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신규 3-페녹시-4-파이론, 3-페녹시-4-피리돈 또는 4-피리돈 유도체, 이의 제조방법 및 이를 유효성분으로 함유하는 항균 조성물

  • 기술번호 : KST2014036435
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 신규 3-페녹시-4-파이론, 3-페녹시-4-피리돈 또는 4-피리돈 유도체, 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염, 이의 제조방법 및 이를 유효성분으로 함유하는 항균 조성물에 관한 것으로, 본 발명에 따른 신규 3-페녹시-4-파이론, 3-페녹시-4-피리돈 또는 4-피리돈 유도체를 함유하는 조성물은 박테리아 지방산 생합성 효소인 에노일-ACP 환원효소(FabI)를 효과적으로 억제하므로 항균제로서 유용하게 사용될 수 있다. [화학식 1] . (상기 화학식 1에서, 상기 X, Y, R1 및 R2는 본 명세서에서 정의된 바와 같다.) 박테리아 지방산 생합성, 3-페녹시-4-파이론, 3-페녹시-4-피리돈 또는 4-피리돈, 항균, 에노일-ACP 환원효소, FabI
Int. CL C07D 309/40 (2006.01.01) C07D 213/69 (2006.01.01) C07D 405/06 (2006.01.01) C07D 407/06 (2006.01.01) C07D 409/06 (2006.01.01) C07D 413/06 (2006.01.01) C07D 417/06 (2006.01.01) A61K 31/351 (2006.01.01)
CPC C07D 309/40(2013.01) C07D 309/40(2013.01) C07D 309/40(2013.01) C07D 309/40(2013.01) C07D 309/40(2013.01) C07D 309/40(2013.01) C07D 309/40(2013.01) C07D 309/40(2013.01) C07D 309/40(2013.01)
출원번호/일자 1020090068834 (2009.07.28)
출원인 한국과학기술연구원, 서울대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1043815-0000 (2011.06.16)
공개번호/일자 10-2011-0011271 (2011.02.08) 문서열기
공고번호/일자 (20110627) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.07.28)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구
2 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 신계정 대한민국 서울특별시 노원구
2 노은주 대한민국 서울특별시 성북구
3 정민경 대한민국 서울특별시 동작구
4 차현주 대한민국 서울특별시 강남구
5 서선희 대한민국 서울특별시 성북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이원희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구
2 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.07.28 수리 (Accepted) 1-1-2009-0462030-97
2 보정요구서
Request for Amendment
2009.08.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2009-0055554-56
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2009.08.11 수리 (Accepted) 1-1-2009-0488495-01
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
5 등록결정서
Decision to grant
2011.05.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0297472-21
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.09.27 수리 (Accepted) 4-1-2011-5195109-43
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2013-5007213-54
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.17 수리 (Accepted) 4-1-2015-5033829-92
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2015-5062924-01
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5093546-10
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5101798-31
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5154561-59
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
하기 화학식 1로 표시되는 신규 3-페녹시-4-파이론, 3-페녹시-4-피리돈 또는 4-피리돈 유도체, 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염: [화학식 1]
2 2
제1항에 있어서, 상기 X는 O 또는 NR3이고, 이때 R3은 수소, 메틸, 부틸, 사이클로프로필, 벤질, 브로모벤질, 클로로벤질, 니트로벤질, 트리플루오로메틸벤질, 메틸벤질, 디메틸벤질, 디플루오로벤질, 디클로로벤질, 메톡시벤질, t-부틸벤질, 퓨라닐 또는 디페닐메틸이고, Y는 O 또는 -CHOH이고, R1은 수소, 또는 이고, 이때 R4는 퓨란, 싸이오펜, 피라딘, 파이롤, 이소부틸, 부틸이고, R2는 4-클로로-2-메틸, 2,3-디클로로, 2,6-디클로로, 2,4,-디클로로, 2,4-디메틸인 것을 특징으로 하는 신규 3-페녹시-4-파이론, 3-페녹시-4-피리돈 또는 4-피리돈 유도체, 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염
3 3
제1항에 있어서, 상기 유도체는 하기 화학식 1a~1d의 화합물 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는 신규 3-페녹시-4-파이론, 3-페녹시-4-피리돈 또는 4-피리돈 유도체, 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염
4 4
제1항에 있어서, 상기 유도체는 (1) 5-(4-클로로-2-메틸페녹시)-2-스티릴피란-4-온; (2) 5-(4-클로로-2-메틸페녹시)-2-(3-메틸부트-1-에닐)-1H-피리딘-4-온; (3) 5-(4-클로로-2-메틸페녹시)-1-메틸-2-페녹시메틸-1H-피리딘-4-온; (4) 1-벤질-3-[(2,6-디클로로페닐)하이드록시메틸]-1H-피리딘-4-온; (5) 5-(4-클로로-2-메틸페녹시)-2-(2-퓨란-3-일비닐)피란-4-온; (6) 5-(4-클로로-2-메틸페녹시)-2-(2-사이오펜-2-일비닐)피란-4-온; (7) 5-(4-클로로-2-메틸페녹시)-2-펜트-1-에닐-피란-4-온; (8) 5-(4-클로로-2-메틸페녹시)-2-(2-퓨란-2-일비닐)피란-4-온; (9) 5-(4-클로로-2-메틸페녹시)-2-[2-(1H-파이롤-2-일)비닐]피란-4-온; (10) 5-(4-클로로-2-메틸페녹시)-2-(2-사이오펜-3-일비닐)피란-4-온; (11) 5-(4-클로로-2-메틸페녹시)-2-(3-메틸부트-1-에닐)피란-4-온; (12) 5-(4-클로로-2-메틸페녹시)-1-메틸-2-(3-메틸부트-1-에닐)-1H-피리딘-4-온; (13) 5-(4-클로로-2-메틸페녹시)-2-(3-메틸부트-1-에닐)-1H-피리딘-4-온; (14) 5-(4-클로로-2-메틸페녹시)-1-사이클로프로필-2-(3-메틸부트-1-에닐)-1H-피리딘-4-온; (15) 5-(4-클로로-2-메틸페녹시)-1-메틸-2-펜트-1-에닐-1H-피리딘-4-온; (16) 5-(4-클로로-2-메틸페녹시)-1-사이클로프로필-2-펜트-1-에닐-1H-피리딘-4-온; (17) 5-(4-클로로-2-메틸페녹시)-2-페녹시메틸-1H-피리딘-4-온; (18) 1-부틸-5-(4-클로로-2-메틸페녹시)-2-페녹시메틸-1H-피리딘-4-온; (19) 5-(4-클로로-2-메틸페녹시)-1-사이클로프로필-2-페녹시메틸-1H-피리딘-4-온; (20) 1-벤질-5-(4-클로로-2-메틸페녹시)-2-페녹시메틸-1H-피리딘-4-온; (21) 5-(2,3-디클로로페녹시)-2-페녹시메틸-1H-피리딘-4-온; (22) 1-사이클로프로필-5-(2,3-디클로로페녹시)-2-페녹시메틸-1H-피리딘-4-온; (23) 1-부틸-5-(2,3-디클로로페녹시)-2-페녹시메틸-1H-피리딘-4-온; (24) 1-벤질-5-(2,3-디클로로페녹시)-2-페녹시메틸-1H-피리딘-4-온; (25) 5-(2,3-디클로로페녹시)-1-메틸-2-페녹시메틸-1H-피리딘-4-온; (26) 5-(2,4-디클로로페녹시)-2-페녹시메틸-1H-피리딘-4-온; (27) 5-(2,4-디클로로페녹시)-1-메틸-2-페녹시메틸-1H-피리딘-4-온; (28) 1-부틸-5-(2,4-디클로로페녹시)-2-페녹시메틸-1H-피리딘-4-온; (29) 1-벤질-5-(2,4-디클로로페녹시)-2-페녹시메틸-1H-피리딘-4-온; (30) 1-사이클로프로필-5-(2,4-디클로로페녹시)-2-페녹시메틸-1H-피리딘-4-온; (31) 5-(2,4-디메틸페녹시)-2-페녹시메틸-1H-피리딘-4-온; (32) 1-벤질-5-(2,4-디메틸페녹시)-2-페녹시메틸-1H-피리딘-4-온; (33) 5-(2,4-디메틸페녹시)-1-메틸-2-페녹시메틸-1H-피리딘-4-온; (34) 1-부틸-5-(2,4-디메틸페녹시)-2-페녹시메틸-1H-피리딘-4-온; (35) 1-사이클로프로필l-5-(2,4-디메틸페녹시)-2-페녹시메틸-1H-피리딘-4-온; (36) 1-(3-브로모벤질)-3-[(2,3-디클로로페닐)하이드록시메틸]-1H-피리딘-4-온; (37) 1-(4-브로모벤질)-3-[(2,3-디클로로페닐)하이드록시메틸]-1H-피리딘-4-온; (38) 3-[(2,3-디클로로페닐)디클로로페닐]-1-(3-트리플루오로메틸벤질)-1H-피리딘-4-온; (39) 1-(4-t-부틸벤질)-3-[(2,3-디클로로페닐)하이드록시메틸]-1H-피리딘-4-온; (40) 1-(2-브로모벤질)-3-[(2,6-디클로로페닐)하이드록시메틸]-1H-피리딘-4-온; (41) 1-(3-브로모벤질)-3-[(2,6-디클로로페닐)하이드록시메틸]-1H-피리딘-4-온; (42) 1-(4-브로모벤질l)-3-[(2,6-디클로로페닐)하이드록시메틸]-1H-피리딘-4-온; (43) 1-(2-클로로벤질)-3-[(2,6-디클로로페닐)하이드록시메틸]-1H-피리딘-4-온; (44) 1-(3-클로로벤질)-3-[(2,6-디클로로페닐)하이드록시메틸]-1H-피리딘-4-온; (45) 1-(4-클로로벤질)-3-[(2,6-디클로로페닐)하이드록시메틸]-1H-피리딘-4-온; (46) 3-[(2,6-디클로로페닐)하이드록시메틸]-1-(2-트리플루오로메틸벤질)-1H-피리딘-4-온; (47) 3-[(2,6-디클로로페닐)하이드록시메틸]-1-(2-메톡시벤질)-1H-피리딘-4-온; (48) 3-[(2,6-디클로로페닐)하이드록시메틸]-1-(3-메톡시벤질)-1H-피리딘-4-온; (49) 3-[(2,6-디클로로페닐)하이드록시메틸]-1-(4-메톡시벤질)-1H-피리딘-4-온; (50) 3-[(2,6-디클로로페닐)하이드록시메틸]-1-(3-메틸벤질)-1H-피리딘-4-온; (51) 3-[(2,6-디클로로페닐)하이드록시메틸]-1-(4-니트로벤질)-1H-피리딘-4-온; (52) 1-(4-t-부틸벤질)-3-[(2,6-디클로로페닐)하이드록시메틸]-1H-피리딘-4-온; (53) 3-[(2,6-디클로로페닐)하이드록시메틸]-1-(2,6-디플루오로벤질)-1H-피리딘-4-온; (54) 1-(3,4-디클로로벤질)-3-[(2,6-디클로로페닐)하이드록시메틸]-1H-피리딘-4-온; (55) 3-[(2,6-디클로로페닐)하이드록시메틸]-1-(2,6-디메틸벤질)-1H-피리딘-4-온; (56) 3-[(2,6-디클로로페닐)하이드록시메틸]-1-(2-메틸사이아졸-4-일메틸)-1H-피리딘-4-온; (57) 3-[(2,6-디클로로페닐)하이드록시메틸]-1-(3,5-디메틸이소옥사졸-4-일메틸)-1H-피리딘-4-온; (58) 3-[(2,6-디클로로페닐)하이드록시메틸]-1-퓨란-3-일메틸-1H-피리딘-4-온; 및 (59) 1-벤즈히드릴-3-[(2,6-디클로로페닐-하이드록시메틸]-1H-피리딘-4-온으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 신규 3-페녹시-4-파이론, 3-페녹시-4-피리돈 또는 4-피리돈 유도체, 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염
5 5
하기 반응식 1에 표시되는 바와 같이, 화학식 4의 코직산 화합물을 울만(Ullmann) 반응시켜 화학식 5의 화합물을 제조하는 단계(단계 1); 상기 단계 1에서 제조된 화학식 5의 화합물을 클로라이드기로 치환하여 화학식 6의 화합물을 제조하는 단계(단계 2); 상기 단계 2에서 제조한 화학식 6의 화합물을 아르부조브(Arbuzov) 반응시켜 포스포네이트를 합성하여 화학식 7의 화합물을 제조하는 단계(단계 3); 및 상기 단계 3에서 제조한 화학식 7의 화합물을 호너-에몬스 반응을 통해 이중결합구조를 도입하여 화학식 1a의 화합물을 제조하는 단계(단계 4)를 포함하는 제1항의 신규 3-페녹시-4-파이론 유도체의 제조방법: [반응식 1] (상기 식에서, R2는 상기 제1항의 화학식 1에서 정의한 바와 같고, R3은 상기 화학식 1a에서 정의한 바와 같으며, 화학식 1a는 제3항의 화학식 1에 포함된다
6 6
제5항에 있어서, 상기 단계 1의 반응은 구리촉매, 리간드로서 N,N-디메틸글리신 염, 염기로서 Cs2CO3, 용매로서 디메틸 포름아마이드에서 수행되는 것을 특징으로 하는 제조방법
7 7
제5항에 있어서, 상기 단계 2의 반응 용매는 무수 테트라하이드로퓨란이고, 염기는 포타슘 t-부톡사이드인 것을 특징으로 하는 제조방법
8 8
하기 반응식 2에 표시되는 바와 같이, 화학식 7의 포스포네이트 화합물을 아민 화합물과 첨가반응하여 화합물 8의 화합물을 제조하는 단계(단계 1); 및 상기 단계 1에서 제조한 화학식 8의 화합물을 호너-에몬스 반응을 통해 이중결합 구조를 도입하여 화학식 1b의 화합물을 제조하는 단계(단계 2)를 포함하는 제1항의 3-페녹시-4-피리돈 유도체의 제조방법: [반응식 2] (상기 식에서 R4 및 R5는 상기 화학식 1b에서 정의한 바와 같고, 화학식 1b는 화학식 1에 포함된다
9 9
하기 반응식 3에 표시되는 바와 같이, 화학식 5의 페녹시에테르 화합물을 페놀과 디이소프로필 아조디카르복실레이트 하에 미츠노부(Mitsunobu) 반응시켜 화학식 9의 화합물을 제조하는 단계(단계 1);및 상기 단계 1에서 제조한 화학식 9의 화합물을 아민화합물과 첨가반응시켜 화합물 1c의 화합물을 제조하는 단계(단계 2)를 포함하는 제1항의 3-페녹시-4-피리돈 유도체의 제조방법: [반응식 3] (상기 식에서, 상기 R2는 상기 화학식 1에서 정의한 바와 같고, R6 및 R7은 화학식 1c에서 정의한 바와 같으며, 화학식 1c는 화학식 1에 포함된다
10 10
제9항에 있어서, 상기 단계 1의 반응 용매는 무수 테트라하이드로퓨란이고, 반응물질로서 디이소프로필 아조디카르복실레이트와 트리페닐포스핀을 사용하는 것을 특징으로 하는 제조방법
11 11
제9항에 있어서, 상기 단계 2의 반응 용매는 메탄올인 것을 특징으로 하는 제조방법
12 12
하기 반응식 4에 표시되는 바와 같이, 화학식 10의 4-클로로피리딘염을 소디움메톡사이드 하에서 메톡시 구조를 도입하여 화학식 11의 화합물을 제조하는 단계(단계 1); 상기 단계 1에서 제조한 화학식 11의 4-메톡시피리딘 화합물을 알데하이드와 반응시켜 화합물 12의 화합물을 제조하는 단계(단계 2);및 상기 단계 2에서 제조한 화학식 12의 화합물을 벤즈알데하이드와 반응시켜 화학식 1d의 화합물을 제조하는 단계(단계 3)를 포함하는 제1항의 4-피리돈 유도체의 제조방법: [반응식 4] (상기 식에서, 상기 R9는 화학식 1d에서 정의한 바와 같고, 화학식 1d는 화학식 1에 포함된다
13 13
제1항의 신규 3-페녹시-4-파이론, 3-페녹시-4-피리돈 또는 4-피리돈 유도체, 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염을 유효성분으로 함유하는 항균 조성물
14 14
제13항에 있어서, 상기 항균 조성물은 박테리아 지방산 생합성 효소인 에노일-ACP 환원효소(FabI)의 활성을 억제하는 것을 특징으로 하는 조성물
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1 서울시 서울대학교 산학협력단 서울시기술융합신약개발사업 다학제적 기술융합을 통한 염증 및 암 치료 신약개발