| 1 |
1
1) 베이스 기판을 준비하는 단계;2) 상기 베이스 기판의 일면에 금속층을 증착시키는 단계;3) 상기 금속층의 상면에 금속 산화물층을 증착시키는 단계; 및4) 상기 금속층의 상변태를 유도하는 단계를 포함하며,상기 금속층 및 금속 산화물층은 마그네트론 스퍼터링법(magnetron sputtering)에 의해 증착되는 것인금속층의 상변태를 이용한 반투명 면상 발열체의 제조방법
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 금속층은 Ag, Au, Pt, Al, Cu, Cr, V, Mg, Ti, Sn, Pb, Pd, W 및 이들의 합금으로 이루어진 군에서 선택되는금속층의 상변태를 이용한 반투명 면상 발열체의 제조방법
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,상기 금속 산화물층은 ZTO(Zinc Tin Oxide), IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide), ZAO(Zinc Aluminum Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide) 및 ZnO(Zinc Oxide)로 이루어진 군으로부터 선택되는금속층의 상변태를 이용한 반투명 면상 발열체의 제조방법
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,상기 금속층은 1 내지 20 nm의 두께로 증착되는 것이며,상기 금속 산화물층은 20 내지 40 nm의 두께로 증착되는 것인금속층의 상변태를 이용한 반투명 면상 발열체의 제조방법
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,상기 4) 단계는 100 내지 150초 간격으로 3V씩 증가된 전압을 인가하여 20 내지 25V의 최종 전압에 도달하게 한 후, 650 내지 700 초 동안 상기 최종 전압을 유지시킴으로써 상기 금속층의 상변태를 유도하는 것인금속층의 상변태를 이용한 반투명 면상 발열체의 제조방법
|
| 6 |
6
제1항 내지 제5항에 따른 제조방법에 의해 제조된반투명 면상 발열체
|
| 7 |
7
제6항에 따른 반투명 면상 발열체를 포함하는 반투명 히터
|
