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파우더형 광촉매에 에너지 1MeV 내지 5MeV 범위의 전자빔 가속기를 이용하여 전자빔을 조사하여 상기 광촉매의 표면을 개질하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는, 휘발성 유기화합물 제거용 촉매의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 광촉매는 이산화티타늄(TiO2), 산화아연(ZnO), 산화주석(SnO2), 산화텅스텐(WO3), 황화카드늄(CdS), 황화아연(ZnS), 카드뮴 셀레나이드(CdSe), 아연 셀레나이드(ZnSe), 카드뮴 텔루라이드(CdTe) 중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는, 휘발성 유기화합물 제거용 촉매의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 전자빔 가속기의 에너지 흡수량은 5KGy 내지 100KGy 범위인 것을 특징으로 하는, 휘발성 유기화합물 제거용 촉매의 제조방법
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제2항에 있어서, 상기 단계는 대기압 조건 하에서 수행되는 것을 특징으로 하는, 휘발성 유기화합물 제거용 촉매의 제조방법
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제1항, 제2항, 제4항 또는 제5항 중 어느 한 항에 따른 방법으로 제조되는 것을 특징으로 하는, 휘발성 유기화합물 제거용 촉매
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제6항에 있어서, 상기 휘발성 유기화합물 제거용 촉매에는 Fe, Cu, Co, Ni, Cr, V, Mn, Mo, Nb, W, Ru, Pt 및 Au와 같은 전이금속 중 어느 하나 이상 또는 N, C, S과 같은 비금속 음이온 중 어느 하나 이상이 도핑되는 것을 특징으로 하는, 휘발성 유기화합물 제거용 촉매
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(1) 제1항, 제2항, 제4항 또는 제5항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 휘발성 유기화합물 제거용 촉매를 제조하는 단계; 및(2) 상기 휘발성 유기화합물 제거용 촉매를 이용하여 휘발성 유기화합물을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 휘발성 유기화합물 제거 방법
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제8항에 있어서, 상기 (2) 단계는 자외선 및 가시광선 중 어느 하나 이상이 조사됨으로써 수행되는 것을 특징으로 하는, 휘발성 유기화합물 제거 방법
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