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플라즈마 포커스 장치

  • 기술번호 : KST2014062551
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 금속 물질이나 다성분 산화물을 증착하거나 도핑시키는 데 사용하는 플라즈마 포커스 장치에 관한 것이다. 본 장치의 내부 전극의 전단에는 타겟이 결합되는데, 타겟 결합시 타겟의 전면부가 모두 노출되도록 하거나, 내부 전극 앞 부분에 조리개를 설치하거나, 외부 전극을 제거하거나, 오프-액시스(off-axis) 방법을 단독으로 또는 둘 이상 조합하여 사용함으로써, 내부 전극 및 외부 전극으로부터 비롯된 오염 물질이 기판에 증착되거나 도핑되는 것을 방지한다. 플라즈마 포커스, 캐패시터 뱅크, 쥬도 스파크 갭, 금속, 세라믹스 증착
Int. CL H01L 21/205 (2006.01)
CPC H01J 37/32642(2013.01)
출원번호/일자 1020070014547 (2007.02.12)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0813694-0000 (2008.03.07)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20080314) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.02.12)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이전국 대한민국 경기도 성남시 분당구
2 이재갑 대한민국 서울 노원구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2007.02.12 수리 (Accepted) 1-1-2007-0129125-89
2 등록결정서
Decision to grant		 2008.03.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0119822-96
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
전단에 타겟과의 결합을 위한 결합 부재가 설치된 내부 전극과,상기 내부 전극과 절연되도록 상기 내부 전극 주위에 동축(同軸)으로 설치된 외부 전극과,상기 내부 전극과 외부 전극에 전원을 인가하는 전원공급부와,플라즈마 핀치 효과에 의해 타겟으로부터 분리된 물질이 증착 또는 도핑되는 기판을 지지하는 기판지지대를 포함하는 플라즈마 포커스 장치
2 2
통공이 형성된 판형의 전극 지지 플랜지와,상기 전극 지지 플랜지의 통공을 관통하여 설치되며, 전단에 타겟과의 결합을 위한 결합 부재가 마련된 내부 전극과,상기 내부 전극이 상기 전극 지지 플랜지와 절연되도록 상기 내부 전극의 외면을 감싸는 절연체와,상기 내부 전극과 전극 지지 플랜지에 전원을 인가하는 전원공급부와,플라즈마 핀치 효과에 의해 타겟으로부터 분리된 물질이 증착 또는 도핑되는 기판을 지지하는 기판지지대를 포함하는 플라즈마 포커스 장치
3 3
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 결합 부재는 타겟의 전면(前面)이 모두 노출 가능하도록 타겟의 후면(後面)과 나사 체결되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 포커스 장치
4 4
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 내부 전극의 앞 부분에 설치되며, 타겟으로부터 분리된 물질만 통과시키는 구멍이 형성된 조리개를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 포커스 장치
5 5
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 내부 전극의 중심축과 상기 기판지지대의 수직축은 예각을 이루는 것을 특징으로 하는 플라즈마 포커스 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.