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공정 모니터링 방법 및 공정 모니터링 장치

  • 기술번호 : KST2014035303
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 공정 모니터링 방법 및 공정 모니터링 장치를 제공한다. 이 공정 모니터링 방법은 플라즈마 내부에 한 쌍의 방사 안테나와 수신 안테나를 삽입하는 단계, 방사 안테나와 수신 안테나 사이의 쉬스(sehath) 및 플라즈마를 회로로 모델링하는 단계, 방사 안테나에 스캔닝하는 주파수를 제공하고 수신 안테나를 이용하여 플라즈마를 통과한 전자기파를 수신하여 주파수에 따른 투과계수를 측정하는 단계, 보조 측정부를 이용하여 충돌 주파수를 구하는 단계, 및 충돌 주파수 및 상기 투과계수를 이용하여 쉬스의 두께를 구하는 단계를 포함한다.
Int. CL H05H 1/46 (2006.01) H01L 21/205 (2006.01) G01R 29/08 (2006.01) H05H 1/00 (2006.01)
CPC H01J 37/32935(2013.01) H01J 37/32935(2013.01) H01J 37/32935(2013.01) H01J 37/32935(2013.01) H01J 37/32935(2013.01) H01J 37/32935(2013.01) H01J 37/32935(2013.01)
출원번호/일자 1020120028687 (2012.03.21)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자 10-1310766-0000 (2013.09.13)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20130925) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.03.21)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유신재 대한민국 대전 유성구
2 김정형 대한민국 대전광역시 유성구
3 김대웅 대한민국 대전 유성구
4 성대진 대한민국 충남 공주시
5 신용현 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이평우 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **-*(역삼동, IT빌딩 *층)(특허법인 누리)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대전 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.03.21 수리 (Accepted) 1-1-2012-0228241-84
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.02.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.03.07 수리 (Accepted) 9-1-2013-0012799-71
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.05.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0374658-25
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.06.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0571356-16
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.06.26 수리 (Accepted) 1-1-2013-0571333-77
7 등록결정서
Decision to grant		 2013.08.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0608371-05
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2014-5004381-25
9 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2014.05.09 수리 (Accepted) 1-1-2014-0438236-49
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
플라즈마 내부에 한 쌍의 방사 안테나와 수신 안테나를 삽입하는 단계;상기 방사 안테나와 상기 수신 안테나 사이의 쉬스(sheath) 및 플라즈마를 회로로 모델링하는 단계;상기 방사 안테나에 스캔닝하는 주파수를 제공하고 상기 수신 안테나를 이용하여 상기 플라즈마를 통과한 전자기파를 수신하여 주파수에 따른 투과계수를 측정하는 단계;보조 측정부를 이용하여 충돌 주파수를 구하는 단계; 및상기 충돌 주파수 및 상기 투과계수를 이용하여 상기 쉬스의 두께를 구하는 단계를 포함하고,상기 충돌 주파수 및 상기 투과계수를 이용하여 상기 쉬스의 두께를 구하는 단계는 주파수에 따른 투과 계수에서 컷오프 각주파수를 구하고, 상기 컷오프 주파수와 상기 충돌 주파수를 상기 방사 안테나와 상기 수신 안테나 사이의 쉬스(sheath) 및 플라즈마를 회로로 모델링한 회로 모델에 대입하여 상기 쉬스의 두께를 구하는 것을 특징으로 하는 공정 모니터링 방법
2 2
제1 항에 있어서,상기 보조 측정부는 압력 게이지인 것을 특징으로 하는 공정 모니터링 방법
3 3
제1 항에 있어서,상기 쉬스(sheath) 및 플라즈마의 회로는:서로 직렬 연결된 플라즈마 인덕터 및 플라즈마 저항;상기 직렬 연결된 플라즈마 인덕터 및 플라즈마 저항에 병렬 연결된 플라즈마 축전기; 및상기 병렬된 플라즈마 축전기의 양단에 각각 연결된 방사 안테나 쉬스 축전기 및 수신 안테나 쉬스 축전기를 포함하는 것을 특징으로 하는 공정 모니터링 방법
4 4
플라즈마 내부에 삽입되어 전자기파를 방사하는 방사 안테나;상기 플라즈마 내부에 삽입되어 상기 플라즈마를 통과한 전자기파를 수신하는 수신 안테나;상기 방사 안테나에 스캔닝하는 주파수를 제공하고 가변 주파수 발생부;상기 수신 안테나에 연결되어 상기 플라즈마를 통과한 투과파를 처리하여 투과계수를 추출하는 투과파 처리부;충돌 주파수를 구하는 보조 측정부 및상기 충돌 주파수 및 상기 투과계수를 이용하여 쉬스의 두께를 구하는 처리부를 포함하고,상기 처리부는 주파수에 따른 투과 계수에서 컷오프 각주파수를 구하고, 상기 컷오프 주파수와 상기 충돌 주파수를 상기 방사 안테나와 상기 수신 안테나 사이의 쉬스(sheath) 및 플라즈마를 회로로 모델링한 회로 모델에 대입하여 상기 쉬스의 두께를 구하는 것을 특징으로 하는 공정 모니터링 장치
5 5
제 4 항에 있어서,상기 보조 측정부는 압력 게이지인 것을 특징으로 하는 공정 모니터링 장치
6 6
제 4 항에 있어서,상기 방사 안테나 및 수신 안테나는 원형 실린더 형태이고, 서로 이웃하여 나란히 배치된 것을 특징으로 하는 공정 모니터링 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 한국표준과학연구원 국가연구개발사업 450mm 장비 플라즈마 공정 해석용 고신뢰성 시뮬레이터 개발
2 교육과학기술부 한국표준과학연구원 신기술융합형성장동력사업 우주 환경 모사 신소재 / 공정 기술 개발