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2차원 상전이 물질 기반 소자

  • 기술번호 : KST2024000424
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 2차원 상전이 물질 기반 소자가 개시된다. 일 실시예에 따른 2차원 상전이 물질 기반 소자는, 상부 전극; 하부 전극; 및 상기 상부 전극 및 상기 하부 전극 사이에 개재된 채, 전압이 인가됨에 응답하여 반도체 구조상 및 준금속성 구조상 사이에서 상변화를 발생시키는 상변화층을 포함할 수 있다.
Int. CL H10N 70/00 (2023.01.01) G02F 1/015 (2006.01.01)
CPC H10N 70/826(2013.01) H10N 70/841(2013.01) H10N 70/8828(2013.01) G02F 1/0151(2013.01) G02F 2202/32(2013.01) G02F 2203/50(2013.01)
출원번호/일자 1020220067795 (2022.06.02)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2023-0167652 (2023.12.11) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2022.06.02)
심사청구항수 19

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유경식 대전광역시 유성구
2 박정훈 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 양성보 대한민국 서울특별시 강남구 선릉로***길 ** (논현동) 삼성빌딩 *층(피앤티특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2022.06.02 수리 (Accepted) 1-1-2022-0582332-90
2 특허고객번호 정보변경(경정)신고서·정정신고서
2023.01.31 수리 (Accepted) 4-1-2023-5023571-05
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2023.04.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 특허고객번호 정보변경(경정)신고서·정정신고서
2023.05.04 수리 (Accepted) 4-1-2023-5110236-33
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
2차원 상전이 물질 기반 소자에 있어서, 상부 전극; 하부 전극; 및 상기 상부 전극 및 상기 하부 전극 사이에 개재된 채, 전압이 인가됨에 응답하여 반도체 구조상 및 준금속성 구조상 사이에서 상변화를 발생시키는 상변화층을 포함하는 2차원 상전이 물질 기반 소자
2 2
제1항에 있어서,상기 상변화층은, 상기 반도체 구조상 및 상기 준금속성 구조상 각각에서 상이한 전류 값을 갖는 전기적 스위칭과 상기 반도체 구조상 및 상기 준금속성 구조상 각각에서 상이한 광 반사율을 갖는 광 변조를 동시에 수행하는 것을 특징으로 하는 2차원 상전이 물질 기반 소자
3 3
제2항에 있어서, 상기 상변화층은, 문턱 전압 이상의 값을 갖는 제1 전압이 인가됨에 응답하여 상기 반도체 구조상으로부터 상기 준금속성 구조상으로 상변화를 발생시켜 턴 온되고, 상기 제1 전압과 반대 방향의 제2 전압이 인가됨에 응답하여 상기 준금속성 구조상으로부터 상기 반도체 구조상으로 상변화를 발생시켜 턴 오프되는 것을 특징으로 하는 2차원 상전이 물질 기반 소자
4 4
제2항에 있어서, 상기 상변화층은, 가시광 파장 대역의 광 신호에 대해 상기 광 변조를 수행하는 것을 특징으로 하는 2차원 상전이 물질 기반 소자
5 5
제4항에 있어서,상기 상부 전극은, 상기 광 신호를 투과시키기 위해 기 설정된 값 이상의 투명도를 갖는 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 2차원 상전이 물질 기반 소자
6 6
제2항에 있어서, 상기 2차원 상전이 물질 기반 소자는, 상기 상변화층이 상기 전기적 스위칭을 수행함에 따라 상기 반도체 구조상에 대응하는 저항 상태 및 상기 준금속성 구조상에 대응하는 저항 상태로 데이터들을 나타내는 메모리로 사용되는 것을 특징으로 하는 2차원 상전이 물질 기반 소자
7 7
제2항에 있어서, 상기 2차원 상전이 물질 기반 소자는, 상기 상변화층이 상기 광 변조를 수행함에 따라 광 변조기로 사용되는 것을 특징으로 하는 2차원 상전이 물질 기반 소자
8 8
제6항 또는 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 2차원 상전이 물질 기반 소자는, 상기 메모리 및 상기 광 변조기로 동시에 사용되는 것을 특징으로 하는 2차원 상전이 물질 기반 소자
9 9
제1항에 있어서, 상기 상변화층은, 이텔루륨화 몰리브덴(MoTe2)으로 형성되는 것을 특징으로 하는 2차원 상전이 물질 기반 소자
10 10
제1항에 있어서,상기 하부 전극은, 광 반사 특성이 기 설정된 값 이상인 물질 또는 상기 상변화층으로의 메탈 이온 침투를 발생시키지 않는 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 2차원 상전이 물질 기반 소자
11 11
2차원 상전이 물질 기반 소자에 있어서, 상부 전극; 하부 전극; 및 상기 상부 전극 및 상기 하부 전극 사이에 개재된 채, 전압이 인가됨에 응답하여 반도체 구조상 및 준금속성 구조상 사이에서 상변화를 발생시킴으로써, 상기 반도체 구조상에서의 전류 값과 상기 준금속성 구조상에서의 전류 값이 상이한 전기적 스위칭 및 상기 반도체 구조상에서의 광 반사율과 상기 준금속성 구조상에서의 광 반사율이 상이한 광 변조를 동시에 수행하는 상변화층을 포함하는 2차원 상전이 물질 기반 소자
12 12
메모리 및 광 변조기로 동시에 사용되는 소자를 구성하도록 상부 전극 및 하부 전극 사이에 개재되는 상변화층에 있어서,상기 상변화층은, 전압이 인가됨에 응답하여 반도체 구조상 및 준금속성 구조상 사이에서 상변화를 발생시키는 상변화층
13 13
제12항에 있어서,상기 상변화층은, 상기 반도체 구조상 및 상기 준금속성 구조상 각각에서 상이한 전류 값을 갖는 전기적 스위칭과 상기 반도체 구조상 및 상기 준금속성 구조상 각각에서 상이한 광 반사율을 갖는 광 변조를 동시에 수행하는 것을 특징으로 하는 상변화층
14 14
제13항에 있어서, 상기 상변화층은, 문턱 전압 이상의 값을 갖는 제1 전압이 인가됨에 응답하여 상기 반도체 구조상으로부터 상기 준금속성 구조상으로 상변화를 발생시켜 턴 온되고, 상기 제1 전압과 반대 방향의 제2 전압이 인가됨에 응답하여 상기 준금속성 구조상으로부터 상기 반도체 구조상으로 상변화를 발생시켜 턴 오프되는 것을 특징으로 하는 상변화층
15 15
제13항에 있어서, 상기 상변화층은, 가시광 파장 대역의 광 신호에 대해 상기 광 변조를 수행하는 것을 특징으로 하는 상변화층
16 16
제15항에 있어서,상기 상변화층은, 상기 상부 전극이 상기 광 신호를 투과시키기 위해 기 설정된 값 이상의 투명도를 갖는 물질로 형성됨에 따라, 상기 광 신호를 수광하는 것을 특징으로 하는 상변화층
17 17
제13항에 있어서,상기 소자는, 상기 상변화층이 상기 전기적 스위칭 및 상기 광 변조를 동시에 수행함으로써 상기 메모리 및 상기 광 변조기로 동시에 사용되는 것을 특징으로 하는 상변화층
18 18
제12항에 있어서, 상기 상변화층은, 이텔루륨화 몰리브덴(MoTe2)으로 형성되는 것을 특징으로 하는 상변화층
19 19
제12항에 있어서,상기 상변화층은, 광 반사 특성이 기 설정된 값 이상인 물질로 형성되는 가운데, 상기 하부 전극으로부터의 메탈 이온 침투가 발생되지 않는 것을 특징으로 하는 상변화층
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패밀리정보가 없습니다
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