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전자기 부양 신소재 박막증착장치

  • 기술번호 : KST2014042242
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 플라즈마 도움 화학 기상 증착 장치 및 방법을 제공한다. 이 장치는 기판을 장착하는 기판 홀더를 포함하는 진공 챔버, 일단은 진공 챔버의 상부면에 형성된 관통홀에 장착되는 유전체 튜브, 유전체 튜브를 감싸도록 배치되고 RF 전력을 제공받아 유전체 튜브의 내부에 플라즈마를 생성하는 플라즈마 발생부, 및 유전체 튜브에 금속 증기를 제공하는 증발원을 포함한다. 금속 증기는 플라즈마를 통과하여 기판에 제공되어 금속-질화막 또는 금속-산화막을 형성한다.
Int. CL H01L 21/205 (2006.01)
CPC C23C 16/4481(2013.01) C23C 16/4481(2013.01) C23C 16/4481(2013.01) C23C 16/4481(2013.01)
출원번호/일자 1020120099710 (2012.09.10)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자 10-1456549-0000 (2014.10.24)
공개번호/일자 10-2014-0033641 (2014.03.19) 문서열기
공고번호/일자 (20141031) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.09.10)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김정형 대한민국 대전광역시 유성구
2 유신재 대한민국 대전 유성구
3 이주인 대한민국 대전 유성구
4 성대진 대한민국 충남 공주시
5 신용현 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이평우 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **-*(역삼동, IT빌딩 *층)(특허법인 누리)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.09.10 수리 (Accepted) 1-1-2012-0726593-87
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2013.03.19 수리 (Accepted) 1-1-2013-0236554-36
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.05.03 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.06.05 수리 (Accepted) 9-1-2013-0042698-16
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.09.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0629758-07
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.10.07 수리 (Accepted) 1-1-2013-0904872-86
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.10.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0904807-28
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2014-5004381-25
9 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2014.03.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0178949-09
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.04.15 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2014-0356769-61
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.04.15 수리 (Accepted) 1-1-2014-0356806-63
12 등록결정서
Decision to grant		 2014.08.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0554905-10
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
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번호 청구항
1 1
삭제
2 2
기판을 장착하는 기판 홀더를 포함하는 진공 챔버;일단은 상기 진공 챔버의 상부면에 형성된 관통홀에 장착되는 유전체 튜브;상기 유전체 튜브를 감싸도록 배치되고 RF 전력을 제공받아 상기 유전체 튜브의 내부에 플라즈마를 생성하는 플라즈마 발생부; 및상기 유전체 튜브에 금속 증기를 제공하는 증발원을 포함하고,상기 금속 증기는 상기 플라즈마를 통과하여 상기 기판에 제공되어 금속-질화막 또는 금속-산화막을 형성하고,상기 증발원은: 상기 플라즈마 발생부와 이격되고 상기 플라즈마 발생부 상부에서 상기 유전체 튜브를 감싸도록 배치되는 전자기 부양 코일; 및상기 전자기 부양 코일에 교류 전력을 제공하는 교류 전원을 포함하고,상기 전자기 부양 코일은 상기 유전체 튜브 내부에서 금속 물질을 전자기 부양하고 가열하여 증발시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 도움 화학 기상 증착 장치
3 3
기판을 장착하는 기판 홀더를 포함하는 진공 챔버;일단은 상기 진공 챔버의 상부면에 형성된 관통홀에 장착되는 유전체 튜브;상기 유전체 튜브를 감싸도록 배치되고 RF 전력을 제공받아 상기 유전체 튜브의 내부에 플라즈마를 생성하는 플라즈마 발생부; 및상기 유전체 튜브에 금속 증기를 제공하는 증발원을 포함하고,상기 금속 증기는 상기 플라즈마를 통과하여 상기 기판에 제공되어 금속-질화막 또는 금속-산화막을 형성하고,상기 증발원은: 일단이 개방된 보조 유전체 튜브;상기 보조 유전체 튜브를 감싸도록 배치되는 전자기 부양 코일; 상기 전자기 부양 코일에 교류 전력을 제공하는 교류 전원; 상기 보조 유전체 튜브의 일단과 상기 유전체 튜브의 타단을 연결하고 곡선부를 포함하는 연결관; 및상기 연결관을 가열하는 가열부를 포함하고,상기 전자기 부양 코일은 상기 보조 유전체 튜브 내부에 금속 물질을 전자기 부양하고 가열하여 상기 금속 물질을 증발시키고,상기 금속 물질이 증발되어 형성된 상기 금속 증기는 상기 연결관을 통하여 상기 유전체 튜브의 타단을 통하여 제공되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 도움 화학 기상 증착 장치
4 4
기판을 장착하는 기판 홀더를 포함하는 진공 챔버;일단은 상기 진공 챔버의 상부면에 형성된 관통홀에 장착되는 유전체 튜브;상기 유전체 튜브를 감싸도록 배치되고 RF 전력을 제공받아 상기 유전체 튜브의 내부에 플라즈마를 생성하는 플라즈마 발생부; 및상기 유전체 튜브에 금속 증기를 제공하는 증발원을 포함하고,상기 금속 증기는 상기 플라즈마를 통과하여 상기 기판에 제공되어 금속-질화막 또는 금속-산화막을 형성하고,상기 증발원은: 개구부를 포함하는 보조 용기;상기 보조 용기를 감싸도록 배치되는 유도 코일; 상기 유도 코일에 교류 전력을 제공하는 교류 전원; 상기 보조 용기의 상기 개구부와 상기 유전체 튜브의 타단을 연결하고 곡선 부를 포함하는 연결관; 및상기 연결관을 가열하는 가열부를 포함하고,상기 유도 코일은 상기 보조 용기 내부에 금속 물질을 가열하여 증발시키고,상기 금속 물질이 증발하여 형성된 상기 금속 증기는 상기 연결관을 통하여 상기 유전체 튜브의 타단을 통하여 제공되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 도움 화학 기상 증착 장치
5 5
제2 항에 있어서,상기 유전체 튜브의 타단에 연결된 제1 가스 공급부; 및상기 진공 챔버의 측면에 연결된 제2 가스 공급부를 더 포함하고,상기 제1 가스 공급부는 공정 가스를 제공하고, 상기 제2 가스 공급부는 불활성 가스를 제공하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 도움 화학 기상 증착 장치
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제2 항 내지 제 5항 중에서 어느 한 항에 있어서,상기 금속-질화막은 GaN, InN 중에서 어느 하나이고, 상기 금속-산화막은 AlO, ZnO 중에서 어느 하나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 도움 화학 기상 증착 장치
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제2 항 내지 제 5항 중에서 어느 한 항에 있어서,상기 플라즈마 발생부는 상기 유전체 튜브 주위에 감긴 유도 결합 플라즈마 발생용 안테나 또는 상기 유전체 튜브 주위를 감고 있는 축전 결합 플라즈마 발생용 전극인 것을 특징으로 하는 플라즈마 도움 화학 기상 증착 장치
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10 10
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지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한국표준과학연구원 첨단융합기술개발 우주 모사 환경 발생 및 정밀 제어 기반 신공정 기술 개발