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반응챔버;상기 반응챔버 내부에 제공되고, 그 표면에 금속박막을 증착하기 위한 기판;상기 금속박막을 구성하는 적어도 하나의 금속물질 타겟을 구비하여, 불활성 가스의 스퍼터링에 의해 상기 금속물질을 상기 기판상에 공급하는 스퍼터 장치; 및상기 금속박막을 구성하는 적어도 하나의 금속물질을 증발시켜 상기 기판상으로 분사하는 증발장치를 포함하며;상기 증발장치의 일측에 부착되어 상기 증발된 금속물질이 상기 기판을 향하여 진행할 수 있도록 가이드하여 상기 기판 상에서의 증기압을 국부적으로 증가시키는 증발 가이드를 구비하고, 상기 증발 가이드는 상기 기판측으로 연장된 것을 특징으로 하는 박막증착장치
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청구항 1에 있어서, 상기 증발 가이드에는 그 내부로 에너지를 공급하기 위한 에너지 공급부가 구비된 것을 특징으로 하는 박막증착장치
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청구항 2에 있어서, 상기 에너지 공급부는 상기 증발 가이드의 외측에 감겨진 히터인 것을 특징으로 하는 박막증착장치
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청구항 1에 있어서, 상기 증발 가이드는 상기 기판측으로 연장되는 연장길이를 조절할 수 있는 것을 특징으로 하는 박막증착장치
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청구항 1에 있어서, 상기 증발장치는 상기 반응챔버의 내부에 설치되는 밀폐형 하우징과, 가스공급관과 연결되어 상기 하우징의 내부에 불활성 가스를 주입하는 가스주입구와; 상기 하우징의 내부에 구비되고, 금속물질을 가열하여 증발시키는 가열수단과; 상기 하우징 내부의 불활성 가스 및 증발된 금속물질을 상기 증발 가이드를 통해 상기 기판측으로 분사하는 분사출구를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막증착장치
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청구항 1에 있어서,상기 반응챔버를 상기 스퍼터 장치가 배치된 스프터링 영역과 상기 기판 상에서의 박막 증착 반응이 일어나는 반응 영역으로 구분하는 분리판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 박막증착장치
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7
청구항 6에 있어서,상기 증발 장치는 상기 반응 영역에 배치된 것을 특징으로 하는 박막증착장치
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청구항 7에 있어서,상기 분리판은 그 양단이 개구된 원추형으로, 상기 반응 영역 측의 개구부가 그 반대측보다 더 좁은 것을 특징으로 하는 박막증착장치
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청구항 8에 있어서,상기 원추형의 분리판에는 상기 증발장치를 상기 기판 측 방향으로 왕복 이송하도록 가이드 하는 이송부를 구비한 것을 특징으로 하는 박막증착장치
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청구항 1 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 있어서,상기 스퍼터링되는 금속물질은 보론이고, 증발되는 금속물질은 마그네슘인 것을 특징으로 하는 박막증착장치
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스퍼터링 장치와 증발장치를 구비한 반응챔버의 내부로 기판을 제공하는 단계; 및상기 스퍼터링 장치로부터 보론을 스퍼터링하여 상기 기판 상으로 공급하고, 동시에 상기 증발장치로 부터 증발된 마그네슘을 상기 기판 상으로 공급하는 단계를 포함하고;상기 증발된 마그네슘은 기판 상에서의 증기압이 국부적으로 높게 유지되도록 하는 것을 특징으로 하는 MgB2 박막증착방법
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청구항 11에 있어서,상기 기판 상에서의 마그네슘의 증기압은 조절 가능한 것을 특징으로 하는 MgB2 박막증착방법
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청구항 11에 있어서,상기 기판은 금속 테이프로, 테이프 앤 릴 방식으로 제공되는 것을 특징으로 하는 MgB2 박막증착방법
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