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히알루론산(HA);소수성 고분자; 및용매를 포함하는 방사액을 전기방사하여 제조된 마스크 시트이며,상기 마스크 시트는 피부에 부착시 피부에 접촉되는 부위가 수분에 의해 스웰링(swelling)되거나 부분적으로 녹아 피부에 밀착되는 것을 특징으로 하는 마스크 시트
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제1항에 있어서,상기 소수성 고분자는 폴리-ε-(카프로락톤)(Polycaprolactone, PCL), 키토산(Chitosan), 폴리아미드(polyamide), 폴리락트산(Poly-L-Lactic Acid, PLLA), 폴리락트산-글리콜산공중합체(poly(lactic-co-glycolic acid), PLGA), 폴리안하이드리드(polyanhydrides), 폴리아크릴산(polyacrylic acid), 폴리-N-이소프로필아크릴아마이드(Poly-N-isopropyl acrylamide), 폴리비닐리덴 플루오라이드(Polyvinylidene fluoride; PVDF), 폴리(비닐리덴플루오라이드-코-헥사플루오로프로필렌)(Poly(vinylidene fluoride-co-hexa fluoropropylene), 퍼풀루오로폴리머(Perfluoropolymer), 폴리비닐클로라이드(Polyvinyl chloride; PVC), 폴리비닐리덴 클로라이드(Polyvinylidene chloride; PVDC), 폴리에틸렌글리콜 디알킬에테르(Polyethyleneglycol dialkylether), 폴리에틸렌글리콜 디알킬에스터(Polyethyleneglycol dialkylester), 폴리(옥시메틸렌-올리고-옥시에틸렌)(Poly(oxymethylene-oligo-oxyethylene), 폴리프로필렌옥사이드(Polypropylene oxide;PPO), 폴리비닐아세테이트(Polyvinylacetate), 폴리(비닐피롤리돈-비닐아세테이트)(Poly(vinylpyrrolidone-vinylacetate), 폴리스티렌(Polystyrene; PS), 폴리아크릴로니트릴(PAN), 폴리메틸메타크릴레이트(Polymethylmethacrylate), 폴리아마이드(Polyamide), 폴리이미드(Polyimide), 폴리(메타-페닐렌 이소프탈아미이드)(Poly(meta-phenylene isophthalamide), 폴리설폰(Polysulfone), 폴리에테르케톤(Polyetherketone), 폴리에테르이미드(Polyetherimide), 폴리에틸렌텔레프탈레이트(Polyethylene terephthalate), 폴리에틸렌 나프탈레이트(Polyethylene naphthalate), 폴리에스터(Polyester), 폴리테트라플루오로에틸렌(Poly(1,1,2,2-tetrafluoroethylene)), 폴리포스파젠(Polyphosphazene), 폴리우레탄(Polyurethane), 셀룰로오스 아세테이트(Cellulose acetate), 이들의 공중합체 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인, 마스크 시트
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제1항에 있어서,상기 히알루론산은 방사액 총 중량의 0
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제1항에 있어서,상기 소수성 고분자는 방사액 총 중량의 1 내지 20 중량%인, 마스크 시트
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제1항에 있어서,상기 용매는 방사액 총 중량의 70 내지 98
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제1항에 있어서,상기 용매는 포름산(Formic acid)인, 마스크 시트
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제1항에 있어서,상기 마스크 시트의 함수율은 100 내지 5000% 인, 마스크 시트
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제1항에 있어서,상기 마스크 시트의 두께는 0
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제1항에 있어서,상기 마스크 시트가 나노섬유로 이루어진, 마스크 시트
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제9항에 있어서,상기 나노섬유의 직경은 55nm 내지 100㎛인, 마스크 시트
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제1항에 있어서,상기 히알루론산의 분자량은 5000 내지 2000만 Da인, 마스크 시트
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제1항에 있어서,상기 마스크 시트가 완전한 100% 스웰링(100% swelling) 상태를 1 내지 48시간 유지되는, 마스크 시트
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S1) 히알루론산, 소수성 고분자 및 용매를 포함하는 방사액을 준비하는 단계;S2) 기판 위에 지지대를 올리고, 상기 방사액을 지지대 위에 전기방사하는 단계; 및S3) 상기 기판으로부터 마스크 시트를 떼어내는 단계를 포함하는, 마스크 시트의 제조방법
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제13항에 있어서,상기 S1) 단계에서 소수성 고분자는 폴리-ε-(카프로락톤)(Polycaprolactone, PCL), 키토산(Chitosan), 폴리아미드(polyamide), 폴리락트산(Poly-L-Lactic Acid, PLLA), 폴리락트산-글리콜산공중합체(poly(lactic-co-glycolic acid), PLGA), 폴리안하이드리드(polyanhydrides), 폴리아크릴산(polyacrylic acid), 폴리-N-이소프로필아크릴아마이드(Poly-N-isopropyl acrylamide), 폴리비닐리덴 플루오라이드(Polyvinylidene fluoride; PVDF), 폴리(비닐리덴플루오라이드-코-헥사플루오로프로필렌)(Poly(vinylidene fluoride-co-hexa fluoropropylene), 퍼풀루오로폴리머(Perfluoropolymer), 폴리비닐클로라이드(Polyvinyl chloride; PVC), 폴리비닐리덴 클로라이드(Polyvinylidene chloride; PVDC), 폴리에틸렌글리콜 디알킬에테르(Polyethyleneglycol dialkylether), 폴리에틸렌글리콜 디알킬에스터(Polyethyleneglycol dialkylester), 폴리(옥시메틸렌-올리고-옥시에틸렌)(Poly(oxymethylene-oligo-oxyethylene), 폴리프로필렌옥사이드(Polypropylene oxide;PPO), 폴리비닐아세테이트(Polyvinylacetate), 폴리(비닐피롤리돈-비닐아세테이트)(Poly(vinylpyrrolidone-vinylacetate), 폴리스티렌(Polystyrene; PS), 폴리아크릴로니트릴(PAN), 폴리메틸메타크릴레이트(Polymethylmethacrylate), 폴리아마이드(Polyamide), 폴리이미드(Polyimide), 폴리(메타-페닐렌 이소프탈아미이드)(Poly(meta-phenylene isophthalamide), 폴리설폰(Polysulfone), 폴리에테르케톤(Polyetherketone), 폴리에테르이미드(Polyetherimide), 폴리에틸렌텔레프탈레이트(Polyethylene terephthalate), 폴리에틸렌 나프탈레이트(Polyethylene naphthalate), 폴리에스터(Polyester), 폴리테트라플루오로에틸렌(Poly(1,1,2,2-tetrafluoroethylene)), 폴리포스파젠(Polyphosphazene), 폴리우레탄(Polyurethane), 셀룰로오스 아세테이트(Cellulose acetate), 이들의 공중합체 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인, 마스크 시트의 제조방법
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제13항에 있어서,상기 용매는 포름산인, 마스크 시트의 제조방법
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제13항에 있어서,상기 S3) 단계 이후에 화장료 조성물이 코팅된 이형필름의 일면과 마스크 시트의 일면이 마주하도록 마스크 시트 위에 이형필름을 적층하는 단계를 더 포함하는, 마스크 시트의 제조방법
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