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화학식 1로 표시되는 조성을 갖는 나이오베이트 유전체를 포함하며, 고유전율 및 저유전손실 특성을 갖는, 나노 시트
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제1항에 있어서,상기 나노 시트는 50 nm 내지 50㎛의 평균 직경을 갖는 것을 특징으로 하는, 나노 시트
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제1항에 있어서,상기 나노 시트는 10 nm 이하의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는, 나노 시트
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제1항에 있어서,상기 나노 시트는 10 nm 이하의 두께에서 500 이상의 유전율을 나타내는 것을 특징으로 하는, 나노 시트
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전구체 혼합물을 형성하는 단계;상기 전구체 혼합물을 소결하여 벌크 나이오베이트 유전체를 형성하는 단계; 및상기 벌크 나이오베이트 유전체를 층상으로 박리하여 나노 시트를 형성하는 단계;를 포함하는, 나노 시트 제조 방법
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제5항에 있어서,상기 전구체 혼합물은 K2CO3, SrCO3, Bi2O3, 및 Nb2O5를 포함하는 것을 특징으로 하는, 나노 시트 제조방법
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7
제5항에 있어서,상기 전구체 혼합물은 볼 밀 공정으로 습식 혼합하여 형성하는 것을 특징으로 하는, 나노 시트 제조방법
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8
제5항에 있어서,상기 벌크 나이오베이트 유전체는 700-1300 ℃의 온도로 소결하여 형성하는 것을 특징으로 하는, 나노 시트 제조 방법
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9
제8항에 있어서,소결에 앞서 700-1100℃의 온도에서 5-20 시간 동안 하소하는 것을 특징으로 하는, 나노 시트 제조 방법
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10
복수의 제1항에 따른 나노 시트를 포함하는 유전체층을 포함하며,상기 복수의 나노 시트는 유전체층에서 단층 구조로 배열된, 나이오베이트 유전체 박막
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11
제10항에 있어서,상기 나이오베이트 유전체 박막은 복수의 유전체층을 포함하는 다층 적층 구조를 갖는 것을 특징으로 하는, 나이오베이트 유전체 박막
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12
제10항에 있어서,상기 나이오베이트 유전체 박막은 하부 기판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 나이오베이트 유전체 박막
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13
제10항에 있어서,상기 하부 기판은 전도성 페로브스카이트 기판, 유리 기판, 플라스틱 기판, 금속 전극, 및 산화물/금속/산화물 구조의 산화물 투명 전극으로 구성된 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는, 나이오베이트 유전체 박막
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14
제10항에 있어서,상기 나노 시트는 유전체층에서 90% 이상의 커버리지를 갖는 것을 특징으로 하는, 나이오베이트 유전체 박막
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제10항에 있어서,상기 나이오베이트 유전체 박막은 0
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제10항에 있어서,상기 나이오베이트 유전체 박막은 10 nm 이하의 두께에서 500 이상의 유전율을 나타내는 것을 특징으로 하는, 나이오베이트 유전체 박막
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제1항에 따른 나노 시트가 분산된 분산 용액을 수면 상에 전개하는 단계; 및상기 전개된 나노 시트를 하부 기판 상에 증착시켜 나노 시트를 포함하는 유전체층을 형성하는 단계;를 포함하는, 나이오베이트 유전체 박막 제조 방법
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제17항에 있어서, 상기 증착 단계는 전기영동법 또는 랭뮤어-블로젯법으로 증착되는 것을 특징으로 하는, 나이오베이트 유전체 박막 제조 방법
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19
제17항에 있어서, 증착에 앞서, 전개된 분산 용액을 5-20 분 간 안정화 시키는 것을 특징으로 하는, 나이오베이트 유전체 박막 제조 방법
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20
제17항에 있어서, 상기 증착 단계에서, 소정의 증착 압력을 유지하면서 하부 기판을 이동시켜 유전체층을 형성하는 것을 특징으로 하는, 나이오베이트 유전체 박막 제조 방법
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제17항에 있어서, 상기 증착 단계에서, 0
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제17항에 있어서, 상기 증착 단계에서 증착 압력은 5-30 mN/m 범위로 유지하는 것을 특징으로 하는, 나이오베이트 유전체 박막 제조 방법
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