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급속열처리 공정을 이용한 동피막의 저항 감소 방법

  • 기술번호 : KST2014065038
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 금속염, 착화제, 환원제, pH조정제 및 촉매를 포함하고 추가적으로 안정제, 가속제, 광택제 및 계면활성제 등을 포함할 수 있는 무전해 동도금액을 이용하여 무전해 도금을 실시하여 동피막을 형성하고, 형성된 동피막에 대하여 일정 조건, 시간 및 온도로 급속열처리(annealing)함으로써, 배선적용 물질의 주요 요구특성인 저항을 감소시킬 수 있는 급속열처리 공정을 이용한 동피막의 저항 감소 방법에 관한 것이다.
Int. CL C21D 1/773 (2006.01) C23C 22/82 (2006.01) C23C 18/40 (2006.01)
CPC C23C 18/40(2013.01) C23C 18/40(2013.01) C23C 18/40(2013.01) C23C 18/40(2013.01)
출원번호/일자 1020100132118 (2010.12.22)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-1219586-0000 (2013.01.02)
공개번호/일자 10-2012-0070695 (2012.07.02) 문서열기
공고번호/일자 (20130108) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.12.22)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이홍기 대한민국 인천광역시 연수구
2 허진영 대한민국 서울특별시 양천구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 손민 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, *층(문정동)(특허법인한얼)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 대한민국(산업통상자원부장관) 세종특별자치시 한누리대
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.12.22 수리 (Accepted) 1-1-2010-0846444-05
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.03.06 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.02 수리 (Accepted) 4-1-2012-5068733-13
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.04.13 수리 (Accepted) 9-1-2012-0027743-31
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090658-47
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.08.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0462674-19
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.10.09 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0819100-51
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.10.09 수리 (Accepted) 1-1-2012-0819097-01
9 등록결정서
Decision to grant
2012.12.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0773454-87
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2013-5017806-08
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(a) 구리염, 구리이온과 리간드를 형성하여 액상반응을 억제하는 착화제, 구리이온을 환원시키는 환원제, 상기 환원제가 산화되도록 하는 pH 조절제 및 촉매를 포함하는 무전해 동도금액을 이용하여 무전해 도금을 실시하는 단계; 및(b) 상기 (a) 단계를 통하여 형성된 동도금층에 10-5mbar 내지 10-3mbar의 진공 조건 및 200℃ 내지 500℃의 온도 범위에 10분 내지 60분 동안 급속열처리를 실시하여 저항을 감소시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는, 동 피막 형성 방법
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서, 상기 (a) 단계에서의 무전해 도금 공정은 20℃ 내지 40℃의 온도 범위 및 10 내지 13
5 5
제1항 또는 제4항에 있어서, 상기 무전해 동도금액은, 상기 구리염으로서 황산구리 5수화물, 상기 착화제로서 롯셀염(Rochelle Salt), 상기 환원제로서 포르말린, 상기 pH 조절제로서 수산화나트륨 및 상기 촉매로서 염화니켈 6수화물을 포함하는 것을 특징으로 하는, 동 피막 형성 방법
6 6
제5항에 있어서, 상기 황산구리 5수화물의 농도는 5 내지 30g/l이며, 상기 포르말린의 농도는 1 내지 50 ml/l이며, 상기 롯셀염의 농도는 1 내지 100g/l이며, 상기 수산화나트륨의 농도는 1 내지 50 g/l이며, 상기 염화니켈 6수화물의 농도는 1 내지 30g/l인 것을 특징으로 하는, 동 피막 형성 방법
7 7
제5항에 있어서, 상기 무전해 동도금액은 안정제를 더 포함하고 상기 안정제는 소듐씨오설페이트 및 2,2’-비피리딜 중 어느 하나 이상이며,상기 안정제의 농도는 1 내지 50ppm인 것을 특징으로 하는,동 피막 형성 방법
8 8
제5항에 있어서, 상기 무전해 동도금액은 촉진제로서 탄산나트륨을 더 포함하고, 상기 탄산나트륨의 농도는 1 내지 50 g/l인 것을 특징으로 하는, 동 피막 형성 방법
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제5항에 있어서, 상기 무전해 동도금액은, 양이온성 계면활성제 및 음이온성 계면활성제 중 어느 하나 이상을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 동 피막 형성 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업자원부 한국과학기술연구원 소재원천기술개발사업 초임계 박막 제어기술 개발
2 지식경제부 한국반도체조합 산업원천기술개발사업 초미세 고신뢰성 배선기술 연구