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이산화탄소를 투과시킬 수 있는 복수의 중공사막 및 상기 복수의 중공사막을 수용하는 하우징을 포함하는 반응부;상기 반응부로 이산화탄소를 포함하는 기체를 공급하는 이산화탄소 공급부; 및상기 반응부로 금속 이온을 포함하는 용액을 공급하는 용액 주입부;를 포함하는 광물 탄산화 시스템으로,상기 이산화탄소를 포함하는 기체가 중공사막의 내부(bore)로 공급되는 경우, 상기 금속 이온을 포함하는 용액은 중공사막의 외부(shell)로 공급되며,상기 이산화탄소를 포함하는 기체가 중공사막의 외부(shell)로 공급되는 경우, 상기 금속 이온을 포함하는 용액은 중공사막의 내부(bore)로 공급되는 광물 탄산화 시스템
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제1항에 있어서,상기 광물 탄산화 시스템은 상기 반응부로부터 유출되는 용액을 회수하는 회수부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광물 탄산화 시스템
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제1항에 있어서,상기 중공사막은 내재적 미세기공성 고분자(Polymer of Intrinsic Microporosity), 셀룰로스 아세테이트(cellulose acetate), 나이트로셀룰로스(nitrocellulose), 셀룰로스 에스테르(cellulose esters), 폴리술폰(pholysulfone, PS), 폴리에테르술폰(polyethersulfone, PES), 폴리아크릴로니트릴(polyacrilonitrile, PAN), 폴리아미드(polyamide, PA), 폴리이미드(polyimide, PI), 폴리에테르이미드(polyetherimide, PEI), 폴리에틸렌(polyethylene, PE), 폴리에테르에테르케톤(polyetheretherketone, PEEK), 술폰화 폴리에테르에테르케톤(sulfonated polyetheretherketone, SPEEK), 폴리벤지미다졸(polybenzimidazole, PBI), 폴리비닐알콜(polyvinylalcohol, PVA), 키토산(chitosan), 폴리아크릴산(polyacrylic acid, PAA), 폴리포스파젠(polyphosphazene, PPz), 폴리우레탄(polyurethene, PU), 폴리피롤(polypirrole, PPy), 폴리(소듐스타이렌설포네이트)(poly(sodium styrene sulfonate), PSS), 폴리비닐설페이트(polyvinylsulfate, PVS), 폴리프로필렌(polypropylene, PP), 폴리테트라플루오로에틸렌(polytetrafluoroethylene, PTFE), 폴리비닐리덴 플루오라이드(polyvinylidene fluoride, PVDF), 폴리비닐클로라이드(polyvinylchloride, PVC), 폴리(트리메틸실릴프로핀)(poly(trimethylsilylpropyne), PTMSP), 폴리트리메틸게르밀프로핀(poly(trimethylgermylpropyne), PTMGP), 폴리메틸펜탄(polymethylpentane, PMP), 폴리테트라플루오로에틸렌(Polytetrafluoroethylene, PTFE), 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane, PDMS), 폴리페닐렌옥사이드(polyphenyleneoxide, PPO), 폴리에틸렌옥사이드(polyethyleneoxide, PEO), 에틸셀룰로스(ethylcellulose), 및 폴리카보네이트(polycarbonate, PC)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 광물 탄산화 시스템
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제1항에 있어서,상기 중공사막은 다공성(porous)층을 포함하는 것을 특징으로 하는 광물 탄산화 시스템
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제1항에 있어서,상기 중공사막은 중공사막의 고밀도(dense)의 제1층 및 다공성(porous)의 제2층을 포함하는 것을 특징으로 하는 광물 탄산화 시스템
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제7항에 있어서,상기 중공사막은 제1층 위에 제2층이 적층된 형태인 것을 특징으로 하는 광물 탄산화 시스템
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제7항에 있어서,상기 중공사막은 제2층 위에 제1층이 적층된 형태인 것을 특징으로 하는 광물 탄산화 시스템
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제7항에 있어서,상기 제1층 및 제2층 중 적어도 하나의 층은 내재적 미세기공성 고분자를 포함하는 것을 특징으로 하는 광물 탄산화 시스템
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제7항에 있어서,상기 이산화탄소를 포함하는 기체는 제2층과 접촉하도록 공급되며,상기 금속 이온을 포함하는 용액은 제1층과 접촉하도록 공급되는 것을 특징으로 하는 광물 탄산화 시스템
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제1항에 있어서,상기 중공사막은 소수성인 것을 특징으로 하는 광물 탄산화 시스템
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제1항에 있어서,상기 이산화탄소를 포함하는 기체는 이산화탄소를 포함하는 연도 가스인 것을 특징으로 하는 광물 탄산화 시스템
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제1항에 있어서,상기 금속 이온을 포함하는 용액은 산업 부산물인 것을 특징으로 하는 광물 탄산화 시스템
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제1항에 있어서,상기 금속 이온의 금속은 Ca, Mg, Cd, Mn, Fe, Zn, Co, Pb, Sr, Ba, UO, Na, Cu, K, Li, Rb, Cs, Fr, Be, Ra, Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Rh, Os, Ir 및 Pt 로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 광물 탄산화 시스템
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제1항에 있어서,상기 금속 이온을 포함하는 용액의 pH는 7 내지 14인 것을 특징으로 하는 광물 탄산화 시스템
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제1항의 광물 탄산화 시스템을 이용한 광물 탄산화 방법으로,상기 반응부 내부로 이산화탄소를 포함하는 기체를 공급하는 단계; 및상기 반응부로 금속 이온을 포함하는 용액을 공급하는 단계;를 포함하는 광물 탄산화 방법
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제17항에 있어서,상기 광물 탄산화 방법은상기 반응부로부터 유출되는 용액을 회수하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광물 탄산화 방법
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