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고분자 매트릭스를 이용한 완화형 강유전체 세라믹스 후막 제조방법

  • 기술번호 : KST2014003527
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 미립의 완화형 강유전체 세라믹 분말을 고분자 물질로 된 매트릭스에 균일하게 분산시켜서 유전체 후막을 소결 과정 없이 제조할 수 있는 고분자 매트릭스를 이용한 완화형 강유전체 세라믹스 후막 제조 방법에 관한 것으로, 완화형 강유전체 세라믹스를 미립 상태로 분쇄하는 단계와; 고분자 매트릭스를 용융시키는 단계와; 상기 단계에서 용융된 고분자 매트릭스에 완화형 강유전체 세라믹 분말을 첨가하여, 균일하게 혼합하는 단계와; 상기 혼합물을 기판에 후막으로 형성하는 단계로 이루어진다.완화형 강유전체 세라믹스, 고분자, 적층형 세라믹 콘덴서, 유전체 세라믹스, 스핀 코팅
Int. CL H01G 4/12 (2006.01) C04B 35/634 (2006.01) C04B 35/01 (2006.01)
CPC C04B 35/634(2013.01) C04B 35/634(2013.01) C04B 35/634(2013.01) C04B 35/634(2013.01) C04B 35/634(2013.01) C04B 35/634(2013.01) C04B 35/634(2013.01)
출원번호/일자 1020000059080 (2000.10.07)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0406646-0000 (2003.11.10)
공개번호/일자 10-2002-0027123 (2002.04.13) 문서열기
공고번호/일자 (20031121) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2000.10.07)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김병국 대한민국 서울특별시 성북구
2 박재환 대한민국 서울특별시 마포구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이재화 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 *, 덕천빌딩 *층 이재화특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2000.10.07 수리 (Accepted) 1-1-2000-0210568-17
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2002.08.20 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2002.09.10 수리 (Accepted) 9-1-2002-0018348-53
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2002.12.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2002-0449542-95
6 의견서
Written Opinion		 2003.02.21 수리 (Accepted) 1-1-2003-0060325-14
7 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2003.02.21 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2003-0060324-79
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2003.05.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2003-0177812-05
9 명세서 등 보정서 (심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2003.06.12 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2003-0004612-17
10 등록결정서
Decision to grant		 2003.08.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2003-0313868-08
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
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번호 청구항
1 1

Pb계 완화형 강유전체 세라믹스를 미립 상태로 분쇄하는 세라믹 분말을 얻는 단계와;

폴리프로필렌 고분자 물질을 용융시키는 단계와;

상기 용융된 고분자 물질에 상기 강유전체 세라믹 분말을 첨가하여, 균일하게 혼합하여 혼합물을 얻는 단계와;

상기 혼합물을 기판에 후막으로 형성하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 고분자 매트릭스를 이용한 완화형 강유전체 세라믹스 후막 제조 방법

2 2

제 1항에 있어서, 상기 Pb계 완화형 강유전체 세라믹스는 Pb(B'2+1/3B"5+2/3)O3계와 Pb(B'3+1/2B"5+1/2)O3계 중에서 어느 하나(단, 상기 B'2+는 Mg2+, Ni2+, Zn2+, Cd2+ 중에서 어느 하나이고, B"5+는 Nb5+, Ta5+ 중에서 어느 하나이며, B'3+는 Fe3+, Sc3+, In3+ 중에서 어느 하나이다

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제 1항에 있어서, 상기 Pb계 완화형 강유전체 세라믹스의 첨가량이 10∼90중량%인 것을 특징으로 하는 고분자 매트릭스를 이용한 완화형 강유전체 세라믹스 후막 제조 방법

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP14117738 JP 일본 FAMILY
2 KR100379771 KR 대한민국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP2002117738 JP 일본 DOCDBFAMILY
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