 방향으로 인가되는 것을 포함하는 자성 구조체의 제조 방법
6 6
제 2항에 있어서,상기 3차원 프린팅 물질은, PLA(poly lactic acid)를 포함하고,상기 제1 고분자 물질 및 상기 제2 고분자 물질은, 동일한 고분자를 포함하는 자성 구조체의 제조 방법
7 7
평판부; 및상기 평판부의 상부면 상에 배치되고, 자성 물질을 포함하는 복수의 돌출부를 포함하되,복수의 상기 돌출부는, 상기 평판부의 상기 상부면 상에, 제1 방향으로 연장되어 배열되고, 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 이격되어 배열되는 것을 포함하는 자성 구조체
8 8
제 7항에 있어서,복수의 상기 돌출부는, 복수의 상기 돌출부의 측벽 상에 복수의 돌기를 포함하는 자성 구조체
9 9
제 8항에 있어서,복수의 상기 돌기는, 복수의 상기 돌출부의 측벽 상에서 상기 제2 방향 및 상기 제2 방향에 반평행한 방향(antiparallel direction)으로 갈수록, 폭이 좁아지는 것을 포함하는 자성 구조체
10 10
제 7항에 있어서,복수의 상기 돌출부는, 고분자 매트릭스 및 상기 고분자 매트릭스에 분산된 상기 자성 물질을 포함하는 자성 구조체
11 11
제 10항에 있어서,상기 자성 물질은, 상기 평판부의 상기 상부면 상에서 위로(upwardly) 향하는 방향으로 배열된 것을 포함하는 자성 구조체
12 12
제 10항에 있어서, 상기 고분자 매트릭스는, PDMS(polydimethylsiloxane)를 포함하는 자성 구조체
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제 7항에 따른 자성 구조체;상기 자성 구조체의 복수의 상기 돌출부 상의 유체; 및복수의 상기 돌출부와 기준 거리로 이격되어, 복수의 상기 돌출부에 구동 자기장을 인가하는 자기장 생성부를 포함하되,상기 자기장 생성부에 의해 인가되는 상기 구동 자기장에 따라서, 상기 평판부에 대한 상기 자성 구조체의 복수의 상기 돌출부의 기울기가 제어되어, 상기 유체를 이동시키는 것을 포함하는 유체 수송 모듈
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제 13항에 있어서,인가되는 상기 구동 자기장에 따라서, 상기 유체가 상기 제2 방향 또는 상기 제2 방향과 반평행한 방향(antiparallel direction)으로 이동하는 것을 포함하는 유체 수송 모듈
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.