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전면 기판 상부 일부에 형성되는 투명 전극;상기 전면 기판 및 상기 투명 전극 상부에 형성되는 상부 유전체층; 및이차 전자 방출 계수를 향상시키기 위한 금속 나노 입자들을 포함하며, 상기 상부 유전체층 상부에 형성되는 보호막층을 포함하며,상기 보호막층은상기 금속 나노 입자들이 형성된 위치의 상부 면이 돌출되도록 형성되며,상기 금속 나노 입자들은상기 상부 유전체층과 상기 보호막층 사이에 더 형성되며,상기 금속 나노 입자들의 재질은Au, Ag, Al, Cu를 포함하는 전이금속인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 소자
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제1항에 있어서,상기 금속 나노 입자들은20[nm] 내지 500[nm] 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 소자
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제1항에 있어서,상기 금속 나노 입자들은구 형태, 클러스터 형태 및 보우 형태를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 소자
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제1항에 있어서,상기 금속 나노 입자들은공기 분사법에 의해 상기 보호막층에 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 소자
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전면 기판 상부 일부에 투명 전극을 형성하는 단계;상기 전면 기판 및 상기 투명 전극 상부에 상부 유전체층을 형성하는 단계; 및상기 상부 유전체층 상부에 이차 전자 방출 계수를 향상시키기 위한 금속 나노 입자들을 포함하는 보호막층을 형성하는 단계를 포함하며,상기 보호막층을 형성하는 단계는상기 상부 유전체층 상부에 상기 보호막층을 형성하고 그 상부에 상기 금속 나노 입자들을 형성하며 그 상부에 상기 보호막층을 다시 형성하는 것에 의해, 상기 보호막층은 상기 금속 나노 입자들이 형성된 위치의 상부 면이 돌출되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 소자 제조 방법
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제5항에 있어서,상기 보호막층을 형성하는 단계는상기 상부 유전체층 상부에 상기 금속 나노 입자들을 더 형성하고, 그 상부에 상기 보호막층을 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 소자 제조 방법
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제5항에 있어서,상기 보호막층을 형성하는 단계는공기 분사법을 이용하여 상기 보호막층에 상기 금속 나노 입자들을 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 소자 제조 방법
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