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기판,상기 기판 위에 위치하고, 상기 기판의 판면과 교차하는 방향으로 뻗어서 상호 이격되어 배열된 복수의 제1 나노 구조체들,상기 기판 위에 위치하고, 상기 복수의 제1 나노 구조체들과 이격되어 배열된 복수의 제2 나노 구조체들,상기 제1 나노 구조체들의 표면 및 상기 제2 나노 구조체들의 표면으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 표면 위에 제공된 산화막, 및상기 산화막 위에 제공된 도전층을 포함하고,상기 제1 나노 구조체들 및 상기 제2 나노 구조체들은 각각 반도체 물질을 포함하고, 상기 복수의 제1 나노 구조체들 중 하나의 제1 나노 구조체를 상기 기판의 판면에 평행한 방향으로 자른 단면의 평균 폭은 상기 복수의 제2 나노 구조체들 중 하나의 제2 나노 구조체를 상기 기판의 판면에 평행한 방향으로 자른 단면의 평균 폭보다 작으며,상기 제2 나노 구조체의 상부는,상기 도전층과 직접 접촉하는 상단 표면, 및 상기 상단 표면과 연결되고, 상기 상단 표면의 가장자리를 둘러싸며, 상기 산화막과 직접 접촉하는 상부 측면을 포함하는 쇼트키(schottky) 태양 전지
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제1항에 있어서,상기 도전층 위에 제공된 반사막을 더 포함하고, 상기 반사막은 구리 및 금으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 금속을 포함하는 쇼트키 태양 전지
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제2항에 있어서,상기 도전층은 니켈을 포함하는 쇼트키 태양 전지
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제2항에 있어서,상기 기판 아래에 제공된 투명 도전층을 더 포함하고, 상기 투명 도전층의 광투과율은 상기 도전층의 광투과율보다 크며, 상기 제1 나노 구조체들의 폭은 상기 투명 도전층으로부터 상기 도전층으로 갈수록 점차 감소하는 쇼트키 태양 전지
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제4항에 있어서,상기 투명 도전층의 광투과율은 상기 도전층의 광투과율보다 90% 내지 99% 더 큰 쇼트키 태양 전지
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제1항에 있어서,상기 산화막은 SiO2를 포함하고, 상기 산화막의 두께는 1nm 내지 2nm인 쇼트키 태양 전지
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제4항에 있어서,상기 기판과 상기 투명 도전층 사이에 제공된 반도체층을 더 포함하는 쇼트키 태양 전지
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삭제
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제1항에 있어서,상기 제2 나노 구조체들은 벽 형상을 가지고, 상기 상단 표면은 상기 기판의 판면과 실질적으로 평행한 쇼트키 태양 전지
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제1항에 있어서,상기 기판, 상기 복수의 제1 나노 구조체들 및 상기 복수의 제2 나노 구조체들은 일체로 형성된 쇼트키 태양 전지
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제10항에 있어서,상기 복수의 제2 나노 구조체들의 평균 높이는 상기 복수의 제1 나노 구조체들의 평균 높이보다 큰 쇼트키 태양 전지
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제1 도전체상기 제1 도전체 위에 위치하는 반도체층,상기 반도체층 위에 위치하고, 상기 반도체층의 판면과 교차하는 방향으로 뻗어서 상호 이격되어 배열된 복수의 나노 구조체들,상기 복수의 나노 구조체들 위에 제공된 산화막,상기 산화막을 덮는 제2 도전체, 및상기 제2 도전체를 덮는 커버층을 포함하고,상기 제1 도전체의 광투과율은 상기 제2 도전체의 광투과율보다 크고, 상기 복수의 나노 구조체들 중 하나 이상의 나노 구조체는 상기 제1 도전체로부터 멀어질수록 그 평균 폭이 점차 작아지는 쇼트키 태양 전지
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13
제12항에 있어서,상기 제1 도전체의 광투과율은 상기 제2 도전체의 광투과율보다 90% 내지 99% 더 큰 쇼트키 태양 전지
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삭제
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제12항에 있어서,상기 제2 도전체는 니켈을 포함하는 쇼트키 태양 전지
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모재를 제공하는 단계,상기 모재를 에칭하여 기판, 복수의 제1 나노 구조체들 및 복수의 제2 나노구조체들을 제공하는 단계,상기 복수의 제1 나노 구조체들의 표면 및 상기 복수의 제2 나노 구조체들의 표면으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 표면 위에 산화막을 제공하는 단계, 및상기 복수의 제1 나노 구조체들 및 상기 복수의 제2 나노 구조체들 위에 도전층을 제공하는 단계를 포함하고,상기 기판, 복수의 제1 나노 구조체들 및 복수의 제2 나노 구조체들을 제공하는 단계에서, 상기 복수의 제1 나노 구조체들 중 하나의 제1 나노 구조체를 상기 기판의 판면에 평행한 방향으로 자른 단면의 평균 폭은 상기 복수의 제2 나노 구조체들 중 하나의 제2 나노 구조체를 상기 기판의 판면에 평행한 방향으로 자른 단면의 평균 폭보다 작은 쇼트키 태양 전지의 제조 방법
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제16항에 있어서,상기 기판의 아래에 반도체층을 제공하는 단계, 및상기 반도체층의 아래에 투명 도전층을 제공하는 단계를 더 포함하는 쇼트키 태양 전지의 제조 방법
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제16항에 있어서,상기 도전층 위에 반사막을 제공하는 단계를 더 포함하고, 상기 반사막은 구리 및 금으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 금속을 포함하는 쇼트키 태양 전지의 제조 방법
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제18항에 있어서,상기 도전층을 제공하는 단계에서, 상기 도전층은 니켈을 포함하는 쇼트키 태양 전지의 제조 방법
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제16항에 있어서,상기 산화막을 제공한 후 상기 복수의 제1 나노 구조체들 및 상기 복수의 제2 나노 구조체들 사이에 수지층을 제공하는 단계,상기 수지층의 상면과 상기 복수의 제2 나노 구조체들 위의 산화막을 제거하여 상기 복수의 제2 나노 구조체들 중 하나 이상의 제2 나노 구조체의 상단 표면을 외부 노출시키는 단계, 및상기 수지층을 제거하는 단계를 더 포함하는 쇼트키 태양 전지의 제조 방법
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제20항에 있어서,상기 복수의 제1 나노 구조체들 및 복수의 제2 나노 구조체들을 제공하는 단계에서, 상기 복수의 제2 나노 구조체들의 평균 높이는 상기 복수의 제1 나노 구조체들의 평균 높이보다 큰 쇼트키 태양 전지의 제조 방법
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기판과 상기 기판 위에 위치하고 상호 이격된 복수의 나노 구조체들을 제공하는 단계,상기 복수의 나노 구조체들 위에 산화막을 제공하는 단계,상기 산화막을 덮는 도전체를 제공하는 단계,상기 도전체를 덮는 커버층을 제공하는 단계,상기 기판을 분리시키는 단계,상기 복수의 나노 구조체들의 아래에 반도체층을 제공하는 단계, 및상기 반도체층의 아래에 상기 도전체의 광투과율보다 낮은 광투과율을 가지는 또다른 도전체를 제공하는 단계를 포함하는 쇼트키 태양 전지의 제조 방법
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제22항에 있어서,상기 도전체를 제공하는 단계에서, 상기 도전체의 광투과율은 상기 또다른 도전체의 광투과율보다 90% 내지 99% 더 큰 쇼트키 태양 전지의 제조 방법
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제22항에 있어서,상기 기판과 상기 기판 위에 위치하고 상호 이격된 복수의 나노 구조체들을 제공하는 단계에서, 상기 복수의 나노 구조체들 중 하나 이상의 나노 구조체는 상기 도전체로부터 멀어질수록 그 폭이 점차 작아지게 제공되는 쇼트키 태양 전지의 제조 방법
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