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반응 챔버, 상기 반응 챔버 내에 설치되어 도입되는 기판을 지지하는 기판 지지부, 상기 기판 지지부에 설치되어 상기 기판의 온도를 조절하는 기판 온도 조절부, 및 상기 기판 지지부에 대향되게 상기 반응 챔버 내에 설치되어 증착 반응에 참여할 유기물 소스 기상(organic source gas phase)을 상기 기판 상으로 균일하게 분배하는 샤워헤드(shower head)를 포함하는 증착부; 및 상기 샤워 헤드로 제공될 서로 다른 성분의 상기 유기물 소스 기상들을 발생시키기 위한 다수 개의 소스 챔버(source chamber), 상기 유기물 소스 기상을 상기 반응 챔버로 이송하기 위한 이송 가스를 제공하는 이송 가스 공급원, 상기 이송 가스 공급원으로부터 상기 이송 가스를 상기 소스 챔버에 공급하거나 상기 이송 가스가 밸브의 작동에 의해 바이패스(bypass)되게 하는 이송 가스 이송로, 상기 이송 가스 공급원의 후단에서 상기 이송 가스의 유량을 제어하는 유량 조절계, 상기 유기물 소스 기상들이 밸브의 작동에 의해 순차적으로 상기 반응 챔버로 시간 분할하여 유입시키거나 또는 바이패스시키는 유기물 소스 기상 이송로, 상기 반응 챔버에 상기 희석 가스를 제공하기 위한 희석 가스 공급원, 상기 희석 가스를 밸브의 작동에 의해 공급하는 희석 가스 이송로, 및 상기 소스 챔버를 감싸 상기 소스 챔버에서 상기 유기물 소스 기상이 유기물 재료로부터 기화되도록 허용하고, 상기 유량 조절계 후단의 상기 이송 가스 이송로, 상기 유기물 소스 기상 이송로, 상기 희석 가스 이송로 및 상기 이송로들에 설치된 상기 밸브들을 가열하게 확장된 가열부을 포함하는 소스부를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기물 기상 증착 장치
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제1항에 있어서, 상기 샤워헤드와 상기 기판 지지부 사이에 도입되는 샤워커튼(shower curtain)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기물 기상 증착 장치
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제1항에 있어서, 상기 소스 챔버 내에 인입되는 상기 이송 가스를 분산시켜 주는 이송 가스 분산부를 상기 소스 챔버는 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기물 기상 증착 장치
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제3항에 있어서, 상기 이송 가스 분산부는 꼭지점이 상기 이송 가스 인입구 방향으로 정렬된 원뿔 블록 또는 원뿔형 판인 것을 특징으로 하는 유기물 기상 증착 장치
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제1유기물 소스 재료를 담은 제1소스 챔버에 이송 가스 이송로의 가열에 의해서 가열된 이송 가스를 제공하고 상기 제1소스 챔버를 가열하여 제1유기물 소스 기상을 형성하는 단계; 상기 제1유기물 소스 기상의 응축을 방지하기 위해 일정 온도로 유지된 이송로를 통해 상기 제1유기물 소스 기상을 반응 챔버 내의 샤워헤드로 이송하는 단계; 상기 샤워헤드를 통해 상기 이송된 제1유기물 소스 기상을 상기 샤워헤드에 대향된 위치에 도입된 기판 상에 분배하여 제1증착 반응을 유도하는 단계; 상기 기판 상에 증착이 수행된 후 상기 반응 챔버를 퍼지(purge)하는 단계; 제2유기물 재료를 담은 제2소스 챔버에 이송 가스 이송로의 가열에 의해서 가열된 이송 가스를 제공하고 상기 제2소스 챔버를 가열하여 제2유기물 소스 기상을 형성하는 단계; 상기 퍼지하는 단계 이후에 상기 제2유기물 소스 기상의 응축을 방지하기 위해 일정 온도로 유지된 별도의 이송로를 통해 상기 제2유기물 소스 기상을 반응 챔버 내의 샤워헤드로 이송하는 단계; 상기 샤워헤드를 통해 상기 이송된 제2유기물 소스 기상을 상기 샤워헤드에 대향된 위치에 도입된 기판 상에 분배하여 제2증착 반응을 유도하는 단계; 및 상기 기판 상에 제2증착이 수행된 후 상기 반응 챔버를 제2퍼지(purge)하는 단계를 더 포함하여 다성분계 유기물 박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 유기물 기상 증착 방법
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제11항에 있어서, 상기 제1유기물 소스 기상과 상기 제2유기물 소스 기상은 0
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제11항에 있어서, 상기 제1유기물 소스 기상과 상기 제2유기물 소스 기상은 0
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