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고분자전해질을 이용한 기판 전처리를 통한 탄소나노튜브 박막 제조방법 및 그 방법으로 제조된 탄소나노튜브 박막

  • 기술번호 : KST2014039476
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 고분자전해질(polyelectrolyte)을 이용한 기판 전처리를 통한 탄소나노튜브 박막 제조 방법 및 그 방법으로 제조된 탄소나노튜브 박막에 관한 것으로, 탄소나노튜브 박막의 물리적 및 전기적 특성을 향상시키기 위한 것이다. 본 발명에 따르면, 기판을 준비하고, 고분자전해질을 함유하는 전처리 용액으로 기판을 전처리하여 고분자전해질 코팅층을 형성하고, 고분자전해질 코팅층 위에 탄소나노튜브 박막을 코팅한다. 이때 고분자전해질은 양이온성 고분자전해질 또는 음이온성 고분자전해질을 포함한다. 기판을 양이온성 고분자전해질을 포함하는 제1 전처리 용액으로 전처리할 수 있다. 제1 전처리 용액으로 1차 전처리한 후 음이온성 고분자전해질을 포함하는 제2 전처리 용액으로 2차 전처리를 수행할 수 있다. 또한 제1 전처리 용액 및 제2 전처리 용액의 반복적 전처리 과정을 포함할 수 있다. 이와 같은 고분자전해질을 이용한 기판 전처리를 통하여 기판에 대한 탄소나노튜브 박막의 접착성 및 전기전도성을 향상시킬 수 있다.
Int. CL B01J 19/00 (2006.01) B82B 3/00 (2006.01) C08J 7/02 (2006.01)
CPC C01B 32/16(2013.01) C01B 32/16(2013.01) C01B 32/16(2013.01) C01B 32/16(2013.01)
출원번호/일자 1020100059343 (2010.06.23)
출원인 전자부품연구원
등록번호/일자 10-1172688-0000 (2012.08.03)
공개번호/일자 10-2011-0139330 (2011.12.29) 문서열기
공고번호/일자 (20120810) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.06.23)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 한종훈 대한민국 경기도 고양시 일산구
2 신권우 대한민국 경기도 화성시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박종한 대한민국 서울특별시 구로구 디지털로**길 * (구로동, 에이스하이엔드타워*차) ***호(한림특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 경기도 성남시 분당구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.06.23 수리 (Accepted) 1-1-2010-0401902-45
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.12.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.01.13 수리 (Accepted) 9-1-2012-0001550-28
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.04.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0217587-54
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.06.12 수리 (Accepted) 1-1-2012-0467109-59
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.06.12 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0467120-52
7 등록결정서
Decision to grant
2012.07.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0441172-64
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.17 수리 (Accepted) 4-1-2013-0013766-37
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판을 준비하는 단계;고분자전해질(polyelectrolyte) 10 내지 0
2 2
삭제
3 3
제1항에 있어서, 상기 양이온성 고분자전해질은,poly(diallydimethylammonium chloride), poly(allyamine hydrochloride), polyvinyl alcohol, poly(ethylenenimine), doped polyaniline poly(acrylamide-co-diallylmethylammonium chloride) 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자전해질을 이용한 기판 전처리를 통한 탄소나노튜브 박막 제조 방법
4 4
삭제
5 5
삭제
6 6
제3항에 있어서,상기 음이온성 고분자전해질은 poly(acrylic acid) 및 그의 염(salt), poly(styrene sulfonic acid) 및 그의 염(salt), polyarmic acid 및 그의 염(salt), poly(styrene-alt-maleic acid) 및 그의 염(salt), poly(methacrylicacid) 및 그의 염(salt), poly(vinylsulfonic acid) 및 그의 염(salt), poly(anetholesulfonic acid) 및 그의 염(salt), poly(4-styrenesulfonic acid-co-maleic acid) 및 그의 염(salt) 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자전해질을 이용한 기판 전처리를 통한 탄소나노튜브 박막 제조 방법
7 7
삭제
8 8
삭제
9 9
제1항에 있어서, 상기 전처리 단계는,딥(dip) 코팅, 스프레이(spray) 코팅, 스핀(spin) 코팅, 솔루션 캐스팅(solution casting), 도롭핑(dropping), 롤(roll) 코팅, 그라비아 코팅, 바 코팅(bar coating) 중 적어도 하나의 방법으로 진행하는 것을 특징으로 하는 고분자전해질을 이용한 기판 전처리를 통한 탄소나노튜브 박막 제조 방법
10 10
제1항, 제3항, 제6항 또는 제9항의 제조 방법으로 제조된 탄소나노튜브 박막
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 전자부품연구원 전략기술개발사업 고전기열전도성 CNT-고분자 복합재 기반기술 개발