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저압 실시간 나노입자 크기분포 분석 및 모니터링 장치

  • 기술번호 : KST2014059556
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 입자측정장치 및 방법에 관한 것으로, 입자측정장치는 분리 가능한 3개의 챔버를 이용하여 기체의 입자를 측정하는 입자측정부, 상기 입자측정부를 고정시키는 테이블, 상기 입자측정부와 상기 테이블을 지지하며 높낮이 조절이 가능한 지지 부재를 포함하되, 상기 입자측정부는 상기 지지 부재에 탈착이 가능하며, 상기 입자측정부는 공정 환경의 압력이 설정된 기준 압력 이상인지 여부, 유입되는 입자가 대전된 입자인지 여부에 따라 상기 3개의 챔버를 선택적으로 결합 또는 분리하여 상기 입자를 측정할 수 있다.
Int. CL G01N 21/47 (2006.01) G01N 15/14 (2006.01)
CPC G01N 15/1425(2013.01) G01N 15/1425(2013.01) G01N 15/1425(2013.01)
출원번호/일자 1020120035140 (2012.04.04)
출원인 성균관대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1345781-0000 (2013.12.20)
공개번호/일자 10-2013-0112619 (2013.10.14) 문서열기
공고번호/일자 (20131227) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.04.04)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최후미 대한민국 경기 수원시 장안구
2 김동빈 대한민국 경기 고양시 일산동구
3 김태성 대한민국 경기 수원시 장안구
4 강상우 대한민국 대전 유성구
5 신용현 대한민국 대전 유성구
6 윤석래 대한민국 서울 성동구
7 이규찬 대한민국 대전 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인엠에이피에스 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로*길 **, *층 (역삼동, 한동빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 경기도 수원시 장안구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.04.04 수리 (Accepted) 1-1-2012-0271209-20
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090770-53
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.06.20 수리 (Accepted) 4-1-2012-5131828-19
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.06.27 수리 (Accepted) 4-1-2012-5137236-29
5 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2012.12.13 수리 (Accepted) 1-1-2012-1037722-32
6 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.02.01 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
7 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.03.07 수리 (Accepted) 9-1-2013-0012662-25
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.06.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0420341-82
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.08.19 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0749466-15
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.08.19 수리 (Accepted) 1-1-2013-0749445-56
11 등록결정서
Decision to grant		 2013.12.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0875786-23
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.02.23 수리 (Accepted) 4-1-2017-5028829-43
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
입자측정장치에 있어서,분리 가능한 3개의 챔버를 이용하여 기체의 입자를 측정하는 입자측정부,상기 입자측정부를 고정시키는 테이블, 및상기 입자측정부와 상기 테이블을 지지하며 높낮이 조절이 가능한 지지 부재를 포함하되,상기 입자측정부는 상기 지지 부재에 탈착이 가능하며, 상기 입자측정부는 공정 환경의 압력이 설정된 기준 압력 이상인지 여부, 유입되는 입자가 대전된 입자인지 여부에 따라 상기 3개의 챔버를 선택적으로 결합 또는 분리하여 상기 입자를 측정하는 입자측정장치
2 2
제1항에 있어서,상기 입자측정부는,분리 가능하며 상호 직렬로 연결되는 제1 챔버, 제2 챔버 및 제3챔버,상기 제1 챔버와 제2 챔버를 구획하며, 상기 기체가 통과하도록 관통구멍이 형성된 제1 스키머,상기 제2 챔버와 상기 제3 챔버를 구획하며, 상기 기체가 통과하도록 관통구멍이 형성된 제2 스키머,상기 제2 챔버 내에 설치되어 상기 기체의 입자를 대전시키는 입자대전부,상기 제3 챔버 내에 설치되어 전기장을 형성하여 상기 대전된 입자의 진행경로를 변경시키는 입자전향부, 및상기 입자전향부에서 진행경로가 변경된 입자들이 입사되는 위치에 설치되고, 상기 입자를 계수하는 입자계수부를 포함하는 입자측정장치
3 3
제2항에 있어서,상기 기체를 집속 및 가속하여 상기 제1 챔버로 분출하는 입자집속가속부를 더 포함하는 입자측정장치
4 4
제3항에 있어서,상기 입자집속가속부는,상기 기체가 주입되는 관체, 및상기 관체의 내부에 배열되어 상기 관체로 진입한 기체를 집속, 가속시키는 적어도 하나 이상의 렌즈를 포함하되,상기 렌즈는 측정 대상이 되는 공정의 환경에 따라 교체형 또는 카메라 셔터 타입 등으로 변경 가능한 입자측정장치
5 5
제2항에 있어서,상기 기체를 가속하여 상기 제3 챔버로 주입하는 노즐을 더 포함하는 입자측정장치
6 6
제2항에 있어서,상기 입자계수부는,입자를 포집하는 포집기, 및상기 포집기에 포집된 입자를 계수하는 계수기를 포함하되,상기 계수기는 상기 기체의 입자가 발생했는지 여부를 판단하는 모니터링 기능과, 상기 입자의 크기/농도 분포를 측정하는 측정 기능을 수행하는 입자측정장치
7 7
제2항에 있어서,상기 입자전향부는,상기 기체의 유동 방향에 대하여 45도 각도로 배치되고, (+) 또는 (-)전압이 인가되며 메쉬 형태인 제1 금속판과,상기 제1 금속판의 상/하부에 상기 제1 금속판과 동일한 각도로 배치되고, 접지되며, 메쉬 형태인 제2 금속판 쌍을 포함하는 입자측정장치
8 8
분리 가능한 3개의 챔버를 포함하는 입자측정장치를 이용한 입자측정방법에 있어서,(a) 유입되는 입자가 하전된 입자인지 여부를 판단하는 단계,(b) 공정 환경의 압력이 설정된 기준 압력 이상인지 미만인지 여부를 판단하는 단계, 및 (c) 상기 입자의 하전 여부 및 공정 압력이 기준 압력 이상인지 여부에 따라 상호 직렬로 연결된 상기 3개의 챔버를 선택적으로 분리 또는 결합하여 입자를 측정하는 단계를 포함하는 입자측정방법
9 9
제8항에 있어서,상기 (c) 단계에서,상기 입자가 하전된 입자인 경우 상기 3개의 챔버 중 입자를 하전시키는 기능을 수행하는 챔버를 생략하고 상기 입자를 측정하는 입자측정방법
10 10
제8항에 있어서,상기 (c) 단계에서,상기 공정 환경의 압력이 상기 기준 압력 미만이면, 상기 3개의 챔버 중 가장 낮은 압력을 유지하는 챔버를 생략하고 상기 입자를 측정하는 입자측정방법
11 11
제8항에 있어서,상기 (c) 단계는,상기 입자가 하전되지 않은 입자이고 상기 공정 환경의 압력이 상기 기준 압력 이상인 경우,(c-1) 상기 3개의 챔버를 결합하는 단계,(c-2) 상기 3개의 챔버 중 제1 챔버로 입자를 주입하고, 상기 제1 챔버를 통해 제2 챔버로 입자를 주입하는 단계,(c-3) 상기 제2 챔버에서 상기 입자를 대전시키는 단계,(c-4) 제3 챔버에서 상기 입자의 유동 경로에, 상기 유동 경로에 대해 45도 각도로 기울어진 방향으로 전기장을 형성하는 단계, 및(c-5) 상기 전기장에 의해 전향된 입자를 계수하는 단계를 포함하되,상기 제1 챔버로 주입된 입자는 집속, 가속된 기체인 입자측정방법
12 12
제8항에 있어서,상기 (c) 단계는, 상기 입자가 하전되지 않은 입자이고 상기 공정 환경의 압력이 상기 기준 압력 미만인 경우,(c-1) 상기 3개의 챔버 중 제1 챔버를 분리하고, 제2 챔버 및 제3 챔버를 결합시키는 단계,(c-2) 상기 제2 챔버로 입자를 주입하는 단계,(c-3) 상기 제2 챔버에서 상기 입자를 대전시키는 단계,(c-4) 상기 제3 챔버에서 상기 입자의 유동 경로에, 상기 유동 경로에 대해 45도 각도로 기울어진 방향으로 전기장을 형성하는 단계, 및(c-5) 상기 전기장에 의해 전향된 입자를 계수하는 단계를 포함하되,상기 제2 챔버로 주입된 기체는 노즐에 의해 가속된 기체인 입자측정방법
13 13
제8항에 있어서,상기 (c) 단계는,상기 입자가 하전된 입자이고 상기 공정 환경의 압력이 상기 기준 압력 이상인 경우, (c-1) 상기 3개의 챔버 중 입자를 하전시키는 제2챔버를 분리하고, 제1 챔버 및 제3 챔버를 결합하는 단계,(c-2) 상기 제1 챔버를 통해 상기 제3 챔버로 입자를 주입하는 단계,(c-3) 상기 제3 챔버에서 상기 입자의 유동 경로에, 상기 유동 경로에 대해 45도 각도로 기울어진 방향으로 전기장을 형성하는 단계, 및(c-4) 상기 전기장에 의해 전향된 입자를 계수하는 단계를 포함하는 입자측정방법
14 14
제8항에 있어서,상기 (c) 단계는,상기 입자가 하전된 입자이고 상기 공정 환경의 압력이 상기 기준 압력 미만인 경우, (c-1) 상기 3개의 챔버 중 제3 챔버로부터 저압력을 유지하는 제1 챔버를 분리하고, 입자를 하전시키는 제2 챔버를 분리하는 단계,(c-2) 상기 제3 챔버로 입자를 주입하는 단계,(c-3) 상기 제3 챔버에서 상기 입자의 유동 경로에, 상기 유동 경로에 대해 45도 각도로 기울어진 방향으로 전기장을 형성하는 단계, 및(c-4) 상기 전기장에 의해 전향된 입자를 계수하는 단계를 포함하는 입자측정방법
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1 교육과학기술부 성균관대학교 산학협력단 신기술융합형성장동력사업 1단계 실시간 나노입자 복합특성 측정을 위한샘플링, 집속, 분류, 포집 기술 개발