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물리적겔법을이용한비대칭지지막의제조방법및이로부터제조된비대칭지지막

  • 기술번호 : KST2014013933
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 고분자 및 용매로 이루어진 고분자 용액을 비용매에 침지시켜 상분리법에 의해 비대칭 지지막을 제조하는 방법에 있어서,1) 고분자 용액의 총 중량을 기준으로 15-35 중량%의 고분자를 고분자 용액이 0-50 ℃에서 물리적 겔이 되는 주용매 단독이나 또는 이 주용매에 공용매를 첨가한 혼합 용매에 용해시켜 고분자 용액을 제조하는 단계, 및2) 상기 1) 단계에서 제조된 고분자 용액을 최종 막의 형태로 제조하여 물리적으로 겔화시킨 후 비용매인 물에 침지시켜 상분리를 유도하여 비대칭 지지막을 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 비대칭 지지막의 제조 방법 및 이로부터 제조된 기공의 크기 분포도가 좁고, 투과성 및 기계적 강도가 개선된 비대칭 지지막에 관한 것이다.본 발명에 따른 방법으로 제조된 비대칭 지지막은 스폰지 형태의 다공성 지지막으로서 기공들이 서로 연결된 열린 기공으로 이루어지고 그 기공의 크기 분포도가 좁은 우수한 구조를 갖고 있다. 따라서, 본 발명에 따른 비대칭 지지막은 투과성과 기계적 강도가 향상되고, 나아가 물질 선택성이 높은 소재로 코팅하는데 있어서 기공 크기의 분포도가 좁아 코팅 공정을 최적화할 수 있어 선택도까지 개선된 복합막을 쉽게 제조할 수 있다.
Int. CL B01J 20/26 (2006.01) B01J 13/00 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1019980045378 (1998.10.28)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0291632-0000 (2001.03.14)
공개번호/일자 10-2000-0027446 (2000.05.15) 문서열기
공고번호/일자 (20010807) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1998.10.28)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 원종옥 대한민국 서울특별시 성북구
2 강용수 대한민국 서울특별시 노원구
3 박현채 대한민국 서울특별시 성북구
4 김은영 대한민국 서울특별시 강남구
5 유성현 대한민국 서울특별시 용산구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 주성민 대한민국 서울특별시 종로구 사직로*길 **, 세양빌딩 (내자동) *층(김.장법률사무소)
2 장수길 대한민국 서울특별시 종로구 사직로*길 **, 세양빌딩 (내자동) *층(김.장법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 1998.10.28 수리 (Accepted) 1-1-1998-0386721-62
2 출원심사청구서
Request for Examination		 1998.10.28 수리 (Accepted) 1-1-1998-0359827-70
3 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1998.10.28 수리 (Accepted) 1-1-1998-0359826-24
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.01.08 수리 (Accepted) 4-1-1999-0002352-05
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.01.18 수리 (Accepted) 4-1-1999-0008675-76
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.02.01 수리 (Accepted) 4-1-1999-0025779-69
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.03.03 수리 (Accepted) 4-1-1999-0041039-77
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.05.26 수리 (Accepted) 4-1-1999-0075472-64
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2000.02.03 수리 (Accepted) 4-1-2000-0014117-45
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2000.08.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2000-0208573-90
11 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 2000.10.24 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2000-5322458-81
12 의견서
Written Opinion		 2000.10.24 수리 (Accepted) 1-1-2000-5322457-35
13 등록사정서
Decision to grant		 2001.02.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2001-0042119-71
14 FD제출서
FD Submission		 2001.03.16 수리 (Accepted) 2-1-2001-5043610-27
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
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번호 청구항
1 1

고분자 및 용매로 이루어진 고분자 용액을 비용매에 침지시켜 상분리법에 의해 비대칭 지지막을 제조하는 방법에 있어서,

1) 고분자 용액의 총 중량을 기준으로 15-35 중량%의 고분자를 고분자 용액이 0-50 ℃에서 물리적 겔이 되는 주용매 단독이나 또는 이 주용매에 공용매를 첨가한 혼합 용매에 용해시켜 고분자 용액을 제조하는 단계, 및

2) 상기 1) 단계에서 제조된 고분자 용액을 최종 막의 형태로 제조하여 물리적으로 겔화시킨 후 비용매인 물에 침지시켜 상분리를 유도하여 비대칭 지지막을 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 비대칭 지지막의 제조 방법

2 2

제1항에 있어서, 고분자는 폴리(비닐클로라이드), 폴리에테르술폰, 폴리에테르이미드, 폴리아믹(메틸에스테르)로 이루어진 군으로부터 선택된 것인 방법

3 3

제1항 또는 제2항에 있어서, 용매는 주용매로서 γ-부티로락톤 단독이거나 공용매로서 N-메틸-2-피롤리돈과의 혼합 용매인 방법

4 4

제1항의 방법에 의해 제조된 기공의 크기 분포도가 좁고, 투과성 및 기계적 강도가 개선된 비대칭 지지막

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1 US6486240 US 미국 DOCDBFAMILY
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