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플라즈마 식각 장치를 이용하여 시즈닝 하는 방법

  • 기술번호 : KST2014038610
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 플라즈마 식각 장치를 이용하여 시즈닝 하는 방법을 개시한다. 상기 시즈닝 방법은 챔버의 공정 온도를 측정하는 단계; 측정된 온도가 기 설정된 온도 범위 내에 있는 지를 판단하는 단계; 판단 결과, 측정된 온도가 기 설정된 온도 범위 내에 없을 경우, 시즈닝 공정을 시작함으로써, 빛 방출 분석법을 활용하여 이온이나 라디칼의 밀도를 측정하고, 그로부터 해리율 및 이온화 율을 얻는 단계; 해리율, 이온화율에 영향을 미치는 플라즈마 공정 변수들 중, 현재 공정의 플라즈마 공정 변수의 값이 기 설정된 정상 조건의 플라즈마 공정 변수의 값의 범위 안에 있는 지를 판단하는 단계; 판단 결과, 상기 현재 공정의 플라즈마 공정 변수의 값이 기 설정된 정상 조건의 플라즈마 공정 변수의 값의 범위 내에 없을 경우, 상기 챔버의 내부를 메인 식각 가능한 분위기로 유지할 때까지, 상기 현 공정의 플라즈마 공정 변수의 값을 피드백 제어하는 단계; 및 판단 결과, 상기 현재 공정의 플라즈마 공정 변수의 값이 기 설정된 정상 조건의 플라즈마 공정 변수의 값의 범위 내에 있을 경우, 상기 챔버의 내부를 메인 식각 가능한 분위기로 유지하고 시즈닝 공정을 종료하는 단계를 포함한다.식각, 온도 센서, 플라즈마, 해리율, 이온화율, 피드백 제어
Int. CL H01J 37/32 (2006.01.01) H01L 21/67 (2006.01.01)
CPC H01J 37/32862(2013.01) H01J 37/32862(2013.01) H01J 37/32862(2013.01)
출원번호/일자 1020070021871 (2007.03.06)
출원인 중앙대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0854082-0000 (2008.08.19)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20080825) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.03.06)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 중앙대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 동작구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김관하 대한민국 서울 동작구
2 김경태 대한민국 서울 동작구
3 김창일 대한민국 서울 동작구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박상수 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, ****호 (역삼동, 황화빌딩)(성우국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 중앙대학교 산학협력단 대한민국 서울 동작구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2007.03.06 수리 (Accepted) 1-1-2007-0183755-88
2 보정요구서
Request for Amendment
2007.03.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2007-0034254-58
3 서지사항보정서
Amendment to Bibliographic items
2007.03.22 수리 (Accepted) 1-1-2007-0226667-11
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2008.02.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0073477-79
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2008.03.28 수리 (Accepted) 1-1-2008-0228376-11
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.03.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0228375-65
7 등록결정서
Decision to grant
2008.07.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0403272-13
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.07.20 수리 (Accepted) 4-1-2011-5148879-89
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.07.20 수리 (Accepted) 4-1-2011-5148883-62
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000494-54
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.10.20 수리 (Accepted) 4-1-2014-5123944-33
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.04 수리 (Accepted) 4-1-2018-5125629-51
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.07.29 수리 (Accepted) 4-1-2019-5151122-15
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.01 수리 (Accepted) 4-1-2019-5153932-16
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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챔버의 공정 온도를 측정하는 단계;측정된 온도가 기 설정된 온도 범위 내에 있는 지를 판단하는 단계;판단 결과, 측정된 온도가 기 설정된 온도 범위 내에 없을 경우, 시즈닝 공정을 시작하면서, 빛 방출 분석법을 활용하여 이온이나 라디칼의 밀도를 측정하고, 그로부터 해리율 및 이온화 율을 얻는 단계;해리율, 이온화율에 영향을 미치는 플라즈마 공정 변수들 중, 현재 공정의 플라즈마 공정 변수의 값이 기 설정된 정상 조건의 플라즈마 공정 변수의 값의 범위 안에 있는 지를 판단하는 단계;판단 결과, 상기 현재 공정의 플라즈마 공정 변수의 값이 기 설정된 정상 조건의 플라즈마 공정 변수의 값의 범위 내에 없을 경우, 상기 챔버의 내부를 메인 식각 가능한 분위기로 유지할 때까지, 상기 현 공정의 플라즈마 공정 변수의 값을 피드백 제어하는 단계; 및판단 결과, 상기 현재 공정의 플라즈마 공정 변수의 값이 기 설정된 정상 조건의 플라즈마 공정 변수의 값의 범위 내에 있을 경우, 상기 챔버의 내부를 메인 식각 가능한 분위기로 유지하고 시즈닝 공정을 종료하는 단계를 포함하는 플라즈마 식각 장치를 이용하여 시즈닝 하는 방법
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제 1항에 있어서,상기 챔버에 설치된 온도 센서를 이용하여 상기 챔버의 공정 온도를 측정하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 식각 장치를 이용하여 시즈닝 하는 방법
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제 1항에 있어서,상기 플라즈마 공정 변수는 공정 온도인 것을 특징으로 하는 플라즈마 식각 장치를 이용하여 시즈닝 하는 방법
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제 1항에 있어서,해리율 및 이온화율을 피드백 제어하기 위하여 공정 온도, 입력 RF 전력, 공정 압력을 제어하여 플라즈마 식각 장치를 이용하여 시즈닝 하는 방법
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6 6
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