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표면처리된 잉크젯 프린트용 기판

  • 기술번호 : KST2014042766
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 유기물 반도체의 잉크젯 프린트용 기판에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 균일하고 결정성 있는 유기물 반도체 박막을 형성하도록 표면에너지가 조절되는 유기물 반도체의 잉크젯 프린트용 기판에 관한 것이다. 본 발명에 따른 잉크젯 프린트용 기판은 유전층의 표면이 친수성 표면으로 처리되어 있어, 기판에 인쇄된 유기반도체 분자들이 높은 결정성을 가지면서 자기 조립된다. 잉크젯 프린팅
Int. CL H01L 51/48 (2006.01) H01L 29/78 (2006.01) H01L 51/50 (2006.01)
CPC H01L 51/0005(2013.01) H01L 51/0005(2013.01) H01L 51/0005(2013.01) H01L 51/0005(2013.01) H01L 51/0005(2013.01) H01L 51/0005(2013.01)
출원번호/일자 1020090003479 (2009.01.15)
출원인 포항공과대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1069585-0000 (2011.09.27)
공개번호/일자 10-2010-0084063 (2010.07.23) 문서열기
공고번호/일자 (20111005) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.01.15)
심사청구항수 27

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 포항공과대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 포항시 남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조길원 대한민국 경북 포항시 남구
2 임정아 대한민국 경기 고양시 일산구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박상훈 대한민국 서울특별시 영등포구 선유로 *길 **, **층 ****호 (문래동*가, 문래 sk v*센터)(새생명특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 포항공과대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 포항시 남구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.01.15 수리 (Accepted) 1-1-2009-0027598-60
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2009.10.23 수리 (Accepted) 1-1-2009-0648885-13
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.10.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0656099-75
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.05.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.06.17 수리 (Accepted) 9-1-2010-0038499-73
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.10.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0492648-00
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2010.12.29 수리 (Accepted) 1-1-2010-0871683-86
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2011.01.31 수리 (Accepted) 1-1-2011-0074135-95
9 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2011.02.28 수리 (Accepted) 1-1-2011-0143988-10
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.03.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0229480-12
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.03.29 수리 (Accepted) 1-1-2011-0229611-18
12 등록결정서
Decision to grant
2011.09.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0515722-00
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.06.13 수리 (Accepted) 4-1-2013-0025573-58
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5024386-11
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.20 수리 (Accepted) 4-1-2019-5243581-27
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5245997-53
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2019-5247115-68
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
표면에너지가 45 mJ/㎥ 이상인 친수성 표면에 유기 반도체를 비점이 200 ℃ 이상인 용매에 용해시킨 용액을 적하시켜 결정성 반도체 박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 인쇄 방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 친수성 표면은 트랜지스터의 유전층인 것을 특징으로 하는 인쇄 방법
3 3
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 친수성 표면은 UV-오존 또는 산소 플라즈마 처리된 표면인 것을 특징으로 하는 인쇄 방법
4 4
제3항에 있어서, 상기 친수성 표면은 실리콘 옥사이드 또는 고분자 절연층인것을 특징으로 하는 인쇄 방법
5 5
삭제
6 6
제1항에 있어서, 상기 친수성 표면은 유전층에 형성된 자기조립 단분자막인 것을 특징으로 하는 인쇄 방법
7 7
제6항에 있어서, 상기 자기조립 단분자막은 머켑토프로필트리메톡시실란(MPS)인 것을 특징으로 하는 인쇄 방법
8 8
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 유기 반도체 용액은 잉크젯 인쇄를 통해 적하되는 것을 특징으로 하는 인쇄 방법
9 9
제8항에 있어서, 상기 유기 반도체 용액은 친수성 표면과의 접촉각이 5°이하인 것을 특징으로 하는 인쇄 방법
10 10
제8항에 있어서, 상기 유기 반도체는 6,13-비스(트리이소프로필실릴에티닐)펜타센인 것을 특징으로 하는 인쇄 방법
11 11
삭제
12 12
제1항에 있어서, 상기 용매는 테트랄린인 것을 특징으로 하는 인쇄 방법
13 13
기판을 마련하는 단계; 상기 기판에 게이트를 형성하는 단계; 상기 게이트 상에 게이트 절연막을 형성하는 단계; 상기 게이트 절연막에 소스와 드레인 전극을 형성하는 단계; 상기 절연막이 표면에너지가 45 mJ/㎥ 이상의 친수성을 가지도록 표면처리하는 단계; 상기 소스와 드레인 전극 사이에 유기 반도체를 비점이 200 ℃ 이상인 용매에 용해시킨 용액을 적하시켜 결정성 반도체 박막을 형성하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 트렌지스터 제조 방법
14 14
제13항에 있어서, 상기 절연막은 실리콘 옥사이드 또는 고분자 절연층인 것을 특징으로 하는 트렌지스터 제조 방법
15 15
제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 표면처리는 UV-오존 또는 산소 플라즈마 처리인 것을 특징으로 하는 트렌지스터 제조 방법
16 16
제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 표면처리는 자기조립 단분자막을 형성하는 것임을 특징으로 하는 트렌지스터 제조 방법
17 17
제16항에 있어서, 상기 자기조립 단분자막은 머켑토프로필트리메톡시실란(MPS)인 것을 특징으로 하는 트렌지스터 제조 방법
18 18
삭제
19 19
제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 유기 반도체 용액은 잉크젯 인쇄를 통해 적하되는 것을 특징으로 하는 트렌지스터 제조 방법
20 20
제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 유기 반도체 용액은 표면처리된 절연막과의 접촉각이 5°이하인 것을 특징으로 하는 트렌지스터 제조 방법
21 21
제19항에 있어서, 상기 유기 반도체는 6,13-비스(트리이소프로필실릴에티닐)펜타센인 것을 특징으로 하는 트렌지스터 제조 방법
22 22
제13항에 있어서, 상기 용매는 테트랄린인 것을 특징으로 하는 트렌지스터 제조 방법
23 23
제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 소스 및 드레인 전극은 동심원을 이루면서 이격되는 것을 특징으로 하는 트렌지스터 제조 방법
24 24
기판; 상기 기판에 마련되는 게이트: 상기 게이트에 형성되는 표면에너지가 45 mJ/㎥ 이상인 친수성 절연막; 상기 절연막에 형성되는 소스와 드레인 전극; 및 상기 소스와 드레인 전극 사이에 유기 반도체를 비점이 200 ℃ 이상인 용매에 용해시킨 용액을 적하시켜 형성된 결정성 반도체 박막을 포함하는 트렌지스터
25 25
제24항에 있어서, 상기 절연막은 UV-오존 또는 산소 플라즈마 처리된 실리콘 옥사이드 또는 고분자 절연막인 것을 특징으로 하는 트렌지스터
26 26
제24항 또는 제25항에 있어서, 상기 친수성 절연막에 자기조립 단분자막이 형성된 것을 특징으로 하는 트렌지스터
27 27
제26항에 있어서, 상기 자기조립 단분자막은 머켑토프로필트리메톡시실란(MPS)인 것을 특징으로 하는 트렌지스터
28 28
삭제
29 29
제24항에 있어서, 상기 친수성 절연막은 표면에너지가 200 mJ/㎡ 이상인 절연막임을 특징으로 하는 트렌지스터
30 30
제24항 또는 제25항에 있어서, 상기 유기 반도체는 6,13-비스(트리이소프로필실릴에티닐)펜타센인 것을 특징으로 하는 트렌지스터
31 31
제30항에 있어서, 상기 소스 및 드레인 전극은 동심원을 이루면서 이격되는 것을 특징으로 하는 트렌지스터
32 32
삭제
33 33
삭제
34 34
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35 35
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36 36
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1 EP02388841 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
2 US20120104366 US 미국 FAMILY
3 WO2010082724 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
4 WO2010082724 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
5 WO2010082724 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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1 EP2388841 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
2 EP2388841 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
3 US2012104366 US 미국 DOCDBFAMILY
4 WO2010082724 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
5 WO2010082724 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
6 WO2010082724 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 포항공과대학교 산학협력단 나노소재기술개발사업 유연소재용 고경도 내마모성 유기/무기 하이브리드 나노코팅기술