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하기 화학식 1로 표현되는 화합물, 하기 화학식 2로 표현되는 화합물, 그리고 하기 화학식 1로 표현되는 화합물과 하기 화학식 2로 표현되는 화합물의 복합체 중 어느 하나 이상의 촉매 물질을 포함하는 수소발생 반응용 촉매
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제1항에 있어서,상기 화학식 1로 표현되는 화합물과 화학식 2로 표현되는 화합물의 복합체의 각 화합물의 함량비가 9:1 내지 6:4인 것을 특징으로 하는 수소발생 반응용 촉매
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제1항에 있어서,상기 촉매 물질은 표면에 Hf-O 화합물 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 수소발생 반응용 촉매
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제1항에 있어서,상기 촉매 물질은 표면에 Hf-S-O 화합물 층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수소발생 반응용 촉매
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5
제1항에 있어서,상기 촉매 물질은 분말 또는 벌크상인 것을 특징으로 하는 수소발생 반응용 촉매
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6
제5항에 있어서,상기 벌크상은 단결정 또는 열처리에 의해 제조되는 소결물인 것을 특징으로 하는 수소발생 반응용 촉매
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7
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 수소발생 반응용 촉매를 포함하는 전극
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8
제7항에 따른 전극, 상대전극 및 전해질 또는 이온화액체를 포함하는 것을 특징으로 하는 수소발생 반응 장치
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9
제8항에 있어서,상기 전해질은 질산, 염산, 황산으로 이루어진 군에서 선택된 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 수소발생 반응 장치
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10
제8항에 있어서,상기 상대전극은 wire, mesh, coil로 이루어진 군에서 선택된 1종의 형태로 제조되는 것을 특징으로 하는 수소발생 반응 장치
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11
(a) 파우더, 고분자, 물 및 알코올을 혼합하여 분산하는 단계;(b) 단계 (a)에서 얻어진 분산액을 비정질 탄소전극의 표면에 코팅하는 단계;를 포함하며,상기 파우더는 하기 화학식 1로 표현되는 화합물, 하기 화학식 2로 표현되는 화합물, 그리고 하기 화학식 1로 표현되는 화합물과 하기 화학식 2로 표현되는 화합물의 복합체 중 어느 하나 이상의 촉매 물질을 포함하고, 상기 고분자는 폴리트리플루오로스티렌 술폰산(Polytrifluorostyrene sulfonic acid), 폴리플로렌(Polyfluorenes), 폴리파이렌(Polypyrenes), 폴리아즐렌(Polyazulenes)으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 전극 제조방법
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제11항에 있어서,상기 분산은 초음파처리기에서 20 분 내지 2 시간 동안 이루어지는 것을 특징으로 하는 전극 제조방법
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제11항에 있어서,상기 단계(b)는 스핀코팅(spin coating), 드랍 앤 드라잉(Drop and drying) 또는 디핑 코팅(dipping coating) 방법에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 전극 제조방법
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제11항, 제13항 및 제14항 중 어느 한 항에 따른 전극 제조방법으로 제조되는 전극
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제15항 따른 제조방법에 의해 제조되는 전극, 상대전극 및 전해질 또는 이온화액체를 포함하는 것을 특징으로 하는 수소발생 반응 장치
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제16항에 있어서,상기 전해질은 질산, 염산, 황산으로 이루어진 군에서 선택된 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 수소발생 반응 장치
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제16항에 있어서,상기 상대전극은 wire, mesh, coil로 이루어진 군에서 선택된 1종의 형태로 제조되는 것을 특징으로 하는 수소발생 반응 장치
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