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실릴 에테르 아이소헥사이드 기반 유무기 화합물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 경화성 조성물

  • 기술번호 : KST2023010973
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 유무기 화합물에 관한 것으로, 제1 구조체; 및 경화성 반응기를 포함하되, 상기 제1 구조체는 실란 및 아이소헥사이드가 실릴 에테르 결합을 통해 화학적으로 결합한 구조를 가질 수 있다.
Int. CL C07F 7/18 (2006.01.01) C08G 77/14 (2006.01.01) C08G 77/46 (2006.01.01)
CPC C07F 7/1804(2013.01) C07F 7/1892(2013.01) C08G 77/14(2013.01) C08G 77/46(2013.01)
출원번호/일자 1020230071533 (2023.06.02)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2023-0168597 (2023.12.14) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020220068914   |   2022.06.07
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2023.07.10)
심사청구항수 20

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최광문 대전광역시 유성구
2 엄용성 대전광역시 유성구
3 주지호 대전광역시 유성구
4 최광성 대전광역시 유성구
5 문석환 대전광역시 유성구
6 오진혁 대전광역시 유성구
7 윤호경 대전광역시 유성구
8 이찬미 대전광역시 유성구
9 장기석 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 고려 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2023.06.02 수리 (Accepted) 1-1-2023-0611997-35
2 [심사청구]심사청구서·우선심사신청서
2023.07.10 수리 (Accepted) 1-1-2023-0757903-44
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번호 청구항
1 1
제1 구조체; 및경화성 반응기를 포함하되,상기 제1 구조체는 실란 및 아이소헥사이드가 실릴 에테르 결합을 통해 화학적으로 결합한 구조를 가지는, 유무기 화합물
2 2
제 1항에 있어서, 상기 유무기 화합물은 하기 화학식1을 만족하는 유무기 화합물
3 3
제1 항에 있어서, 상기 실릴 에테르기에 결합하는 실록산기를 더 포함하는, 유무기 화합물
4 4
제1 항에 있어서,0
5 5
제1 항에 있어서,상기 경화성 반응기는 에폭시기, 아민기, 아크릴기, 메타크릴기, 머캅토기, 카르복실기, 비닐기, 나이트로기, 술폰기, 히드록시기, 우레탄기, ureide, isocyanate, 옥세탄기 또는 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 유무기 화합물
6 6
제1 항에 있어서,상기 아이소헥사이드는 아이소 소바이드, 아이소 만나이드, 아이소 이다이드 및 이들의 조합 중에서 적어도 하나를 포함하는 유무기 화합물
7 7
제1 항에 있어서, 상기 유무기 화합물은 하기 화학식 2를 만족하는 유무기 화합물
8 8
실란 화합물을 준비하는 것;아이소헥사이드를 준비하는 것; 및상기 실란 화합물과 상기 아이소헥사이드를 반응시키는 것을 포함하되,상기 실란 화합물과 상기 아이소헥사이드를 반응시킴으로써 실릴 에테르 결합이 형성되는, 유무기 화합물 제조방법
9 9
제8항에 있어서, 상기 실란 화합물은 하기 화학식 4 내지 7로 또는 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는, 유무기 화합물 제조 방법
10 10
제9 항에 있어서,총 반응물에 대해 상기 화학식4, 5, 6의 실란 화합물의 몰비는 f,총 반응물에 대해 상기 화학식 7의 실란 화합물의 몰비는 g,총 반응물에 대해 상기 아이소헥사이드의 몰비는 h로 정의 되고,0
11 11
제8 항에 있어서,실록산 결합을 형성하는 것을 더 포함하는, 유무기 화합물 제조방법
12 12
제11 항에 있어서,상기 실록산 결합을 형성하는 것은 상기 실란 화합물 간 가수 반응 또는 축합 반응 중 하나 이상의 반응을 진행하는 것을 포함하는, 유무기 화합물 제조방법
13 13
제11 항에 있어서,상기 실란 화합물과 상기 아이소헥사이드의 반응시키는 것; 및 상기 실록산 결합을 형성하는 것을 촉진하도록 촉매를 사용하는 것을 더 포함하고,상기 촉매는 아세트산, 염산, 불화수소, 황산, 질산, 클로로설폰산, 요오드산, 피로인산 등의 산성 촉매, 수산화칼륨, 수산화나트륨, 수산화바륨, 이미다졸 등의 염기성 촉매, 및 이온교환 수지, 물 및 이들의 조합들로 이루어진 군 중 하나인, 유무기 화합물 제조방법
14 14
제9 항에 있어서,상기 실란 화합물이 포함하는 경화성 반응기는 에폭시기 그리고/또는 옥세탄기인 유무기 화합물 제조방법
15 15
제14 항에 있어서,상기 실란 화합물은 5,6-epoxyhexyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltriethoxysilane, 3-Ethyl-3-[[3-(triethoxysilyl)propoxy]methyl]oxetane, 7-trimethoxysilyl-4-thia-heptanoic acid-(3-ethyl-oxetan-3-yl)methyl ester, N-(3-triethoxysilylpropyl)-(3-ethyloxetan-3-yl)-methyl carbamate, 2-(3-triethoxysilylpropylthio)succinic acid-bis-[(3-ethyloxetane-3-yl)-methyl]ester, (3,4-epoxycyclohexyl)ethyldimethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyl(methyl)dimethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl)ethyldiethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyl(methyl)diethoxysilane, (2-(7-oxabicyclo[4
16 16
제8 항에 있어서,상기 실란 화합물이 포함하는 경화성 반응기는 아민기, Ureide기, Isocyanate기, 및 Mercapto기 중 하나 이상을 포함하는 유무기 화합물 제조방법
17 17
제14 항에 있어서,상기 실란 화합물은 4-aminobutyltriethoxysilane, 4-amino-3,3-dimethylbutyltrimethoxysilane, N-2-(Aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-(6-aminohexyl)aminomethyltriethoxysilane, N-(6-aminohexyl)aminopropyltrimethoxysilane, n-(2-aminoethyl)-11-aminoundecyltrimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylsilanetriol, 3-Aminopropyltrimethoxysilane, 3-Aminopropyltriethoxysilane, 3-Triethoxysilyl-N-(1,3 dimethyl-butylidene) propylamine, N-Phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-(Vinylbenzyl)-2-aminoethyl3-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride, 3-(m-aminophenoxy)propyltrimethoxysilane, m-aminophenyltrimethoxysilane, p-aminophenyltrimethoxysilane, aminophenyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltris(methoxyethoxyethoxy)silane, 11-aminoundecyltriethoxysilane, 2-(4-pyridylethyl)triethoxysilane, 2-(2-pyridylethyl)trimethoxysilane, N-(3-trimethoxysilylpropyl)pyrrole, 3-aminopropylsilanetriol, (aminoethylaminomethyl)phenethyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltrialkoxysilane, 3-isocyanatepropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, N-2-(Aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylmethyldiethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminoisobutylmethyldimethoxysilane, 4-amino-3,3-dimethylbutylmethyldimethoxysilane, 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, 3-Mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 1-amino-2-(dimethylethoxysilyl)propane, 3-aminopropyldiisopropylethoxysilane, 3-aminopropyldimethylethoxysilane, 및 N-(2-aminoethyl)-3-aminoisobutyldimethylmethoxysilane 중 어느 하나인 유무기 화합물 제조방법
18 18
제1 구조체 및 경화성 반응기를 포함하는 유무기 화합물; 및경화제를 포함하되,상기 제1 구조체는 실란 및 아이소헥사이드가 실릴 에테르 결합을 통해 화학적으로 결합한 구조를 가지고,상기 경화성 반응기는 에폭시기, 옥세탄기 또는 이들의 조합 중 어느 하나인 경화성 조성물
19 19
제18 항에 있어서,개시제;반응성 희석제; 및첨가제를 더 포함하고,상기 경화제는: 경화성 반응기로 아민기, Ureide기, Isocyanate기 또는 Mercapto기를 갖는 실릴 에테르 아이소헥사이드 기반 유무기 화합물, 산무술 계열 경화제, 아민 계열 경화제, 이미다졸 계열 경화제, 카르복실산 계열 경화제, 포스핀 계열 경화제, 요소 유도체 계열 경화제 및 이들의 조합 중 어느 하나이고, 상기 개시제는 광산발생제, 광염발생제, 열산발생제 및 이들의 조합중 어느 하나이고, 상기 반응성 희석제는 에폭시 반응성 희석제, 옥세탄 반응성 희석제, 폴리에틸렌 글리콜 및 이들의 조합 중 어느 하나이고, 상기 첨가제는 그래핀, 탄소나노튜브, 풀러렌, 육각형질화붕소, 질화붕소나노튜브, 알루미나, 맥신 및 이들의 조합 중 어느 하나인 경화성 조성물
20 20
제 18항에 있어서,상기 제1 구조체는 실록산 결합을 더 포함하는, 경화성 조성물
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.