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유전체 튜브;상기 유전체 튜브의 주위에 감긴 전자기 부양 코일;상기 전자기 부양 코일에 의하여 부양되고 가열되어 증발하고 상기 전자기 부양 코일의 중심 영역에 배치된 도전성 원료 물질;상기 전자기 부양 코일에 전력을 공급하는 부양 전원;상기 유전체 튜브의 일단에 배치되고 상기 유전체 튜브 내부에 제1 가스를 공급하는 제1 가스 공급부;상기 유전체 튜브의 타단에 연결된 공정 챔버;상기 공정 챔버의 내부에 배치된 RF 전극; 및상기 RF 전극에 RF 전력을 공급하여 플라즈마를 형성하는 공정 RF 전원을 포함하고,상기 부양 코일에 의하여 가열된 도전성 원료 물질이 증발하여 생성된 제1 나노입자는 상기 공정 챔버로 이동하여 상기 플라즈마에 의하여 처리되고,상기 부양 전원의 주파수는 300 kHz 내지 600 kHz이고, 상기 공정 RF 전원의 주파수는 5 MHz 내지 60 MHz인 것을 특징으로 하는 나노 입자 합성 장치
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제1 항에 있어서,상기 제1 나노입자는 상기 플라즈마와 상호작용하여 다른 조성의 제2 나노 입자로 변환되는 것을 특징으로 하는 나노 입자 합성 장치
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제2 항에 있어서,상기 공정 챔버에 배치된 제2 가스 공급부를 더 포함하고,상기 제1 가스는 불활성 가스이고,상기 제2 가스는 상기 제1 나노 입자와 반응하여 상기 제2 나노 입자를 합성하도록 하는 공정 가스인 것을 특징으로 하는 나노 입자 합성 장치
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제3 항에 있어서,상기 도전성 원료 물질은 갈륨(Ga)이고, 상기 제1 가스는 아르곤이고, 상기 제2 가스는 질소(N2)이고, 상기 제1 나노입자는 갈륨(Ga)이고, 상기 제2 나노 입자는 갈륨나이트라이드(GaN)인 것을 특징으로 하는 나노 입자 합성 장치
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제1 항에 있어서,상기 부양 코일과 상기 공정 챔버 사이의 상기 유전체 튜브를 감싸고 유도 결합 플라즈마를 형성하는 유도 코일;상기 유도 코일에 전력을 공급하는 보조 RF 전원; 및상기 부양 코일과 상기 유도 코일 사이의 유전체 튜브 내부에 배치되는 매쉬를 더 포함하고,상기 제1 가스는 상기 제1 나노 입자와 반응하여 다른 조성의 제2 나노 입자를 합성하도록 하는 공정 가스인 것을 특징으로 하는 나노 입자 합성 장치
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제1 항에 있어서,상기 부양 코일과 상기 공정 챔버 사이의 상기 유전체 튜브를 감싸고 축전 결합 플라즈마를 형성하는 링 형태의 축전 전극;상기 축전 전극에 전력을 공급하는 보조 RF 전원; 및상기 부양 코일과 상기 축전 전극 사이의 유전체 튜브 내부에 배치되는 매쉬를 더 포함하고,상기 제1 가스는 상기 제1 나노 입자와 반응하여 다른 조성의 제2 나노 입자를 합성하도록 하는 공정 가스인 것을 특징으로 하는 나노 입자 합성 장치
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유전체 튜브 주위에 전자기 부양 코일을 감고 상기 전자기 부양 코일에 교류 전력을 제공하는 단계; 상기 전자기 부양 코일의 중심 영역에 배치된 도전성 원료 물질을 상기 전자기 부양 코일에 의하여 부양하고 가열하고 증발시키는 단계;상기 유전체 튜브의 일단에 배치된 제1 가스 공급부를 통하여 제1 가스를 공급하여 상기 도전성 원료 물질이 증발하여 생성된 제1 나노입자를 상기 유전체 튜브의 타단에 연결된 공정 챔버로 이동시키는 단계;상기 공정 챔버에 RF 전극을 배치하고 상기 RF 전극에 RF 전력을 공급하여 플라즈마를 형성하는 단계; 및상기 제1 나노입자를 상기 플라즈마와 상호작용하여 다른 조성의 제2 나노 입자로 변환하는 단계를 포함하고,상기 교류 전력의 주파수는 300 kHz 내지 600 kHz이고상기 RF 전력의 주파수는 5 MHz 내지 60 MHz인 것을 특징으로 하는 나노 입자 합성 장치
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유전체 튜브 주위에 전자기 부양 코일을 감고 상기 전자기 부양 코일에 교류 전력을 제공하는 단계; 상기 전자기 부양 코일의 중심 영역에 배치된 도전성 원료 물질을 상기 전자기 부양 코일에 의하여 부양하고 가열하고 증발시키는 단계;상기 유전체 튜브의 일단에 배치된 제1 가스 공급부를 통하여 제1 가스를 공급하여 상기 도전성 원료 물질이 증발하여 생성된 제1 나노입자를 상기 유전체 튜브의 타단에 연결된 공정 챔버로 이동시키는 단계;상기 유전체 튜브의 하부 영역에 배치된 플라즈마 발생 수단에 의하여 상기 제1 가스를 분해하여 제1 플라즈마를 생성하고, 상기 제1 플라즈마와 상기 제1 나노 입자가 반응하여 다른 조성의 제2 나노 입자를 생성하는 단계;상기 제2 나노 입자를 상기 유전체 튜브의 타단에 연결된 공정 챔버로 이동시키는 단계; 상기 공정 챔버에 RF 전극을 배치하고 상기 RF 전극에 RF 전력을 공급하여 제2 플라즈마를 형성하는 단계; 및상기 제2 나노 입자를 상기 제2 플라즈마와 상호작용시켜 상기 제2 나노 입자를 열처리하는 단계를 포함하고,상기 교류 전력의 주파수는 300 kHz 내지 600 kHz이고,상기 RF 전력의 주파수는 5 MHz 내지 60 MHz인 것을 특징으로 하는 나노 입자 합성 방법
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