1 |
1
임플란트의 픽스쳐 부분의 표면에 제1 펄스 레이저를 조사하여 제1 패턴의 제1 가공부를 형성함으로써 상기 픽스쳐 부분을 친수 처리하는 제1 차 가공단계를 포함하고,상기 제1 패턴은 도트 패턴, 라인 패턴 및 그리드 패턴 중의 적어도 하나를 포함하는, 임플란트 픽스쳐의 친수성 표면처리 방법
|
2 |
2
청구항 1에 있어서,상기 제1 차 가공단계는 1W 내지 10W의 출력을 가지는 상기 제1 펄스 레이저를 상기 픽스쳐 부분에 상기 제1 패턴으로 조사하는 과정을 1회 내지 10회 반복하여 수행하는 단계를 포함하고,상기 제1 차 가공단계에서 상기 제1 펄스 레이저의 가공속도는 1 mm/s 내지 10 mm/s으로 설정되는, 임플란트 픽스쳐의 친수성 표면처리 방법
|
3 |
3
청구항 1에 있어서,상기 제1 차 가공단계 수행 후, 상기 픽스쳐 부분의 표면에 제2 펄스 레이저를 조사하여 상기 제1 패턴과 상이한 제2 패턴의 제2 가공부를 형성함으로써 상기 픽스쳐 부분을 친수 처리하는 제2 차 가공단계를 더 포함하는, 임플란트 픽스쳐의 친수성 표면처리 방법
|
4 |
4
청구항 3에 있어서,상기 제1 가공부는 상기 제1 패턴으로 배열되는 홈부를 포함하고,상기 홈부의 폭에 대한 깊이의 비율은 1 이하이고,상기 홈부의 상기 폭에 대한 피치의 비율은 4 이상이고,상기 피치의 값은 70 ㎛ 내지 100 ㎛인, 임플란트 픽스쳐의 친수성 표면처리 방법
|
5 |
5
청구항 4에 있어서,상기 제2 패턴은 라인 형상인, 임플란트 픽스쳐의 친수성 표면처리 방법
|
6 |
6
청구항 5에 있어서,상기 임플란트의 어버트먼트 부분의 표면에 제3 펄스 레이저를 조사하여 제3 패턴의 가공홈을 형성함으로써 상기 어버트먼트 부분을 소수 처리하는 어버트먼트 가공단계를 더 포함하고,상기 가공홈의 폭에 대한 피치의 비율은 4 미만인, 임플란트 픽스쳐의 친수성 표면처리 방법
|
7 |
7
청구항 6에 있어서,상기 임플란트가 식립될 대상체에 대해 획득된 의료영상으로부터 임플란트 식립 위치의 치조골 두께를 포함하는 치조골 정보를 분석하는 단계;상기 치조골 정보와, 상기 임플란트의 형상 정보를 기반으로, 상기 대상체에 상기 임플란트가 식립된 상태를 모사하는 단계;상기 임플란트가 식립된 상태에서 상기 임플란트와 치조골이 접하는 식립 영역을 분석하는 단계; 및상기 식립 영역을 기초로 상기 임플란트를 상기 픽스쳐 부분과 상기 어버트먼트 부분으로 구획하는 단계를 더 포함하는, 임플란트 픽스쳐의 친수성 표면처리 방법
|
8 |
8
청구항 6에 있어서,상기 임플란트가 식립될 대상체의 치조골의 골밀도 정보를 획득하는 단계; 및상기 골밀도 정보에 따라 상기 제1 가공부, 상기 제2 가공부 및 상기 가공홈의 패턴을 결정하는 단계를 더 포함하는, 임플란트 픽스쳐의 친수성 표면처리 방법
|
9 |
9
청구항 1에 있어서,상기 제1 펄스 레이저는 330 nm 내지 360 nm 파장의 자외선 대역 펨토초 레이저 광인 임플란트 픽스쳐의 친수성 표면처리 방법
|
10 |
10
픽스쳐 부분과 어버트먼트 부분을 포함하는 임플란트로서,상기 픽스쳐 부분의 표면은 제1 펄스 레이저를 조사하여 제1 패턴으로 형성되는 제1 가공부를 포함하고,상기 제1 패턴은 도트 패턴, 라인 패턴 및 그리드 패턴 중의 적어도 하나를 포함하고,상기 픽스쳐 부분은 상기 제1 가공부에 의해 물에 대한 접촉각이 30° 이하인 친수성을 가지는, 임플란트
|
11 |
11
청구항 10에 있어서,상기 픽스쳐 부분의 표면은 제2 펄스 레이저를 조사하여 상기 제1 패턴과 상이한 제2 패턴으로 형성되는 제2 가공부를 더 포함하고,상기 제2 가공부는 상기 제1 가공부와 중첩되게 형성되는, 임플란트
|
12 |
12
청구항 11에 있어서,상기 제1 가공부는 상기 제1 패턴으로 배열되는 홈부를 포함하고,상기 홈부의 폭에 대한 깊이의 비율은 1 이하이고,상기 홈부의 상기 폭에 대한 피치의 비율은 4 이상이고,상기 피치의 값은 70 ㎛ 내지 100 ㎛인, 임플란트
|
13 |
13
청구항 12에 있어서,상기 제2 패턴은 라인 형상인, 임플란트
|
14 |
14
청구항 13에 있어서,상기 임플란트의 어버트먼트 부분의 표면은 제3 펄스 레이저를 조사하여 제3 패턴으로 형성되는 가공홈을 포함하고,상기 가공홈의 폭에 대한 피치의 비율은 4 미만이고,상기 어버트먼트 부분은 상기 가공홈에 의해 물에 대한 접촉각이 30° 초과인 소수성을 가지는, 임플란트
|
15 |
15
친수성 표면을 가지는 픽스쳐 부분과, 소수성 표면을 가지는 어버트먼트 부분을 포함하는 임플란트를 제조하기 위한 임플란트 제조 시스템으로서,상기 임플란트가 식립될 대상체에 대해 획득된 의료영상을 기초로 상기 임플란트를 상기 픽스쳐 부분과 상기 어버트먼트 부분으로 구획하도록 구성되는 구획부; 및상기 구획부에 의해 구획된 상기 픽스쳐 부분의 표면에 제1 펄스 레이저를 조사하여 제1 패턴으로 제1 가공부를 형성하는 임플란트 가공부를 포함하고,상기 제1 패턴은 도트 패턴, 라인 패턴 및 그리드 패턴 중의 적어도 하나를 포함하는, 임플란트 제조 시스템
|
16 |
16
청구항 15에 있어서,상기 구획부는:상기 대상체에 대해 획득된 상기 의료영상으로부터 임플란트 식립 위치의 치조골 두께를 포함하는 치조골 정보를 분석하고;상기 치조골 정보와, 상기 임플란트의 형상 정보를 기반으로, 상기 대상체에 상기 임플란트가 식립된 상태를 모사하고;상기 임플란트가 식립된 상태에서 상기 임플란트와 치조골이 접하는 식립 영역을 분석하고; 그리고상기 식립 영역을 기초로 상기 임플란트를 상기 픽스쳐 부분과 상기 어버트먼트 부분으로 구획하도록 구성되는, 임플란트 제조 시스템
|