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리튬 이차전지용 음극, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 리튬 이차전지

  • 기술번호 : KST2015123494
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 다공성 실리콘층을 포함하는 리튬 이차전지용 음극, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 리튬 이차전지에 관한 것으로, 본 발명에 따르면, 다공성 실리콘층; 상기 다공성 실리콘층과 접전체 사이에 탄소층을 포함하는 구조로 개선함으로써, 충/방전 시에 발생하는 부피변화를 효과적으로 제어하고, 집전체와 우수한 전도성 및 밀착력을 가지는 리튬 이차전지용 음극은 용량 및 사이클 특성이 향상되며, 이를 이용한 리튬 이차전지는 고출력, 고용량, 장수명의 특징을 갖는다.
Int. CL H01M 4/1393 (2010.01) H01M 10/052 (2010.01) H01M 4/38 (2006.01) H01M 4/583 (2010.01) H01M 4/134 (2010.01) H01M 4/1395 (2010.01)
CPC H01M 4/133(2013.01) H01M 4/133(2013.01) H01M 4/133(2013.01) H01M 4/133(2013.01) H01M 4/133(2013.01) H01M 4/133(2013.01) H01M 4/133(2013.01) H01M 4/133(2013.01) H01M 4/133(2013.01)
출원번호/일자 1020140043949 (2014.04.14)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-1654047-0000 (2016.08.30)
공개번호/일자 10-2015-0118304 (2015.10.22) 문서열기
공고번호/일자 (20160905) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.04.14)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최원창 대한민국 경기도 성남시 분당구
2 강봉조 대한민국 서울특별시 관악구
3 김아영 대한민국 서울특별시 성북구
4 김정섭 대한민국 경상남도 김해시 활천로**번길
5 김태용 대한민국 서울특별시 성북구
6 마틴 할림 인도네시아 서울특별시 성북구
7 우주만 대한민국 서울특별시 노원구
8 이규하 대한민국 서울특별시 성동구
9 이용호 대한민국 인천광역시 연수구
10 이정연 대한민국 인천광역시 남구
11 이중기 대한민국 서울특별시 강남구
12 이지은 대한민국 충청남도 홍성군
13 정민기 대한민국 경상북도 구미시
14 정훈기 대한민국 부산광역시 연제구
15 황태진 대한민국 서울특별시 성북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인충현 대한민국 서울특별시 서초구 동산로 **, *층(양재동, 베델회관)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2014.04.14 수리 (Accepted) 1-1-2014-0350607-44
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2014.09.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2014.10.14 수리 (Accepted) 9-1-2014-0079117-02
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2015.04.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0289498-13
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2015.06.29 수리 (Accepted) 1-1-2015-0624326-58
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2015.07.17 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0692381-87
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2015.07.17 수리 (Accepted) 1-1-2015-0692378-49
8 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2015.12.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0910217-13
9 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2016.02.29 수리 (Accepted) 1-1-2016-0194717-11
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2016.03.28 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2016-0293113-00
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.03.28 수리 (Accepted) 1-1-2016-0293102-08
12 등록결정서
Decision to grant		 2016.08.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0618228-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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집전체; 집전체 상에 형성된 탄소재 코팅층; 및 상기 탄소재 코팅층 상에 형성된 다수의 실리콘 기둥을 포함하는 다공성 실리콘층;을 포함하며, 상기 탄소재 코팅층은 RF 마그네트론 스퍼터링 방법으로 형성되며,상기 다공성 실리콘층은 실리콘으로만 구성되고,상기 다공성 실리콘층의 두께는 0
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3 3
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8 8
Ⅰ) 집전체 상에 RF 마그네트론 스퍼터링을 이용하여 탄소재 코팅층을 증착하는 단계;Ⅱ) 상기 탄소재 코팅층 상에 플라즈마 여기된 화학증착법(PECVD)을 이용하여 실리콘층을 증착하는 단계;Ⅲ) 상기 실리콘층을 불산, 은 이온 및 질산 이온을 포함하는 식각액으로 처리하는 단계; 및Ⅳ) 상기 식각된 실리콘층으로부터 질산을 이용하여 식각액을 용해하여 다수의 실리콘 기둥을 포함하는 다공성 실리콘층을 제조하는 단계;를 포함하며,상기 탄소재 코팅층의 두께는 0
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10 10
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11 11
양극 활물질, 도전재 및 바인더를 포함하는 양극;제1항에 따른 리튬 이차전지용 음극;상기 양극과 음극 사이에 존재하는 분리막; 및상기 양극, 음극 및 분리막이 함침된 전해질을 포함하는 리튬 이차전지
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 한국과학기술연구원 기후변화대응 기술개발사업 리튬이차전지용 전극소재 자기완화형 구조제어 및 계면기능제어 기술개발