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3 차원 세포의 외측의 적어도 일부를 감싸도록 형성된 신축 가능한 가요성 기판(flexible substrate); 및상기 가요성 기판의 일부 영역 상에 형성된 전도체(conductor)를 포함하고,상기 가요성 기판 상에 상기 가요성 기판과 동일한 재질로 형성된 복수의 돌출부(protrusion)를 포함하고,상기 복수의 돌출부는,상기 가요성 기판의 중심으로부터 제1 방향으로 형성된 제1 돌출부 집합; 및상기 제1 방향과 미리 결정된 각도를 이루고, 상기 중심으로부터 제2 방향으로 형성된 제2 돌출부 집합을 포함하고,상기 전도체는 상기 제1 돌출부 집합 및 상기 제2 돌출부 집합 상에 형성되고,상기 전도체는 상기 제1 돌출부 집합 및 상기 제2 돌출부 집합 각각에 포함된 돌출부들 사이를 곡선의 형태로 연결하도록 형성되는,전기생리 신호 측정 장치
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제1항에 있어서,상기 가요성 기판은 상기 복수의 돌출부를 제외한 영역의 일부가 제거된전기생리 신호 측정 장치
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제1항에 있어서,상기 가요성 기판은 중합체로 형성되는전기생리 신호 측정 장치
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제3항에 있어서,상기 중합체는,폴리이미드(polyimide)를 포함하는전기생리 신호 측정 장치
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제1항에 있어서,상기 전도체는,금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 티타늄(Ti), 이리듐(Ir) 및 이리듐 산화물(IrOx) 중 적어도 하나를 포함하는전기생리 신호 측정 장치
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제1항에 있어서,상기 가요성 기판은 상기 복수의 돌출부 사이가 곡선의 형태로 연결되는 서펜타인(serpentine) 구조로 형성되는전기생리 신호 측정 장치
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제1항에 있어서,상기 가요성 기판은 상기 복수의 돌출부를 중심으로 하는 캔틸레버(cantilever) 구조로 형성되는전기생리 신호 측정 장치
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제1항에 있어서,내측에 상기 가요성 기판이 결합되는 세포 배양웰(cell culture well)을 더 포함하는 전기생리 신호 측정 장치
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신축 가능한 제1 가요성 기판 및 제2 가요성 기판을 결합하여 3 차원 세포의 외측의 적어도 일부를 감싸도록 형성되는 전극 주머니; 및상기 제1 가요성 기판 및 상기 제2 가요성 기판의 일부 영역 상에 형성된 전도체를 포함하고,상기 제1 가요성 기판 및 상기 제2 가요성 기판 상에 상기 제1 가요성 기판 및 상기 제2 가요성 기판과 동일한 재질로 형성된 복수의 돌출부(protrusion)를 포함하고,상기 복수의 돌출부는,상기 제1 가요성 기판 및 상기 제2 가요성 기판의 중심으로부터 제1 방향으로 형성된 제1 돌출부 집합; 및상기 제1 방향과 미리 결정된 각도를 이루고, 상기 중심으로부터 제2 방향으로 형성된 제2 돌출부 집합을 포함하고,상기 전도체는 상기 제1 돌출부 집합 및 상기 제2 돌출부 집합 상에 형성되고,상기 전도체는 상기 제1 돌출부 집합 및 상기 제2 돌출부 집합 각각에 포함된 돌출부들 사이를 곡선의 형태로 연결하도록 형성되는,전기생리 신호 측정 장치
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제9항에 있어서,상기 제1 가요성 기판 및 상기 제2 가요성 기판 각각은 상기 복수의 돌출부를 제외한 영역의 일부가 제거된전기생리 신호 측정 장치
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제9항에 있어서,상기 제1 가요성 기판 및 상기 제2 가요성 기판은 중합체로 형성되는전기생리 신호 측정 장치
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제11항에 있어서,상기 중합체는,폴리이미드(polyimide)를 포함하는전기생리 신호 측정 장치
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제9항에 있어서,상기 전도체는,금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 티타늄(Ti), 이리듐(Ir) 및 이리듐 산화물(IrOx) 중 적어도 하나를 포함하는전기생리 신호 측정 장치
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제10항에 있어서,상기 제1 가요성 기판 및 상기 제2 가요성 기판은 상기 복수의 돌출부 사이가 곡선의 형태로 연결되는 서펜타인(serpentine) 구조로 형성되는전기생리 신호 측정 장치
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제10항에 있어서,상기 제1 가요성 기판 및 상기 제2 가요성 기판은 상기 복수의 돌출부를 중심으로 하는 캔틸레버(cantilever) 구조로 형성되는전기생리 신호 측정 장치
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제9항에 있어서,내측에 상기 전극 주머니가 결합되는 세포 배양웰(cell culture well)을 더 포함하는 전기생리 신호 측정 장치
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3 차원 세포의 외측의 적어도 일부를 감싸도록 가요성 기판을 형성하는 단계;상기 가요성 기판을 식각함으로써 상기 가요성 기판과 동일한 재질의 복수의 돌출부를 생성하는 단계; 및상기 가요성 기판의 일부 영역 상에 전도체를 형성하는 단계를 포함하고,상기 복수의 돌출부는,상기 가요성 기판의 중심으로부터 제1 방향으로 형성된 제1 돌출부 집합; 및 상기 제1 방향과 미리 결정된 각도를 이루고, 상기 중심으로부터 제2 방향으로 형성된 제2 돌출부 집합을 포함하고,상기 전도체는 상기 제1 돌출부 집합 및 상기 제2 돌출부 집합 상에 형성되고,상기 전도체는 상기 제1 돌출부 집합 및 상기 제2 돌출부 집합 각각에 포함된 돌출부들 사이를 곡선의 형태로 연결하도록 형성되는전기생리 신호 측정 장치 제조 방법
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제17항에 있어서,상기 가요성 기판에서 상기 복수의 돌출부를 제외한 영역의 일부를 제거하는 단계를 더 포함하는 전기생리 신호 측정 장치 제조 방법
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제18항에 있어서,상기 복수의 돌출부를 생성하는 단계는,상기 가요성 기판 상에 포토레지스트 층을 형성하는 단계;상기 포토레지스트 층을 가열하여 오버플로우시키는 단계; 및오버플로우된 포토레지스트 층에 기초하여 상기 가요성 기판을 식각함으로써 상기 복수의 돌출부를 생성하는 단계를 포함하는 전기생리 신호 측정 장치 제조 방법
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제19항에 있어서,상기 오버플로우시키는 단계는,가열 시간 및 가열 온도에 기초하여 상기 포토레지스트 층의 경사를 조절하는 단계를 포함하는 전기생리 신호 측정 장치 제조 방법
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제18항에 있어서,상기 제거하는 단계는,상기 복수의 돌출부가 형성된 가요성 기판 상에 금속 마스크 층을 형성하는 단계;상기 금속 마스크 층에 기초하여 상기 가요성 기판에서 상기 복수의 돌출부를 제외한 영역의 일부를 식각하는 단계; 및상기 금속 마스크 층을 제거하는 단계를 포함하는 전기생리 신호 측정 장치 제조 방법
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제17항에 있어서,상기 가요성 기판 하부의 희생층을 제공하는 단계를 더 포함하는 전기생리 신호 측정 장치 제조 방법
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제22항에 있어서,상기 전도체를 형성한 이후, 상기 희생층을 제거하는 단계를 더 포함하는 전기생리 신호 측정 장치 제조 방법
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