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금속염으로서 아세트산 코발트 또는 황산 코발트를 포함하고, 환원제로서 차아인산나트륨을 포함하는 자기 촉매형 코발트-인 도금액으로서, 상기 도금액에 의한 합금 피막은 두께가 30 내지 100nm이며, 인의 공석량은 3 내지 10wt%이고, 코발트의 공석량은 90 내지 97wt%인 것을 특징으로 하는, 자기 촉매형 코발트-인 도금액
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제1항에 있어서, 상기 도금액은 착화제로서 락트산 및 시트린산 나트륨을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 자기 촉매형 코발트-인 도금액
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제2항에 있어서, 상기 도금액은 자기 촉매 반응을 위한 첨가제로서 DMAB(dimethyl amine borane) 또는 TMAB(trimethyl amine borane)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 자기 촉매형 코발트-인 도금액
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제3항에 있어서, 상기 도금액은 pH 안정제로 보릭산(Boric Acid)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 자기 촉매형 코발트-인 도금액
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제3항에 있어서, 상기 아세트산 코발트의 농도는 10 내지 20g/ℓ이며, 상기 황산 코발트의 농도는 5 내지 10g/ℓ이며, 상기 차아인산나트륨의 농도는 20 내지 40g/ℓ인 것을 특징으로 하는, 자기 촉매형 코발트-인 도금액
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제3항에 있어서, 상기 락트산의 농도는 5 내지 10g/ℓ이며, 상기 시트린산 나트륨의 농도는 5 내지 20g/ℓ인 것을 특징으로 하는, 자기 촉매형 코발트-인 도금액
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제3항에 있어서, 상기 DMAB 또는 상기 TMAB의 농도는 1
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제4항에 있어서, 상기 보릭산의 농도는 25 내지 35g/ℓ인 것을 특징으로 하는, 자기 촉매형 코발트-인 도금액
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제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 자기 촉매형 코발트-인 도금액을 사용하여 구리 표면 상에 구리의 확산 및 산화를 방지하기 위한 도금층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 무전해 도금 공정
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제9항에 있어서, 상기 무전해 도금 공정은 50 내지 90℃의 온도 범위 및 6 내지 10의 pH 범위에서 수행되는 것을 특징으로 하는,무전해 도금 공정
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제10항에 있어서, 상기 무전해 도금 공정은 팔라듐 활성화 처리 공정 없이 구리 표면 상부에 직접 수행되는 것을 특징으로 하는, 무전해 도금 공정
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제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 자기 촉매형 코발트-인 도금액에 의하여 구리 표면 상에 도금되는 것을 특징으로 하는,코발트-인 합금 피막
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