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허니콤(honeycomb) 형상의 구조를 가지며,자성재료 코팅층이 코팅된 것을 특징으로 하는,전자파 흡수 구조체
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청구항 1에 있어서,상기 허니콤 형상은 동일한 크기를 가진 복수 개의 단위 셀(cell)이 결합되어 형성되며,상기 단위 셀은 중공이 형성된 육각 기둥 형상으로 형성된 것을 특징으로 하는,전자파 흡수 구조체
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청구항 2에 있어서,상기 단위 셀은 이웃하는 단위 셀과 옆면이 접하여 결합된 것을 특징으로 하는,전자파 흡수 구조체
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4
청구항 2에 있어서,상기 자성재료 코팅층은 상기 단위 셀의 옆면에 코팅된 것을 특징으로 하는,전자파 흡수 구조체
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5
청구항 4에 있어서,상기 자성재료 코팅층의 자성재료는 센더스트(sendust)가 에폭시(epoxy)에 분산된 것을 특징으로 하는,전자파 흡수 구조체
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6
청구항 5에 있어서,상기 센더스트의 비율은 상기 에폭시 100 중량%를 기준으로 30 중량% 이상인 것을 특징으로 하는,전자파 흡수 구조체
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7
청구항 5에 있어서,상기 자성재료 코팅층의 두께는 0
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8
청구항 5에 있어서,상기 전자파 흡수 구조체의 높이는 220mm~270mm인 것을 특징으로 하는,전자파 흡수 구조체
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9
청구항 5에 있어서,0
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중공이 형성된 육각 기둥 형상의 복수 개의 단위 셀(cell)을 제작하는 단계;복수 개의 상기 단위 셀의 옆면에 자성재료를 코팅하는 단계; 및복수 개의 상기 단위 셀 각각이 이웃하는 단위 셀과 옆면이 접하도록 결합하여 허니콤(honeycomb) 형상의 구조로 제작하는 단계를 포함하여,0
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청구항 10에 있어서,상기 자성재료 코팅층의 자성재료는 센더스트(sendust)가 에폭시(epoxy)에 분산된 것을 특징으로 하는,전자파 흡수 구조체 제조 방법
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12
청구항 10에 있어서,상기 센더스트의 비율은 상기 에폭시 100 중량%를 기준으로 30 중량% 이상인 것을 특징으로 하는,전자파 흡수 구조체 제조 방법
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13
청구항 10에 있어서,상기 자성재료를 코팅하는 단계에 의한 상기 자성재료 코팅층의 두께는 0
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청구항 10에 있어서,상기 허니콤(honeycomb) 형상의 구조로 제작된 상기 전자파 흡수 구조체의 높이는 220mm~270mm인 것을 특징으로 하는,전자파 흡수 구조체 제조 방법
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