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a) 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제1 용매에 용해시켜, 제1 혼합용액을 제조하는 단계;b) 상기 제1 혼합용액에 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 투입하고 교반하여 침전물을 생성하는 단계; 및 c) 상기 침전물을 열처리하여 하기 화학식 3으로 표시되고, 표면개질 효율을 향상시키는 관능기를 갖는 질화붕소를 생성하는 단계를 포함하는, 질화붕소의 제조방법
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제1 항에 있어서, 상기 제1 용매는 메탄올(methanol), 에탄올(ethanol), 프로판올(propanol), 이소프로판올(isopropanol), 부탄올(butanol), 아세톤(acetone), 에테르(ether), 벤젠(benzene), 클로로포름(chloroform), 에틸아세테이트(ethyl acetate), 메틸렌클로라이드(methylene chloride), 헥산(hexane) 및 시클로헥산(cyclohexane)으로 이루어진 그룹에서 선택된 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 질화붕소의 제조방법
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제1 항에 있어서, 상기 b) 단계에서, 상기 침전물은 상기 제1 혼합용액으로부터 여과하여 수득되는 것을 특징으로 하는 질화붕소의 제조방법
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제1 항에 있어서, 상기 c) 단계의 상기 열처리는 700℃ 내지 900℃의 온도범위에서 수행되는 것을 특징으로 하는 질화붕소의 제조방법
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제4 항에 있어서, 상기 열처리는 질소분위기에서 30분 내지 120분 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 질화붕소의 제조방법
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제1 항에 있어서, 상기 관능기는 히드록시기(-OH) 또는 아민기(-NH2)인 것을 특징으로 하 는 질화붕소의 제조방법
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제1 항에 있어서, d) 상기 질화붕소를 제2 용매에 분산시켜, 제2 혼합용액을 제조하는 단계를 더 포함하는 질화붕소의 제조방법
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8
제7 항에 있어서, 상기 제2 혼합용액에 락트산을 투입하고 교반하여, 상기 질화붕소의 표면 개질 공정을 수행하는 것을 특징으로 하는 질화붕소의 제조방법
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9
제8 항에 있어서, 상기 표면 개질 공정은 25 ℃ 내지 120℃의 온도분위기에서 수행되는 것을 특징으로 하는 질화붕소의 제조방법
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제9 항에 있어서, 상기 표면 개질 공정 후, 표면이 개질된 상기 질화붕소를 에틸아세테이트 (ethyl acetate) 또는 아세톤(acetone)으로 세척하는 것을 특징으로 하는 질화붕소의 제조방법
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제7 항에 있어서,상기 제2 용매는 디메틸술폭사이드(DMSO), N-메틸-2-피롤리돈(NMP), N,N-디메틸아세트아미드(DMAc), 헥사메틸포스포아미드(HMPA), N,N,N',N'-테트라메틸 우레아(TMU) 및 N,N-디메틸포름아마이드(DMF)로 이루어진 그룹에서 선택된 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 질화붕소의 제조방법
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제1 항 내지 제11 항중 어느 한 항에 의해 제조되고 하기 화학식 3으로 표시된 질화붕소와, 상기 질화붕소와 혼합되어 분산된 폴리머 성분을 포함하는 고분자 복합재
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제12 항에 있어서, 상기 폴리머 성분은 실리콘/실록산, 페놀 수지, 에폭시 수지, 폴리-부 타디엔, 폴리이미드, 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄, 폴리(메틸 메타크릴레이트)(PMMA), 아크릴로니트릴 부타디엔 스티렌(ABS), 폴리락트산, 폴리벤즈이미다졸(PBO 및 PBI), 폴리 카보네이트(PC), 폴리에테르 설폰(PES), 폴리 에테르 에테르 케톤(PEEK), 폴리에테르이미드 (PEI), 폴리에틸렌(PE), 폴리페닐렌 옥사이드(PPO), 폴리페닐렌 설파이드(PPS), 폴리설폰, 폴리프로필렌(PP), 폴리스티렌(PS), 폴리염화비닐(PVC), 폴리(디메틸실록산) 및 플루오로폴 리머로 이루어진 그룹에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 고분자 복합재
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제12 항에 있어서,상기 고분자 복합재는 2
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