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Cu2O 박막에 Pb을 도핑하여 박막 성장 방향을 제어하되,Pb이 도핑된 Cu2O 박막은 전착법을 이용하여 형성되고, (100)면이 우선 배향 성장하며, 홀이동도가 272cm2/Vs 내지 439cm2/Vs이고, 비저항이 9
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제 1 항에 있어서,상기 Pb이 도핑된 Cu2O 박막은, 삼각뿔 형태로 성장하는 것을 특징으로 하는, Pb이 도핑된 Cu2O 박막
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제 1 항에 있어서,상기 Pb이 도핑된 Cu2O 박막은 Cu 50 내지 65원자%, O 32 내지 45원자% 및 Pb 3 내지 10원자%를 포함하는 것을 특징으로 하는, Pb이 도핑된 Cu2O 박막
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제 1 항에 있어서,상기 Pb이 도핑된 Cu2O 박막은 p형 반도체인 것을 특징으로 하는, Pb이 도핑된 Cu2O 박막
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제 1 항에 있어서,상기 Pb이 도핑된 Cu2O 박막은 pH 8~12 및 온도 60℃~90℃에서 전착법을 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는, Pb이 도핑된 Cu2O 박막
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제 1 항, 제3항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 따른 Pb이 도핑된 Cu2O 박막을 포함하는 것을 특징으로 하는, 광전자소자
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제 1 항, 제3항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 따른 Pb이 도핑된 Cu2O 박막을 포함하는 것을 특징으로 하는, 트랜지스터
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