요약 | 본 발명은 나노구조물의 형성 전후의 원하지 않는 반응을 억제하여 고품질의 금속산화물 나노구조물을 제작할 수 있는 급속 열증착을 이용한 금속산화물 나노구조물 제조방법을 개시한다. 본 발명에 따른 급속 열증착을 이용한 금속산화물 나노구조물 제조방법은 하나 또는 그 이상의 할로겐 램프들이 그 주위에 설치된 챔버를 준비하는 단계, 챔버 내에 금속 소스 및 기판을 장입하는 단계, 금속 소스로부터 기판 방향의 유속을 갖는 캐리어 가스를 챔버 내로 공급하는 단계, 기판 상에 금속산화물 나노구조물을 형성하기 위하여, 할로겐 램프를 이용하여 금속 소스를 가열하는 단계, 및 기판 상에 형성된 금속산화물 나노구조물을 냉각하는 단계를 포함한다. 금속산화물, 나노구조물, 급속 열증착, 할로겐램프 |
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Int. CL | B82Y 40/00 (2011.01) H01L 21/205 (2011.01) |
CPC | H01L 21/02603(2013.01) H01L 21/02603(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020070051530 (2007.05.28) |
출원인 | 한국전자통신연구원, 재단법인서울대학교산학협력재단 |
등록번호/일자 | 10-0953825-0000 (2010.04.13) |
공개번호/일자 | 10-2008-0104581 (2008.12.03) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20100420) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | 심판사항 |
구분 | |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2007.05.28) |
심사청구항수 | 12 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국전자통신연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
2 | 재단법인서울대학교산학협력재단 | 대한민국 | 서울특별시 관악구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 박종혁 | 대한민국 | 대구광역시 동구 |
2 | 맹성렬 | 대한민국 | 충청북도 청주시 흥덕구 |
3 | 박래만 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
4 | 홍성현 | 대한민국 | 서울특별시 송파구 |
5 | 김원식 | 대한민국 | 서울 은평구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 리앤목특허법인 | 대한민국 | 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국전자통신연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
2 | 재단법인서울대학교산학협력재단 | 대한민국 | 서울특별시 관악구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | 특허출원서 Patent Application |
2007.05.28 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0388855-42 |
2 | 전자문서첨부서류제출서 Submission of Attachment to Electronic Document |
2007.05.29 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-5055059-33 |
3 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2008.01.29 | 수리 (Accepted) | 4-1-2008-5015497-73 |
4 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2008.06.27 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0345395-81 |
5 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2008.08.06 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0564606-10 |
6 | 거절결정서 Decision to Refuse a Patent |
2008.12.12 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0625190-18 |
7 | 심사관의견요청서 Request for Opinion of Examiner |
2009.03.12 | 수리 (Accepted) | 7-8-2009-0008956-15 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2009.08.04 | 수리 (Accepted) | 4-1-2009-5150899-36 |
9 | 심결등본송달서 Written Transmittal of Certified Copy of Trial Decision |
2010.03.08 | 수리 (Accepted) | 7-7-2010-0019478-06 |
10 | 거절결정불복에 대한 심결 Trial Decision on Objection to Refusal Decision |
2010.03.08 | 수리 (Accepted) | 7-8-2010-0006912-95 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.08.22 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5100909-62 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.02.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-0006137-44 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.03.20 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5036045-28 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 하나 또는 그 이상의 할로겐 램프들이 그 주위에 설치된 챔버를 준비하는 단계; 상기 챔버 내에 금속 소스 및 기판을 장입하는 단계; 상기 금속 소스로부터 상기 기판 방향의 유속을 갖는 캐리어 가스를 상기 챔버 내로 공급하는 단계; 상기 기판 상에 금속산화물 나노구조물을 형성하기 위하여, 상기 할로겐 램프를 이용하여 상기 금속 소스를 가열하는 단계; 및 상기 기판 상에 형성된 금속산화물 나노구조물을 냉각하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속산화물 나노구조물 제조방법 |
2 |
2 제 1 항에 있어서, 상기 가열단계에 있어서, 최종 가열 온도는 700℃ 내지 1200℃의 범위에 포함되는 것을 특징으로 하는 금속산화물 나노구조물 제조방법 |
3 |
3 제 1 항에 있어서, 상기 가열단계에 있어서, 가열 속도는 150℃/분 내지 400℃/분의 범위에 포함되는 것을 특징으로 하는 금속산화물 나노구조물 제조방법 |
4 |
4 제 1 항에 있어서, 상기 냉각단계에 있어서, 냉각 속도는 150℃/분 내지 400℃/분의 범위에 포함되는 것을 특징으로 하는 금속산화물 나노구조물 제조방법 |
5 |
5 제 1 항에 있어서, 상기 금속 소스는 고상 분말(powder) 또는 액상 용액인 것을 특징으로 하는 금속산화물 나노구조물 제조방법 |
6 |
6 제 1 항에 있어서, 상기 금속 소스는 금속 또는 상기 금속의 산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 금속산화물 나노구조물 제조방법 |
7 |
7 제 6 항에 있어서, 상기 금속은 주석(Sn), 아연(Zn), 또는 인듐(In)을 포함하는 것을 특징으로 하는 금속산화물 나노구조물 제조방법 |
8 |
8 제 1 항에 있어서, 상기 금속 소스는 카본(carbon)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 금속산화물 나노구조물 제조방법 |
9 |
9 제 1 항에 있어서, 상기 캐리어 가스는 아르곤(Ar) 가스, 질소(N2) 가스, 산소 (O2)가스, 또는 이들의 혼합 가스를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속산화물 나노구조물 제조방법 |
10 |
10 제 1 항에 있어서, 상기 기판은 실리콘, 유리 또는 사파이어를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속산화물 나노구조물 제조방법 |
11 |
11 제 10 항에 있어서, 상기 기판은 그 표면에 상기 금속산화물 나노구조물의 형성을 위한 촉매 금속을 포함하는 것을 특징으로 하는 금속산화물 나노구조물 제조방법 |
12 |
12 제 11 항에 있어서, 상기 촉매 금속은 금(Au), 은(Ag), 니켈(Ni), 코발트(Co), 또는 철(Fe)을 포함하는 것을 특징으로 하는 금속산화물 나노구조물 제조방법 |
지정국 정보가 없습니다 |
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패밀리정보가 없습니다 |
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국가 R&D 정보가 없습니다. |
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특허 등록번호 | 10-0953825-0000 |
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표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20070528 출원 번호 : 1020070051530 공고 연월일 : 20100420 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20100308 청구범위의 항수 : 12 유별 : H01L 21/205 발명의 명칭 : 급속 열증착을 이용한 금속산화물 나노구조물 제조방법 존속기간(예정)만료일 : 20170414 |
순위번호 | 사항 |
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1 |
(권리자) 한국전자통신연구원 대전광역시 유성구... |
1 |
(권리자) 재단법인서울대학교산학협력재단 서울특별시 관악구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 256,500 원 | 2010년 04월 14일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 304,000 원 | 2013년 04월 15일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 304,000 원 | 2014년 04월 07일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 212,800 원 | 2015년 02월 26일 | 납입 |
제 7 년분 | 금 액 | 556,000 원 | 2016년 01월 28일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | 특허출원서 | 2007.05.28 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0388855-42 |
2 | 전자문서첨부서류제출서 | 2007.05.29 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-5055059-33 |
3 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2008.01.29 | 수리 (Accepted) | 4-1-2008-5015497-73 |
4 | 의견제출통지서 | 2008.06.27 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0345395-81 |
5 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2008.08.06 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0564606-10 |
6 | 거절결정서 | 2008.12.12 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0625190-18 |
7 | 심사관의견요청서 | 2009.03.12 | 수리 (Accepted) | 7-8-2009-0008956-15 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2009.08.04 | 수리 (Accepted) | 4-1-2009-5150899-36 |
9 | 심결등본송달서 | 2010.03.08 | 수리 (Accepted) | 7-7-2010-0019478-06 |
10 | 거절결정불복에 대한 심결 | 2010.03.08 | 수리 (Accepted) | 7-8-2010-0006912-95 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.08.22 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5100909-62 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.02.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-0006137-44 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.03.20 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5036045-28 |
기술정보가 없습니다 |
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과제고유번호 | 1440001078 |
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세부과제번호 | 2005-S-605-02 |
연구과제명 | 차세대고성능광전자소자및스마트생화학센서구현을위한IT-BT-NT융합핵심기술개발 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 정보통신연구진흥원 |
연구주관기관명 | 한국전자통신연구원 |
성과제출연도 | 2006 |
연구기간 | 200609~200706 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 개발연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
과제고유번호 | 1345136276 |
---|---|
세부과제번호 | 과C6A2003 |
연구과제명 | 재료연구인력양성사업단 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
연구주관기관명 | 서울대학교 |
성과제출연도 | 2010 |
연구기간 | 200603~201302 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | 기타 |
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번호 | 심판번호(숫자) | 심판번호(문자) | 사건의표시 | 청구일 | 심결일자 |
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1 | 2009101000052 | 2009원52 | 2007년 특허출원 제0051530호 거절결정불복심판 | 2009.01.05 | 2010.03.08 |