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기판 위에 전도성 유기 박막을 형성하는 단계 및 상기 전도성 유기 박막의 표면을 표면 처리하는 단계를 포함하고,상기 전도성 유기 박막은 PEDOT:PSS 층이고, 디메틸포름아미드 용액을 이용하여 PEDOT:PSS 층 표면을 표면 처리하는 것을 특징으로 하는 전도성 유기 박막의 제조 방법
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제 2항에 있어서,상기 표면 처리 단계에서, PEDOT:PSS 층에 디메틸포름아미드를 스핀 코팅한 후 베이킹 하는 것을 특징으로 하는 전도성 유기 박막의 제조 방법
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제 2항에 있어서,상기 표면 처리 단계에서, PEDOT:PSS 층에 디메틸포름아미드를 드롭 코팅한 후 베이킹 하는 것을 특징으로 하는 전도성 유기 박막의 제조 방법
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제 2항에 있어서,상기 기판 위에 전도성 유기 박막을 형성하는 단계는,상기 기판 위에 PEDOT:PSS를 스핀 코팅한 후, 스핀 코팅된 PEDOT:PSS를 베이킹하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 유기 박막의 제조 방법
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제 5항에 있어서,상기 스핀 코팅 단계와 베이킹 단계가 교대로 2회 이상 반복되는 다중 스핀 코팅법을 이용하여 PEDOT:PSS 층을 형성하는 것을 특징으로 하는 전도성 유기 박막의 제조 방법
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기판 상에 PEDOT:PSS 층을 형성하는 단계;상기 PEDOT:PSS 층에 디메틸포름아미드를 이용하여 액상 표면 처리하는 단계; 및상기 액상 표면 처리된 PEDOT:PSS 층 상에 광활성층 및 전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자 소자의 제조 방법
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제 7항에 있어서,상기 PEDOT:PSS 층은 p형이고, 상기 광활성층은 빛에 의해 전자-정공 쌍을 형성하는 고분자 물질의 혼합물인 것을 특징으로 하는 전자 소자의 제조 방법
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제 8항에 있어서,상기 고분자 광활성층은 P3HT와 PCBM의 혼합 용액으로부터 형성되는 것을 특징으로 하는 전자 소자의 제조 방법
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제 7항에 있어서,상기 전극은 열증발기를 이용하여 LiF와 Al을 연속으로 증착하여 형성하는 단계를 포함하는 전자 소자의 제조 방법
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제 7항에 있어서,전극을 형성한 후 후열 처리를 실시하는 단계를 포함하는 전자 소자의 제조 방법
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제 7항에 있어서,상기 기판은 상면에 투명전극층이 코팅된 것을 특징으로 하는 전자 소자의 제조 방법
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제 12항에 있어서,상기 기판에 코팅된 투명전극층을 직사각형 모양으로 패턴하는 것을 특징으로 하는 전자 소자의 제조 방법
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표면이 디메틸포름아미드로 액상 표면 처리된 PEDOT:PSS 층을 전도성 유기 박막으로 포함하는 것을 특징으로 하는 전자 소자
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제 14항에 있어서,상기 액상 표면 처리된 PEDOT:PSS 층은 정공 주입층, 전극층 및 채널층 중 어느 하나로 사용되는 것을 특징으로 하는 전자 소자
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제 14항에 있어서,상기 전자 소자는 액상 표면 처리된 PEDOT:PSS 층을 광활성층과 전극 사이에 포함하는 유기 태양 전지인 것을 특징으로 하는 전자 소자
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