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수직 정렬되는 탄소나노튜브 필름 제조 방법에 있어서,불순물을 포함하는 탄소나노튜브 조성물을 산 수용액으로 산화 처리하는 산처리 과정을 수행하고, 상기 산화 처리된 탄소나노튜브 조성물을 양이온성 분산제와 반응시킨 후, 유기 용매를 사용하여 불순물을 추출하여 여과하는 습식 정제 방법으로 불순물이 포함된 탄소나노튜브 조성물을 정제하여 고순도의 탄소나노튜브를 얻어내는 단계;상기 정제되어 얻어진 탄소나노튜브를 유기 용매에서 초음파 진동을 가하여 분산시키는 과정, 상기 탄소나노튜브가 분산된 분산용액을 멤브레인 필터 상에 상기 분산용액을 흘러주면서 감압시켜 진행되는 필터링 공정을 수행하여 상기 탄소나노튜브들이 수직으로 배열된 형상을 가지는 탄소나노튜브 필름을 제조하는 단계;상기 탄소나노튜브 필름에 포함되는 유기물을 제거하기 위하여 열처리를 수행하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 수직 정렬되는 탄소나노튜브 필름 제조 방법
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청구항 1에 있어서,상기 불순물을 포함하는 탄소나노튜브 조성물은 100℃ ~ 110℃로 가열된 산 수용액을 3 ~ 12시간 동안 환류시켜 산화 처리되는 것을 특징으로 하는 수직 정렬되는 탄소나노튜브 필름 제조 방법
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청구항 3에 있어서,상기 산 수용액은 염산, 황산 및 질산 중 어느 하나가 포함된 수용액이거나, 적어도 두개 이상이 포함된 수용액인 것을 특징으로 하는 수직 정렬되는 탄소나노튜브 필름 제조 방법
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청구항 4에 있어서,상기 탄소나노튜브 조성물의 산화 처리되는 부분에는 카르복실기, 히드록실기, 알데하이드기, 질산기 및 황산기 중 어느 하나가 도입되는 것을 특징으로 하는 수직 정렬되는 탄소나노튜브 필름 제조 방법
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청구항 1에 있어서, 상기 산화 처리된 탄소나노튜브 조성물과 양이온성 분산제의 반응은, 고체 상태에서 섞여진 후 90℃ ~ 150℃ 범위 내에서 12 ~ 96시간 동안 진행되는 것을 특징으로 하는 수직 정렬되는 탄소나노튜브 필름 제조 방법
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청구항 6에 있어서,상기 양이온성 분산제는 상기 산화 처리된 탄소나노튜브 조성물 중량의 2배 ~ 10배 양이 섞여지는 것을 특징으로 하는 수직 정렬되는 탄소나노튜브 필름 제조 방법
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청구항 6에 있어서,상기 양이온성 분산제는 데실아민(decylamine), 도데실아민(dodecylamine), 헥사데실아민(hexadecylamine) 및 옥타데실아민(octadecylamine) 중 어느 하나이거나, 적어도 두개 이상이 혼합된 혼합물질인 것을 특징으로 하는 수직 정렬되는 탄소나노튜브 필름 제조 방법
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청구항 1에 있어서, 상기 여과과정은,내부에 필터가 장착된 여과용기를 속스렛 추출(soxlet extraction) 장치 내에 장착하고, 상기 여과용기 내에 양이온성 분산제와 반응시킨 탄소나노튜브 조성물을 넣은 후, 유기 용매를 이용하여 상기 탄소나노튜브 조성물을 반복 세척하여 불순물을 추출하는 것을 특징으로 하는 수직 정렬되는 탄소나노튜브 필름 제조 방법
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청구항 9에 있어서,상기 탄소나노튜브 조성물의 반복 세척은 12시간 ~ 48시간 동안 진행하여 불순물을 추출하는 것을 특징으로 하는 수직 정렬되는 탄소나노튜브 필름 제조 방법
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청구항 9에 있어서,상기 필터의 기공 지름은 탄소나노튜브의 길이보다 더 작은 것을 특징으로 하는 수직 정렬되는 탄소나노튜브 필름 제조 방법
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청구항 9에 있어서,상기 유기 용매는 테트라히드로푸란(tetrahydrofuran) 또는 클로로포름인 것을 특징으로 하는 수직 정렬되는 탄소나노튜브 필름 제조 방법
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청구항 1에 있어서, 상기 열처리는,300℃ ~ 400℃ 범위로 유지되는 노(furnace)에서 10분 내지 1시간 동안 80sccm ~ 120sccm의 공기를 흘러주어 진행되는 것을 특징으로 하는 수직 정렬되는 탄소나노튜브 필름 제조 방법
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청구항 1에 있어서,유기 용매는 테트라히드로푸란(tetrahydrofuran) 또는 클로로포름인 것을 특징으로 하는 수직 정렬되는 탄소나노튜브 필름 제조 방법
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청구항 1에 있어서,상기 멤브레인(membrane) 필터는 폴리비닐리덴플로라이드(polyvinylidene fluoride) 또는 폴리테트라플루오로에틸렌(polytetrafluoroethylene)이 사용되는 것을 특징으로 하는 수직 정렬되는 탄소나노튜브 필름 제조 방법
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청구항 1에 있어서,상기 멤브레인(membrane) 필터의 기공 크기는 200nm ~ 1㎛ 사이의 범위인 것을 특징으로 하는 수직 정렬되는 탄소나노튜브 필름 제조 방법
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청구항 1, 청구항3 내지 청구항13, 청구항15, 청구항17 및 청구항18 중 선택된 어느 한 항에 있어서,상기 탄소나노튜브 필름에는 수직 방향으로 탄소나노튜브가 정렬되어 있고, 상기 수직 방향으로 정렬되는 탄소나노튜브는 전계 방출 에미터로 사용되는 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브 필름 제조 방법
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