| 1 |
1
아래의 화학식 1 로 표시되는 폴리포스파젠계 고분자: [화학식 1] 식 중, R은 CH2CH(CH3)2, CH(CH3)C2H5 또는 C7H7, R'는 CH2COOC2H5 또는 CH(CH3)COOC2H5, R"는 OC2H5, NHCH2COOC2H5, NHCH2COOC7H7, NHCH(CH2CH(CH3)2)COOC2H5 또는 NHCH(CH(CH3)C2H5)COOC2H5 이고, a 와 b 는 각각 0
|
| 2 |
2
(1) 화학식 3으로 표시되는 폴리디클로로포스파젠을 화학식 4로 표시되는 아미노산 에틸에스테르와 1 : 0
|
| 3 |
3
제 2 항에 있어서, 각 단계의 반응 혼합물로부터 생성물을 정제하지 않고 다음 단계의 반응에 사용하는 폴리포스파젠계 고분자의 제조방법
|
| 4 |
4
제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 단계 (1)과 (3)의 반응에서는 테트라하이드로퓨란, 디옥산, 디메틸포름아미드, 클로로포름 및 톨루엔으로 구성된 군에서 선택되는 용매를, 상기 (2)의 반응에서는 아세토니트릴을 반응 용매로 사용하는 폴리포스파젠계 고분자의 제조방법
|
| 5 |
5
제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 아미노메톡시폴리에틸렌글리콜의 분자량이 550 - 2500 인 폴리포스파젠계 고분자의 제조방법
|
| 6 |
6
제 2 항 또는 3항에 있어서, 단계 (3)의 반응이 완료된 후에, 반응 혼합물에 에틸에테르 또는 헥산을 가하여 침전을 생성시키고, 이를 여과하여 얻어지는 고체를 메탄올에 용해시킨 다음, 메탄올과 증류수로 각각 3 - 10일 동안 투석하고 저온 건조하여 순수한 화학식 1 화합물을 회수하는 단계를 추가적으로 포함하는 폴리포스파젠계 고분자의 제조방법
|
| 7 |
7
제 2 항에 있어서, 상기 화학식 4의 아미노산 에틸에스테르 화합물을 염화수소염의 형태로 사용하는 폴리포스파젠계 고분자의 제조방법
|
| 8 |
8
제 2 항에 있어서, 상기 화학식 6 또는 7 화합물을 옥살산염 또는 염화수소염의 형태로 사용하는 폴리포스파젠계 고분자의 제조방법
|
| 9 |
9
제 7 항 또는 제 8 항에 있어서, 트리에틸아민 존재 하에서 반응을 수행하는 폴리포스파젠계 고분자의 제조방법
|
| 10 |
10
제 1 항에 따른 폴리포스파젠계 고분자가 완충용액, 산성용액, 염기성 용액, 염 용액 또는 물에 2 - 30 중량%의 농도로 용해된, 온도 변화에 따라 솔-젤 특성을 나타내는 주입형 의약 전달체용 온도 감응성 하이드로젤
|
| 11 |
10
제 1 항에 따른 폴리포스파젠계 고분자가 완충용액, 산성용액, 염기성 용액, 염 용액 또는 물에 2 - 30 중량%의 농도로 용해된, 온도 변화에 따라 솔-젤 특성을 나타내는 주입형 의약 전달체용 온도 감응성 하이드로젤
|
