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기판 양면 코팅 장치에 있어서,기판의 코팅이 수행되는 챔버 및상기 챔버 내에서 상기 기판의 연속적인 이동이 이루어지도록 상기 챔버의 양측에 대응되게 설치된 제 1 롤링부 및 제 2 롤링부를 포함하되,상기 챔버는상기 기판의 상부면의 표면에 플라즈마를 발생시키는 제 1 플라즈마 생성부 및 상기 기판의 하부면의 표면에 플라즈마를 발생시키는 제 2 플라즈마 생성부를 포함하고,상기 제 1 롤링부 및 제 2 롤링부를 통해 상기 기판을 각각의 상기 제 1 플라즈마 생성부 및 제 2 플라즈마 생성부에 각각 포함되고, 서로 대향하도록 배치된 상부 전극 및 하부 전극 사이로 이동시키는 것인기판 양면 코팅 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 플라즈마 생성부는상기 제 1 플라즈마 생성부의 상부 전극에 가스를 공급하는 제 1 가스 공급부, 상기 제 1 플라즈마 생성부의 상부 전극에 RF 전력을 인가하는 제 1 전원부 및상기 제 1 플라즈마 생성부의 하부 전극에 RF 바이어스(bias)를 제공하는 제 1 RF 바이어스 공급부를 포함하고, 상기 제 1 플라즈마 생성부는상기 공급받은 가스 및 RF 전력을 통해 상기 기판의 상부면의 표면에 상기 플라즈마를 발생시키는 것인 기판 양면 코팅 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 2 플라즈마 생성부의 하부 전극에 가스를 공급하는 제 2 가스 공급부, 상기 제 2 플라즈마 생성부의 하부 전극에 RF 전력을 인가하는 제 2 전원부 및상기 제 2 플라즈마 생성부의 상부 전극에 RF 바이어스를 제공하는 제 2 RF 바이어스 공급부를 포함하고,상기 제 2 플라즈마 생성부는상기 공급받은 가스 및 RF 전력을 통해 상기 기판의 하부면의 표면에 상기 플라즈마를 발생시키는 것인 기판 양면 코팅 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 플라즈마 생성부 및 상기 제 2 플라즈마 생성부는 플라즈마 강화 화학적 증착(PECVD) 공정 방법으로 상기 기판의 상부면과 하부면에 상기 플라즈마를 발생시키는 기판 양면 코팅 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 플라즈마 생성부 및 제 2 플라즈마 생성부를 통과하는 상기 기판을 평평하게 유지시키는 장력 조절부를 더 포함하는 기판 양면 코팅 장치
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제 1 항에 있어서,상기 기판은상기 제 1 플라즈마 생성부의 하부 전극 및 상기 제 2 플라즈마 생성부의 상부 전극으로부터 일정 거리만큼 떨어져 비접촉식으로 이동하는 것인 기판 양면 코팅 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 플라즈마 생성부 및 제 2 플라즈마 생성부 중 하나 이상에 삽입되어 상기 플라즈마의 밀도를 높이는 보조 전극을 더 포함하는 기판 양면 코팅 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 롤링부는 롤 피더(roll feeder)로 구현된 것이고, 상기 제 2 롤링부는 리와인더(rewinder)로 구현된 것인 기판 양면 코팅 장치
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제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 기판은메탈 포일(metal foil), 유리 기판, 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA, polymethyl methacrylate), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET, polyethylene terephthalate), 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN, polyethylene naphthalate), 폴리에테르에테르케톤(PEEK, Polyetheretherketone), 폴리카보네이트(PC, polycarbonate), 폴리이미드(PI, polyimide), 폴리에테르 술폰(PES, polyether sulfone), 폴리아릴라이트(polyarylite) 및 사이클릭 올레핀 코폴리머(COC, cyclic olefin copolymer) 중 하나 이상을 포함하는 것인 기판 양면 코팅 장치
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기판 양면 코팅 장치를 이용한 기판 양면 코팅 방법에 있어서,(a) 기판의 코팅이 수행되는 챔버의 양측에 대응되게 설치된 롤링부에 상기 기판을 배치시키는 단계 및(b) 상기 롤링부를 통해 상기 기판을 이동시키면서 상기 챔버의 제 1 영역에서 상기 기판의 상부면의 표면에 플라즈마를 발생시키고, 상기 챔버의 제 2 영역에서 상기 기판의 하부면의 표면에 플라즈마를 발생시키는 단계를 포함하는 기판 양면 코팅 방법
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제 10 항에 있어서,상기 (b) 단계는상기 제 1 영역 및 제 2 영역에 각각 가스를 공급하는 단계,상기 제 1 영역에 구비된 제 1 플라즈마 생성부의 상부 전극에 RF 전력을 공급하고, 상기 제 1 플라즈마 생성부의 하부 전극에 RF 바이어스를 공급하는 단계 및상기 제 2 영역에 구비된 제 2 플라즈마 생성부의 하부 전극에 RF 전력을 공급하고, 상기 제 2 플라즈마 생성부의 상부 전극에 RF 바이어스를 공급하는 단계를 포함하는 기판 양면 코팅 방법
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제 10 항에 있어서,상기 (b) 단계는,상기 제 1 영역 및 제 2 영역에 공급된 가스 및 RF 전력을 통해 상기 기판의 상부면 및 하부면에 상기 플라즈마를 발생시키는 기판 양면 코팅 방법
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제 10 항 내지 제 12 항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 기판은메탈 포일(metal foil), 유리 기판, 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA, polymethyl methacrylate), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET, polyethylene terephthalate), 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN, polyethylene naphthalate), 폴리에테르에테르케톤(PEEK, Polyetheretherketone), 폴리카보네이트(PC, polycarbonate), 폴리이미드(PI, polyimide), 폴리에테르 술폰(PES, polyether sulfone), 폴리아릴라이트(polyarylite) 및 사이클릭 올레핀 코폴리머(COC, cyclic olefin copolymer) 중 하나 이상을 포함하는 것인 기판 양면 코팅 방법
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