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관통 비아홀이 형성된 웨이퍼 및 이에 대한 적층방법

  • 기술번호 : KST2014034731
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 관통 비아홀이 형성된 웨이퍼의 적층 방법은 복수 개의 관통 비아홀이 형성된 웨이퍼의 하나 이상의 관통 비아홀을 포함하는 전도 영역에 전도층을 형성하는 전도층 형성단계, 상기 전도층을 포함한 웨이퍼 전체 영역에 절연층을 증착하는 절연층 증착단계, 상기 전도층의 상부에 감광제를 도포하고, 상기 관통 비아홀이 형성된 위치에 관통 비아홀의 단면적보다 작은 단면적의 패턴이 형성된 마스크를 이용하여 노광 및 현상하여 공극을 형성하는 제1공극형성단계, 상기 공극 하부의 절연층을 에칭하고, 감광제를 제거하는 절연층 에칭단계, 상기 웨이퍼의 상면에 시드메탈을 증착하는 시드메탈 증착단계, 상기 시드메탈의 상부에 감광제를 도포하고, 상기 마스크를 이용하여 노광 및 현상하여 공극을 형성하는 제2공극형성단계, 상기 시드 메탈에 구리를 전해도금하여 구리 범프를 형성하는 구리 범프 형성단계 및 상기 감광제를 제거하고, 시드 메탈을 에칭하는 시드 메탈 에칭단계를 포함한다.
Int. CL H01L 21/60 (2006.01)
CPC H01L 23/481(2013.01) H01L 23/481(2013.01)
출원번호/일자 1020100028172 (2010.03.29)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-1109053-0000 (2012.01.17)
공개번호/일자 10-2011-0108779 (2011.10.06) 문서열기
공고번호/일자 (20120131) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.03.29)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유세훈 대한민국 인천광역시 연수구
2 이창우 대한민국 경기도 안양시 동안구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 고영갑 대한민국 경기도 성남시 분당구 정자일로 ***, 파크뷰 타워 ***호 (정자동)(가람특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 대한민국(산업통상자원부장관) 세종특별자치시 한누리대
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.03.29 수리 (Accepted) 1-1-2010-0200557-82
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.08.30 수리 (Accepted) 4-1-2010-5161401-06
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.04.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.05.17 수리 (Accepted) 9-1-2011-0042598-79
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.05.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0274552-03
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.07.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0572441-09
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.07.25 수리 (Accepted) 1-1-2011-0572436-70
8 등록결정서
Decision to grant
2012.01.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0028859-90
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.02 수리 (Accepted) 4-1-2012-5068733-13
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090658-47
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2013-5017806-08
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
복수 개의 관통 비아홀이 형성된 웨이퍼의 하나 이상의 관통 비아홀을 포함하는 전도 영역에 전도층을 형성하는 전도층 형성단계;상기 전도층을 포함한 웨이퍼 전체 영역에 절연층을 증착하는 절연층 증착단계;상기 전도층의 상부에 감광제를 도포하고, 상기 관통 비아홀이 형성된 위치에 관통 비아홀의 단면적보다 작은 단면적의 패턴이 형성된 마스크를 이용하여 상기 감광제를 노광 및 현상하여 상기 감광제에 공극을 형성하는 제1공극형성단계;상기 공극 하부의 절연층을 에칭하고, 감광제를 제거하는 절연층 에칭단계;상기 웨이퍼의 상면에 시드메탈을 증착하는 시드메탈 증착단계;상기 시드메탈의 상부에 감광제를 도포하고, 상기 마스크를 이용하여 감광제를 노광 및 현상하여 감광제에 공극을 형성하는 제2공극형성단계;상기 시드 메탈에 구리를 전해도금하여 구리 범프를 형성하는 구리 범프 형성단계; 및상기 감광제를 제거하고, 시드 메탈을 에칭하는 시드 메탈 에칭단계;를 포함하는 관통 비아홀이 형성된 웨이퍼 적층방법
2 2
제1항에 있어서,상기 전도층 형성단계는,웨이퍼에 접착층을 형성하는 과정, 상기 접착층의 상부에 전도층을 형성하는 과정, 감광제를 도포, 노광 및 현상하여 전도영역의 상부에 감광제층을 형성하는 과정, 상기 전도영역 이외 영역의 접착층 및 전도층을 에칭하는 과정 및 상기 전도 영역 상부에 감광제층을 제거하는 과정을 포함하는 관통 비아홀이 형성된 웨이퍼 적층방법
3 3
제2항에 있어서,상기 전도층과 상기 감광제층 사이에는 산화방지층을 증착하는 웨이퍼 적층방법
4 4
제1항에 있어서,상기 구리범프를 다른 웨이퍼의 관통비아홀의 내부에 삽입하여 복수 개의 웨이퍼를 전기적으로 연결하는 관통 비아홀이 형성된 웨이퍼 적층방법
5 5
복수 개의 관통 비아홀이 형성된 웨이퍼;하나 이상의 관통 비아홀을 포함하는 전도영역에 형성되는 전도층;상기 전도층에서 관통 비아홀이 형성된 위치에, 상기 관통 비아홀의 단면적보다 작은 단면적으로 형성된 구리 범프; 및상기 구리 범프가 형성된 부분을 제외한 부분에 증착된 절연층을 포함하고,상기 웨이퍼는 복수 개가 구비되며,어느 하나의 웨이퍼의 형성된 구리 범프의 일부가 다른 하나의 웨이퍼의 관통 비아홀의 내부로 삽입되어 위치하는 관통 비아홀이 형성된 웨이퍼
6 6
청구항5에 있어서,상기 웨이퍼와 전도층 사이에는 접착층이 형성된 관통 비아홀이 형성된 웨이퍼
7 7
청구항5에 있어서,상기 전도층의 상면에는 산화방지층이 형성된 관통 비아홀이 형성된 웨이퍼
8 8
청구항5에 있어서,상기 웨이퍼는 복수 개가 구비되고,어느 하나의 웨이퍼의 형성된 구리 범프의 일부가 다른 하나의 웨이퍼의 관통 비아홀의 내부로 삽입되어 위치하는 관통 비아홀이 형성된 웨이퍼
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