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비어 홀의 충진방법 및 반도체 패키지 방법

  • 기술번호 : KST2014038625
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 비어 홀의 충진방법 및 반도체 패키지 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로 (a)용융 가능하며, 1nm 내지 30㎛의 입경을 갖는 도전성 입자와 상기 도전성 입자의 융점에서 경화되지 않는 폴리머를 포함하는 이방성 도전 접속제를 시드 금속층으로 도금된 비어 홀이 형성된 기판의 개구부에 도포하는 단계; (b)상기 이방성 도전 접속제를 상기 폴리머의 경화가 완료되지 않는 온도까지 가열하여 도전성 입자를 비어 홀에 충진하는 단계; 및 (c) 폴리머를 경화시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하고, 본 발명에 따른 비어 홀의 충진방법 및 반도체 패키지 방법은 불량률이 적고, 공정이 단순하며, 대량생산에 용이하다. 저융점 금속, 폴리머, 비어 홀, 충진, 반도체 패키지
Int. CL H01L 21/60 (2006.01)
CPC H01L 21/486(2013.01)
출원번호/일자 1020090048844 (2009.06.03)
출원인 중앙대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1083042-0000 (2011.11.07)
공개번호/일자 10-2010-0130260 (2010.12.13) 문서열기
공고번호/일자 (20111116) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.06.03)
심사청구항수 17

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 중앙대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 동작구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김종민 대한민국 서울특별시 동작구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인다나 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *길 **, 신관 *층~*층, **층(역삼동, 광성빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 중앙대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 동작구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.06.03 수리 (Accepted) 1-1-2009-0334727-87
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.07.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.08.17 수리 (Accepted) 9-1-2010-0053135-77
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.01.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0055589-55
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.03.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0226191-18
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.03.28 수리 (Accepted) 1-1-2011-0226192-53
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.07.20 수리 (Accepted) 4-1-2011-5148879-89
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.07.20 수리 (Accepted) 4-1-2011-5148883-62
9 등록결정서
Decision to grant
2011.10.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0628357-54
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000494-54
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.10.20 수리 (Accepted) 4-1-2014-5123944-33
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.04 수리 (Accepted) 4-1-2018-5125629-51
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.07.29 수리 (Accepted) 4-1-2019-5151122-15
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.01 수리 (Accepted) 4-1-2019-5153932-16
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(a) 용융 가능하며, 1nm 내지 30㎛의 입경을 갖는 도전성 입자와 상기 도전성 입자의 융점에서 경화되지 않는 폴리머를 포함하는 이방성 도전 접속제를 시드 금속층으로 도금된 비어 홀이 형성된 기판의 개구부에 도포하는 단계; (b) 상기 이방성 도전 접속제를 상기 폴리머의 경화가 완료되지 않는 온도까지 가열하여 도전성 입자를 비어 홀에 충진하는 단계; 및 (c) 폴리머를 경화시키는 단계를 포함하는 비어 홀의 충진방법
2 2
제 1 항에 있어서, (d) 기판의 표면에 경화된 폴리머를 선택적으로 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 비어 홀의 충진방법
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 도전성 입자의 입경은 1nm 내지 30nm인 것을 특징으로 하는 비어 홀의 충진방법
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 도전성 입자는 금속, 비금속 및 합금으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 비어 홀의 충진방법
5 5
제 4 항에 있어서, 상기 도전성 입자는 탄소 나노 튜브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 비어 홀의 충진방법
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 폴리머는 열가소성 수지, 열경화성 수지 및 광반응성 수지로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 비어 홀의 충진방법
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 이방성 도전 접속제는 표면활성화 수지를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 비어 홀의 충진방법
8 8
제 1 항에 있어서, 상기 시드 금속층은 기판 표면에 형성된 제 1 금속층 및 제 1 금속층의 표면에 형성된 제 2 금속층을 포함하는 것을 특징으로 하는 비어 홀의 충진방법
9 9
제 8 항에 있어서, 상기 제 2 금속층은 니켈 또는 금으로 형성된 것을 특징으로 하는 비어 홀의 충진방법
10 10
(a) 용융 가능하며, 1nm 내지 30㎛의 입경을 갖는 도전성 입자와 상기 도전성 입자의 융점에서 경화되지 않는 폴리머를 포함하는 이방성 도전 접속제를 시드 금속층으로 도금된 비어 홀이 형성된 기판의 개구부에 도포하는 단계; (b)상기 이방성 도전 접속제를 상기 폴리머의 경화가 완료되지 않는 온도까지 가열하여 도전성 입자를 비어 홀에 충진하는 단계; (c) 폴리머를 경화시킨 후, 기판의 표면에 경화된 폴리머를 선택적으로 제거하는 단계; 및 (d) 상기 비어 홀에 충진된 도전성 입자와 배선 기판을 전기적으로 접속시키는 단계를 포함하는 반도체 패키지 방법
11 11
제 10 항에 있어서, 상기 도전성 입자의 입경은 1nm 내지 30nm인 것을 특징으로 하는 반도체 패키지 방법
12 12
제 10 항에 있어서, 상기 도전성 입자는 금속, 비금속 및 합금으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 반도체 패키지 방법
13 13
제 12 항에 있어서, 상기 도전성 입자는 탄소 나노 튜브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지 방법
14 14
제 10 항에 있어서, 상기 폴리머는 열가소성 수지, 열경화성 수지 및 광반응성 수지로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 반도체 패키지 방법
15 15
제 10 항에 있어서, 상기 이방성 도전 접속제는 표면활성화 수지를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지 방법
16 16
제 10 항에 있어서, 상기 시드 금속층은 기판 표면에 형성된 제 1 금속층 및 제 1 금속층의 표면에 형성된 제 2 금속층을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지 방법
17 17
제 16 항에 있어서, 상기 제 2 금속층은 니켈 또는 금으로 형성된 것을 특징으로 하는 반도체 패키지 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.