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챔버 전체를 포집 유닛으로 이용하는 나노입자 제조 장치 및 나노 입자 제조 방법

  • 기술번호 : KST2014055936
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 이온화된 기체인 플라즈마를 사용하여 나노 입자 제조를 위한 타겟 원자를 스퍼터링함과 동시에 챔버 전체를 이용하여 클러스터화시킴으로써 나노 입자를 제조할 수 있는 챔버 전체를 포집 유닛으로 이용하는 나노 입자 제조 장치 및 나노 입자 제조 방법에 관한 것이다.본 발명에 따르는 챔버 전체를 포집 유닛으로 이용하는 나노 입자 제조 방법은, 원료 소재 공급 유닛이 챔버 내부에 원료 소재 타겟을 투입하는 단계; 챔버 내부의 일부가 잠기도록, 챔버 내부로 액상 용매를 주입하는 단계; 진공 형성부를 이용하여 챔버의 공기를 배출시켜 진공으로 유지시키는 단계; 기체 주입부를 이용하여 플라즈마 형성용 기체를 챔버 내부로 주입하는 단계; 챔버 내부에 플라즈마를 발생시켜 원료 소재 타겟을 스퍼터링하는 단계; 및 발생된 원료 소재 클러스터가 포집된 액상 용매를 액상 용매 배출관을 통해 챔버 외부로 배출시키는 단계를 포함한다.
Int. CL B01J 19/08 (2006.01) B82B 3/00 (2006.01)
CPC B82B 3/0004(2013.01) B82B 3/0004(2013.01) B82B 3/0004(2013.01) B82B 3/0004(2013.01)
출원번호/일자 1020110090524 (2011.09.07)
출원인 전자부품연구원
등록번호/일자 10-1334195-0000 (2013.11.22)
공개번호/일자 10-2013-0027144 (2013.03.15) 문서열기
공고번호/일자 (20131128) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.09.07)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 홍성제 대한민국 경기도 군포시
2 김영석 대한민국 경기도 성남시 분당구
3 김종웅 대한민국 서울특별시 은평구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 홍순우 대한민국 서울특별시 서초구 서초중앙로 **, 영진벤처빌딩 *층 (서초동)(라온국제특허법률사무소)
2 김해중 대한민국 서울특별시 서초구 서초중앙로 **, 영진벤처빌딩 *층 라온국제특허법률사무소 (서초동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 경기도 성남시 분당구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2011.09.07 수리 (Accepted) 1-1-2011-0698188-62
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2012.10.23 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2012.11.22 수리 (Accepted) 9-1-2012-0088073-12
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.03.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0214926-59
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.17 수리 (Accepted) 4-1-2013-0013766-37
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2013.05.28 수리 (Accepted) 1-1-2013-0471017-31
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.06.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0581495-33
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.06.28 수리 (Accepted) 1-1-2013-0581479-13
9 등록결정서
Decision to grant		 2013.11.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0807058-86
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
나노 분말 스퍼터링을 위한 원료 소재를 챔버 내에 투입하는 원료 소재 공급 유닛; 및상기 원료 소재 공급 유닛의 출구와 인접하게 배치되어 회전가능한 원통형 챔버로 구성되고, 스퍼터링에 의해 원료 소재 타겟을 기상화하여 나노 분말을 제조하는 나노 분말 포집 유닛을 포함하고,원통형 챔버로 구성된 상기 나노 분말 포집 유닛은,상기 챔버 내부에 구성되어, 원료 소재 타겟의 스퍼터링을 위한 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 형성부;상기 챔버 내부에 구성되어, 나노 입자 클러스터의 이동을 액상 용매로 유도하는 그라운드;상기 챔버 내부에 진공을 형성하기 위한 진공 형성부; 및플라즈마를 발생시키기 위해 필요한 기체를 상기 챔버 내에 공급하는 기체 투입부를 포함하고,상기 플라즈마 형성부, 그라운드, 진공 형성부 및 기체 투입부는 상기 챔버의 회전에 따라 함께 회전하고,상기 원통형 챔버의 내부의 일부는 스퍼터링되어 발생한 나노 입자 클러스터를 포집하는 액상 용매로 채워지는 것을 특징으로 하는챔버 전체를 포집 유닛으로 이용하는 나노입자 제조 장치
2 2
삭제
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 원료 소재 타겟은 100㎚ ~ 1㎜의 직경을 갖는 금속 또는 세라믹인 것을 특징으로 하는챔버 전체를 포집 유닛으로 이용하는 나노입자 제조 장치
4 4
제 1 항에 있어서, 획득되는 상기 나노 분말은직경이 10㎚ ~ 100㎚인 것을 특징으로 하는챔버 전체를 포집 유닛으로 이용하는 나노입자 제조 장치
5 5
원료 소재 공급 유닛이 원통형 챔버로 구성된 나노 분말 포집 유닛에 원료 소재 타겟을 투입하는 단계;상기 챔버 내부의 일부가 잠기도록, 상기 챔버 내부로 액상 용매를 주입하는 단계;진공 형성부를 이용하여 상기 챔버의 공기를 배출시켜 진공으로 유지시키는 단계;기체 주입부를 이용하여 플라즈마 형성용 기체를 상기 챔버 내부로 주입하는 단계;상기 챔버 내부에 플라즈마를 발생시켜 원료 소재 타겟을 스퍼터링하는 단계;발생된 원료 소재 클러스터가 포집된 액상 용매를 액상 용매 배출관을 통해 챔버 외부로 배출시키는 단계를 포함하고,상기 챔버의 공기를 배출시켜 진공으로 유지시키는 단계는,상기 액상 용매가 상기 챔버의 내벽을 따라 흐르도록 상기 챔버를 회전시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는챔버 전체를 포집 유닛으로 이용하는 나노 입자 제조 방법
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삭제
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제 5 항에 있어서, 상기 액상 용매는 계면 활성제 또는 분산제 등을 포함하는 것을 특징으로 하는챔버 전체를 포집 유닛으로 이용하는 나노 입자 제조 방법
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제5항에 있어서,상기 챔버는 10-4torr인 것을 특징으로 하는챔버 전체를 포집 유닛으로 이용하는 나노 입자 제조 방법
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패밀리정보가 없습니다
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